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場發(fā)射和離子濺射儀有什么關(guān)系嗎

JieWu328 2017-06-04 10:29:50 686  瀏覽
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全部評論(1條)

  • iiep70p27hhprt 2017-06-05 00:00:00
    陰極發(fā)光儀和離子濺射儀原理有什么區(qū)別 主要利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面, 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用QL磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化, 造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加, 提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面,這個沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。一般來說,利用濺鍍制程進行薄膜披覆有幾項特點:(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。(2)再適當(dāng)?shù)脑O(shè)定條件下可將多元復(fù)雜的靶材制作出同一組成的薄膜。(3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體,可以制作靶材物質(zhì)與氣體分子的混合物或化合物。(4)靶材輸入電流及濺射時間可以控制,容易得到高精度的膜厚。(5)較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。(6)濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排。(7)基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上,且由于濺射粒子帶有高能量

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一、電子源:

       也稱電子槍,產(chǎn)生連續(xù)不斷的穩(wěn)定的電子流。普通掃描電鏡的電子槍由陰極(燈絲)、柵極和陽極組成。陰極采用能加熱的鎢絲,柵極圍在陰極周圍。被加熱了的鎢絲釋放出電子,并在陽極和陰極之間施加高壓,形成加速電場,從而使電子得到能量——高速飛向(在高真空鏡筒中)樣品。而場發(fā)射電子槍與普通鎢絲電子槍有所不同,陰極呈桿狀,在它的一端有個極鋒利的尖點(直徑小于100nm),尖 端的電場極強,電子直接依靠“隧道”穿過勢壘離開陰極,由加速電壓加速產(chǎn)生高速電子流飛向樣品。一般來說,掃描電鏡加速電壓通常為1——30kV。


二、電子透鏡:

       將從電子槍發(fā)射出來的電子會聚成直徑最小為1——5nm電子束。

  

三、掃描系統(tǒng):

       使電子束作光柵掃描運動。


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二次電子像分辨率 0.8 nm(加速電壓 15 kV),1.0 nm(加速電壓 1 kV )

分析時 3.0 nm (加速電壓 15 kV, WD 8 mm, 探針電流 5 nA ) 

 

倍率 Direct magnification:  x25 to 1,000,000(120 x 90 mm)

Display magnification:  x75 to 3,000,000(1,280 x 960 pixels) 

 

加速電壓 0.1 ~ 30 kV 

 

探針電流 數(shù) pA ~ 200 nA 

 

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自動功能 自動聚焦、自動消象散、自動亮度/襯度調(diào)節(jié) 

 

圖像觀察用

液晶顯示器 屏幕尺寸 23英寸寬屏

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一、場發(fā)射掃描電鏡分辨率高

       在場發(fā)射掃描電鏡中,人們最感興趣的信號是二次電子和背散射電子,這兩種信號的發(fā)射強度隨著樣品表面的形貌和化學(xué)成分而變化。二次電子產(chǎn)區(qū)限于入射電子束射人樣品的附近區(qū)域,從而獲得相當(dāng)高的形貌分辨率,場發(fā)射掃描電鏡(FESEM)的圖像分辨率已經(jīng)優(yōu)于1nm,為納米和亞微米尺度的研究提供了極大的便利。這類電鏡屬于場發(fā)射掃描電鏡的高端產(chǎn)品。


二、場發(fā)射掃描電鏡放大倍率寬

放大倍率與分辨率密切相關(guān),為了獲得高分辨率圖像,必須使用高放大倍率。光鏡放大倍率有限,最 高到1500倍,透射電鏡放大倍率可以高達100萬倍、掃描電鏡放大倍率范圍可以從幾倍至幾十萬倍,三種顯微鏡的放大倍率成為一個系列。在掃描電鏡中,利用低倍觀察樣品的全貌,利用高倍研究樣品的微觀細節(jié)。操作時放大倍率連續(xù)可調(diào),使用非常方便。低倍圖像有光鏡圖像的特點,掃描電鏡圖像比較直觀,容易解釋。高倍圖像可以與相應(yīng)的透射電鏡圖像相比對。


三、場發(fā)射掃描電鏡三維立體效果好

光鏡和透射電鏡圖像景深小,只能觀察樣品某個平面,在深度方向上是模糊的。掃描電鏡圖像景深大,有的電鏡在電子光學(xué)系統(tǒng)上經(jīng)過特殊設(shè)計,可以提供幾十毫米的景深范圍,即一張場發(fā)射掃描電鏡像不僅在X,Y兩個方向上的細節(jié)清晰,而且在圖像深度方向也很清楚。一幅兩維圖像,可以提供三維信息,使人們獲得更多的微觀信息量,適用于表面粗糙樣品的觀察,例如:金屬材料斷口、顆粒樣品的三維形態(tài)分析。利用掃描電鏡樣品臺的同軸心傾斜,可以獲得樣品的立體圖像對(Stereo pairs),經(jīng)合成后,變成立體圖像,使用圖像分析軟件可以準(zhǔn)確測量深度方向的數(shù)據(jù),這是掃描電鏡獨特的性能。





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