資料庫
KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列 資料
本文由 北京燕京電子有限公司 整理匯編
2024-09-15 17:10 1569閱讀次數(shù)
文檔僅可預覽首頁內容，請下載后查看全文信息！
立即下載
法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統(tǒng)，結構緊湊，可以直接放置在實驗臺上，能夠處理Zda直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調整掩膜高度以適應不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預熱，也不需要單獨的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進的設計，保證了光源的準直性和均勻性，其Z小分辨率可達2μm，Zda發(fā)散角小于2°
相關產(chǎn)品
登錄或新用戶注冊
請用手機微信掃描下方二維碼登錄 或注冊新賬號
微信掃碼，手機電腦聯(lián)動
更多資料
KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列 資料 法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統(tǒng)，結構緊湊，可以直接放置在實驗臺上，能夠處理Zda直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調整掩膜高度以適應不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預熱，也不需要單獨的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進的設計，保證了光源的準直性和均勻性，其Z小分辨率可達2μm，Zda發(fā)散角小于2°
本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
?
[詳細]
2024-09-15 17:10
標準
KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列 資料二 法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統(tǒng)，結構緊湊，可以直接放置在實驗臺上，能夠處理Zda直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調整掩膜高度以適應不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預熱，也不需要單獨的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進的設計，保證了光源的準直性和均勻性，其Z小分辨率可達2μm，Zda發(fā)散角小于2°
本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
[詳細]
2024-09-15 17:11
標準
光刻機uv-kub 2-Brochure 光刻機uv-kub 2-Brochure[詳細]
2022-07-05 11:23
標準
光刻機uv-kub 3-Brochure 光刻機uv-kub 3-Brochure[詳細]
2024-09-19 23:59
標準
紫外掩膜曝光光刻機 美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機（Mask Aligner)，是領xian的光刻系統(tǒng)，在光刻領域有超過35年的經(jīng)驗，售出1000多套設備，為半導體制造和科研領域提供品質優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機系統(tǒng)，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃?、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國國家半導體公司、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學、臺塑、墨爾本大學、華盛頓州立大學、方大集團、大聯(lián)大集團、光寶科技、漢磊股份、廈門乾照光電股份有限公司等等。[詳細]
2024-09-28 08:12
產(chǎn)品樣冊
