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• 2026-04-07 13:15發(fā)布了技術(shù)文章

  利用納米壓印光刻技術(shù)，邁向折射率 2.0 的 AR 光波導（二）

  為了對光柵結(jié)構(gòu)進行圖形化，我們采用了紫外納米壓印光刻技術(shù)，特別是 SmartNIL? 技術(shù)。該工藝基于全晶圓級的復制，因此目標產(chǎn)品的芯片尺寸不受任何限制。這一點對于 AR 眼鏡尤為有利，因為其波導尺寸通常較大，如果使用光學光刻步進機，往往需要進行拼接。

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• 2026-04-07 11:45發(fā)布了行業(yè)資訊

  岱美儀器拿到客戶1臺膜厚測量儀ThetaMetrisis FR-Scanner Ultra的訂單

  此客戶位于動力之都的株洲市，成立于2017年，是一家專業(yè)從事碳基、陶瓷及其高端材料的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高新技術(shù)企業(yè)，率先實現(xiàn)國內(nèi)半導體用Solid SiC刻蝕組件產(chǎn)品量產(chǎn)，擁有高端的技術(shù)、設備和高水平的研發(fā)團隊。

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• 2026-04-07 11:45發(fā)布了技術(shù)文章

  實測案例——晶圓上氮氧化鋰（LiPON）薄膜的表征（二）

  由于鉑層厚度相對較高且具有強光學吸收特性，可將其視為光學上的半無限介質(zhì)，因此在光學模型中作為有效襯底使用。

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• 2026-03-30 18:15發(fā)布了行業(yè)資訊

  岱美收到客戶ThetaMetrisis FR-Scanner-RΘ350HW D UV/NIR訂單一套

  該客戶是韓國最大的半導體清洗涂層企業(yè)，業(yè)務范圍包括生產(chǎn)半導體、顯示領(lǐng)域設備用零部件、清洗涂層業(yè)務、固體氧化物燃料電池等。

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• 2026-03-30 18:15發(fā)布了技術(shù)文章

  實測案例——晶圓上氮氧化鋰（LiPON）薄膜的表征（一）

  ThetaMetrisis 公司的 系列產(chǎn)品專用于測量介電質(zhì)、光刻膠、金屬及半導體薄膜的厚度和光學常數(shù)，其測量厚度范圍為 1 nm 至 5000 μm。FR-tools 的工作原理是基于白光反射光譜技術(shù)，這是一種精確、快速且無損的測量方法，幾乎無需或完全不需要樣品制備。

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• 2026-03-30 18:15發(fā)布了技術(shù)文章

  利用納米壓印光刻技術(shù)，邁向折射率 2.0 的 AR 光波導（一）

  基于衍射光柵波導的增強現(xiàn)實（AR）眼鏡，已成為眾多設備制造商的首選技術(shù)。這類技術(shù)不斷演進，旨在為用戶提供卓越的畫質(zhì)和更大的視場角。然而，視場角（FOV）是衡量此類波導性能的關(guān)鍵指標；若要進一步擴大視場角，就必須提高所用材料的折射率。

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• 2026-03-24 16:45發(fā)布了行業(yè)資訊

  岱美收到客戶ThetaMetrisis FR-Scanner-RΘ350HW D UV/NIR訂單一套

  該客戶是韓國最大的半導體清洗涂層企業(yè)，業(yè)務范圍包括生產(chǎn)半導體、顯示領(lǐng)域設備用零部件、清洗涂層業(yè)務、固體氧化物燃料電池等。

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• 2026-03-24 16:45發(fā)布了技術(shù)文章

  一種可擴展的納米級全介質(zhì)超構(gòu)表面制造技術(shù)：實現(xiàn)從近紅外至可見光波段共振的精確調(diào)控（三）

  綜上所述，我們展示了一種在透明襯底上制備高精度超表面的新型工藝路線，成功實現(xiàn)了共振行為從近紅外到可見光波段的幾何縮放。這些器件結(jié)合可規(guī)模化、兼容批量生產(chǎn)的制造工藝，為充分利用硅基超表面獨特的光學特性在各類應用中的潛力提供了重要契機。

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• 2026-03-17 17:00發(fā)布了行業(yè)資訊

