韓國Nanoscope System NS3500是專門為低維材料研究所研發(fā)的一款高精度激光共聚焦顯微鏡。

采用405nm 紫羅蘭激光作為光源，針孔共焦成像技術，PMT只接收焦點處的圖像信號，非焦點的信號將會被全部隔絕，因此可以極大地提高圖像的清晰度。NS3500采用類似于連續(xù)斷層掃描的方法，在移動Z軸的同時獲得一張張二維的光學切片，再通過特殊的算法將所有的二維切片構建成一張3D 圖像。

NS3500在半導體，芯片，晶圓生產，涂層材料，PCB面板行業(yè)的產品檢測等有著極大的作用。例如在晶圓生產行業(yè)，我們經常需要從一批材料中進行抽樣檢測，這時候無損傷檢測就展示出了極大的優(yōu)勢。當我們使用普通的AFM檢測晶圓的完整度時，我們需要首先將樣品剖開再進行檢測，這種方式檢測速度慢，而且會造成極大的產品浪費。使用NS3500進行檢測的時候只需要將樣品放置在樣品臺上，然后將掃描頭移動到焦點的位置進行測量就可以了，非常地快捷方便。

NS3500獲得的半徑為1.5um 的高清晰3D晶圓圖像（下圖所示），使用NSViewer數據分析處理軟件我們可以獲得晶圓的半徑，高度等大量信息，對于晶圓的表面完整情況可以進行一次快速的分析。相較于AFM可以避免大量的資源及人工浪費，而且也不需要破壞樣品.