輝光放電光譜技術(shù)是一種分析技術(shù)，其能夠直接對(duì)固體樣品進(jìn)行分析。材料的基板分析為其Z早的應(yīng)用領(lǐng)域。這些年以來(lái)，輝光深度剖面分析技術(shù)在材料表面分析領(lǐng)域得到了廣泛地應(yīng)用，人們對(duì)此技術(shù)也越來(lái)越看重。輝光放電光譜儀相比于俄歇(AES)、二次離子質(zhì)譜(SIMS)等其他的表面分析儀器，盡管原子水平的表層分析不能進(jìn)行，然而其在表層和深度部面分析方面具有非常顯著的優(yōu)勢(shì)，其又較為便宜的價(jià)格，能夠非常迅速地分析和十分方便地定量。在國(guó)外的工廠、實(shí)驗(yàn)室及研究ZX得到了非常廣泛的應(yīng)用。新材料的研究開(kāi)發(fā)和產(chǎn)品的質(zhì)量控制為該技術(shù)的主要用途。

操作規(guī)程

輝光放電光譜儀通常要求長(zhǎng)期開(kāi)機(jī)從而使機(jī)器的穩(wěn)定性得以保持。為了使系統(tǒng)中的氧氣和水的含量足夠低得到確保，光路系統(tǒng)(多色儀和單色儀)需要一直通過(guò)一定流量的高純氮?dú)膺M(jìn)行充洗。

氬氣作為輝光放電光譜儀的工作氣體，在工作開(kāi)始時(shí)，必須首先將氬氣打開(kāi)，再講壓縮空氣(或氮?dú)?打開(kāi)將動(dòng)力提供給氣缸等活動(dòng)部件。

安裝樣品,若表面不夠平整或樣品安裝不當(dāng)造成漏氣,將儀器樣品倉(cāng)門(mén)關(guān)閉以后，會(huì)自動(dòng)彈出樣品，需要對(duì)樣品進(jìn)行重新處理或者更換。

將QUANTUM軟件打開(kāi)，方法選擇合適，所需的大部分參數(shù)包含于方法中，所以檢測(cè)數(shù)據(jù)準(zhǔn)確的關(guān)鍵之處是選擇正確的方法。

對(duì)測(cè)定參數(shù)設(shè)定，要視樣品來(lái)設(shè)定某些參數(shù)，在基體分析時(shí)可以對(duì)測(cè)定次數(shù),預(yù)掃時(shí)間等進(jìn)行設(shè)定。在鍍層分析時(shí)能夠?qū)D形分辨率（也就是每秒記錄次數(shù)）進(jìn)行設(shè)定。

點(diǎn)擊分析，儀器即開(kāi)始分析樣品。