濕法工藝晶圓溫度測量系統 光刻機晶圓溫度測量系統
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荷蘭SCIL全自動納米壓印光刻機
桌上型激光直寫光刻系統Dilase 250
主要優(yōu)勢 ? 小巧桌上型系統 ? 掩膜板制作及激光直寫 ? 375nm 或405nm 激光源 ? 兼容所有光刻膠 ? 高深寬比: 1 x 20
TC Wafer熱電偶晶圓測溫系統 晶圓硅片測溫熱電偶 光刻機晶圓溫度測量系統
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