- 2025-01-20 11:06:35ald原子層
- ALD（原子層沉積）是一種先進(jìn)的薄膜制備技術(shù)，通過在基底表面逐步沉積單原子層來構(gòu)建薄膜。在ALD過程中，“原子層”指的是通過一系列精確控制的化學(xué)反應(yīng)步驟，每次只沉積一層特定的原子。這種方法可以精確控制薄膜的厚度、組成和微觀結(jié)構(gòu)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、催化等領(lǐng)域，用于制造高性能的材料和器件。
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