  岱美再次收到老客戶HERZ主動式防振系統(tǒng)AVI400XL/LP以及AVI200XL/LP和低頻感應器共20套訂單

  位于上海市的此客戶，是為量子技術(shù)等全球前沿的科研及應用提供低溫技術(shù)及裝置的開發(fā)、集成、應用、銷售、維修及售后服務的高科技企業(yè)，為中國國內(nèi)絕大多數(shù)從事量子計算研究的大型商用公司及科研小組提供了技術(shù)服務。

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• 2026-03-17 17:00發(fā)布了技術(shù)文章

  一種可擴展的納米級全介質(zhì)超構(gòu)表面制造技術(shù)：實現(xiàn)從近紅外至可見光波段共振的精確調(diào)控（二）

  對于新興的全介質(zhì)超表面領(lǐng)域，如前所述的傳統(tǒng)納米壓印光刻技術(shù)已被成功應用于鈣鈦礦納米光柵與納米孔陣列、亞100納米寬度的氮化硅(SixNy)光柵、外延石英納米柱及多晶硅超透鏡的制備——這些器件大多通過高產(chǎn)能工藝制造。

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• 2026-03-17 17:00發(fā)布了技術(shù)文章

  實測案例——光刻膠對比度曲線的快速精準測定

  采用光刻工藝（193nm、EUV、電子束光刻等）進行納米制造，涉及廣泛的材料、技術(shù)及相關(guān)處理步驟，以生產(chǎn)出定義明確的納米結(jié)構(gòu)。光刻膠的光刻對比度曲線是工藝優(yōu)化中最常用的參數(shù)之一。

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• 2026-03-06 16:45發(fā)布了行業(yè)資訊

  岱美收到客戶ThetaMetrisis FR-Ultra NIR N3晶圓厚度測量系統(tǒng)訂單二套

  該客戶是在上交所主板上市的公司，公司是集功率半導體器件設計研發(fā)、芯片加工、封裝測試及產(chǎn)品營銷為一體的國家級高新技術(shù)企業(yè)，公司經(jīng)科技部、中科院等國家機構(gòu)認證，被列為國家博士后科研工作站、國家知識產(chǎn)權(quán)示范企業(yè)、國家級綠色工廠、CNAS國家認可實驗室

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• 2026-03-06 16:45發(fā)布了技術(shù)文章

  實測案例——SOI 晶圓層厚的快速精準映射

  絕緣體上硅（SOI）晶圓被廣泛用于微電子機械系統(tǒng)（MEMS）和CMOS集成電路的制造。在硅襯底和頂層硅之間使用絕緣層，通過減少電損耗來提升器件性能，優(yōu)于傳統(tǒng)的硅襯底器件。SOI晶圓具有更強的抗輻射能力，使其不易發(fā)生軟錯誤。

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• 2026-03-06 16:45發(fā)布了技術(shù)文章

  一種可擴展的納米級全介質(zhì)超構(gòu)表面制造技術(shù)：實現(xiàn)從近紅外至可見光波段共振的精確調(diào)控（一）

  在納米尺度上構(gòu)建光學元件的能力，為我們開辟了突破衍射極限、更高效調(diào)控光場的全新途徑。在眾多技術(shù)方案中，超構(gòu)表面作為一種新興的平面光學元件，為控制光場提供了前所未有的機遇。

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• 2026-02-27 09:30發(fā)布了行業(yè)資訊

  岱美中國拿到Herzan 1臺測振儀的訂單

  岱美中國拿到Herzan wavecatcher測振儀的訂單?？蛻粑挥谏虾?，國內(nèi)規(guī)模知名的電鏡平臺，平臺主要負責最前沿的電鏡檢測和電鏡維護服務,目前是國內(nèi)的電鏡檢測和服務的平臺之一。

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• 2026-02-27 09:30發(fā)布了技術(shù)文章

  SiC 涂層石墨基座與 YO 抗等離子涂層：先進半導體制造中的關(guān)鍵材料與檢測技術(shù)

  本文將介紹用于金屬有機化學氣相沉積設備中的 SiC 涂層石墨基座，以及用于等離子體腔體防護的 Y?O? 抗等離子涂層，并展示如何通過先進的光學測量系統(tǒng)（ThetaMetrisis FR-Scanner）實現(xiàn)對這類功能涂層的快速、無損、高精度厚度分布測繪。

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