小角X射線散射為一種與X射線大角(2θ從5 ~165 度)衍射有所不同的結(jié)構(gòu)分析方法。通過X射線對樣品進(jìn)行照射,相應(yīng)的散射角2θ比較小,只有5-7度,此就稱為X射線小角散射。對粒度在幾十個(gè)納米以下超細(xì)粉末粒子(或固體物質(zhì)中的超細(xì)空穴)的大小、形狀及分布加以測定以及對分析特大晶胞物質(zhì)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析,即為X射線小角散射的用途。對于高分子材料而言,能夠測量玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,能夠分析共混的高聚物相結(jié)構(gòu)以及能夠?qū)Ω叻肿恿W踊蚩障洞笮『托螤钸M(jìn)行測量。小角X射線散射儀是基于小角X射線散射技術(shù)的儀器。
介紹
小角X射線散射(SAXS)指的是當(dāng)X射線從試樣透過時(shí),有散射現(xiàn)象在接近原光束2~5度的小角度范圍內(nèi)發(fā)生。在X射線透射光附近炭黑和各種亞微觀大小的微粒有連續(xù)散射現(xiàn)象早出現(xiàn)于1930年就被Krishnamurti觀察到。
小角X射線散射在研究材料微觀結(jié)構(gòu)時(shí),受到了越來越多地應(yīng)用,并且研究趨勢一年一年地增長。物質(zhì)的長周期、準(zhǔn)周期結(jié)構(gòu)、界面層以及呈無規(guī)則分布的納米體系利用小角X 射線散射技術(shù)進(jìn)行表征。測定。合金中的非均勻區(qū)(GP區(qū))和沉淀析出相尺寸分布、金屬和非金屬納米粉末、膠體溶液、生物大分子以及各種材料中所形成的納米級微孔也是小角X射線散射的用途。學(xué)者們已經(jīng)越來越對非晶合金加熱過程的晶化和相分離的小角X射線散射研究加以關(guān)注。對小角X射線散射技術(shù)的了解使材料研究得以促進(jìn)的研究的意義非常的重大。
金屬的缺陷
金屬從比較高的溫度淬火或者經(jīng)過輻照使空位聚集產(chǎn)生,會使相當(dāng)強(qiáng)的小角散射引起。因?yàn)榭锥大w系與粒子體系為互補(bǔ)體系,兩者會產(chǎn)生相同的散射。部分地退在306~319攝氏度會消除掉退火空洞,會快速地增大旋轉(zhuǎn)半徑,然而小于306度時(shí),空洞還是十分地穩(wěn)定的。
全部評論(0條)
①本文由儀器網(wǎng)入駐的作者或注冊的會員撰寫并發(fā)布,觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表儀器網(wǎng)立場。若內(nèi)容侵犯到您的合法權(quán)益,請及時(shí)告訴,我們立即通知作者,并馬上刪除。
②凡本網(wǎng)注明"來源:儀器網(wǎng)"的所有作品,版權(quán)均屬于儀器網(wǎng),轉(zhuǎn)載時(shí)須經(jīng)本網(wǎng)同意,并請注明儀器網(wǎng)(www.sdczts.cn)。
③本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明來源的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)或證實(shí)其內(nèi)容的真實(shí)性,不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
④若本站內(nèi)容侵犯到您的合法權(quán)益,請及時(shí)告訴,我們馬上修改或刪除。郵箱:hezou_yiqi
等離子切割機(jī)設(shè)備維護(hù)與排故
參與評論
登錄后參與評論