玻璃碎片曝光機 JZ-SGE-A 玻璃碎片曝光機/型玻璃碎片曝光儀型號：JZ-SGE-A1.用途:JZ-SGE-A型玻璃碎片曝光機是用于汽車、建筑、機車鋼化玻璃碎片狀態(tài)試驗的必備設備。本機精心選擇對曬圖紙曝光敏感的紫外光做光源，提高了曝光效率，具有玻璃碎片成像清晰的特點；本機應用單片機實現(xiàn)曝光時間和對開式擋光板自動控制；具有曝光時間可調、定時準確的特點；其技術指標符合國家標準《汽車用安全玻璃》(GB9656)、建筑用《鋼化玻璃》國家標準(GB9963)，《鐵路車輛用安全玻璃》(GB18045)的要求，尤其是能對實物樣品玻璃上的商標和3C強制認證標識進行曝光曬圖。2.主要技術指標:擋光板開/關時間：≤5s；擋光板Zda開啟角度：≤120°；曝光光強穩(wěn)定時間：≤180s（自動聲響提示）；Zdi安裝高度：1.6m（對應曝光面積2×1m）；光源起輝時間：≥2s；光源再起輝Z小間隔時間：5min；曝光時間設定范圍：1-999s（四位數(shù)碼顯示）；無線遙控距離：≥10m；功率消耗：220VAC≤680W；[詳細]
2018-09-24 10:00
產(chǎn)品樣冊
UVK3高分辨率紫外曝光機 詳細介紹了UVK3紫外曝光機的功能及應用領域和規(guī)格參數(shù)[詳細]
2020-03-29 12:03
產(chǎn)品樣冊
Micronit 微流控芯片標準夾具 FC系列 資料二 荷蘭Micronit研發(fā)的FC系列微流控芯片標準夾具，適用于Micronit的標準微流控芯片，也適配Micronit設計的標準頂端進樣芯片（45mm x 15mm）或標準側邊進樣芯片（15 mm x 15 mm或者15 mm x 30 mm的）。夾具以其特有的密封設計，保證與芯片的緊密連接，同時也不會對微流控芯片造成損傷。
芯片夾具的主體材質采用不銹鋼、鋁合金或者PEEK，堅固耐用，配套特氟龍連接套裝，包含特氟龍連接管和密封圈，可以滿足絕大多數(shù)試劑的使用。
[詳細]
2024-09-15 17:09
標準
Nanonex光刻機/紫外光刻機 Nanonex光刻機/紫外光刻機[詳細]
2024-09-14 13:44
課件
Eden-microfluidics 微流控芯片快速制備材料 Flexdym ? 資料 Flexdym ?是一種新型微流控芯片制作材料，其物理性質與PDMS相似，但拋棄了PDMS加工工藝復雜，加工時間長等缺點，是制作微流控芯片的新選擇。Flexdym ?在Sublym100 ?芯片快速成型機中真空熱壓1分鐘即可定型，鍵合時無需對芯片表面進行等離子表面處理，只需使用熱板加熱即可完成與基板的鍵合。此外，F(xiàn)lexdym ?具有極低的粘度，可用于快速熱成型，填充率是傳統(tǒng)硬質熱塑性塑料(COC、PS、PMMA等)的100-1000倍。[詳細]
2024-09-15 17:09
標準
電子束光刻機（多功能超高精度電子束光刻機P21） 電子束光刻機（多功能超高精度電子束光刻機P21）
依托壟斷性專利技術，百及納米推出國際領先的超高精度大面積寫場電子束光刻機 P21 系列。 百及納米S次開發(fā)了新一代電子束光刻機的電子束閉環(huán)控制新原理。百及超高精度電子束光刻機 P21 是第一款新一代電子束光刻機的代表，在著名電子束光刻機制造商德國 Raith 公司的成熟機型上 升級而成。該系列主要包括 P21-2，P21-4 和 P21-6 三個型號，區(qū)別主要在于樣品尺寸（2，4，6 英寸晶圓）及擴展使用功能。P21 不僅完整地保留了原電子束光刻機的整體功能，且集多項國際領先的關 鍵指標于一身，包括：
? 國際上S次開發(fā)的新穎電子束閉環(huán)控制系統(tǒng)，能夠實現(xiàn)電子束的原位檢測與校正;
? 國際領先的寫場拼接精度≤2 nm;
? 電子束光刻的長期穩(wěn)定性。精確校正電子束的空間漂移，將其位置穩(wěn)定性提高到≤10 nm/h； 有利于通過提高電子束光刻時間實現(xiàn)大尺寸圖形的曝光需求。
百及納米的 P21 系列以常規(guī)電子束光刻機為載體，通過獨家專利技術對其進行功能及性能指標的大幅提升。P21 光刻機組件均為德國原裝制造。[詳細]
2022-09-05 22:02
選購指南
微流控芯片實驗室 微流控芯片實驗室[詳細]
2024-09-14 01:07
操作手冊
Eden-microfluidics微流控芯片真空熱壓成型機Sublym100 ? 資料 Sublym100 ?微流控芯片真空熱壓成型機來自法國Eden-microfluidics公司，用于微流控芯片快速成型，配合Flexdym?材料，可以非?？焖俚耐瓿晌⒘骺匦酒尚停部梢杂糜谖⒘骺匦酒臒釅烘I合。此真空熱壓成型機使用時，僅需3步，便可完成微流控芯片的成型、熱壓鍵合等操作，無需額外處理（等離子、溶劑或真空），使用簡單，操作方便，是微流控芯片實驗室的有力工具。[詳細]
2024-09-15 17:09
標準
Micronit 微流控芯片標準夾具 FC系列 操作手冊 荷蘭Micronit研發(fā)的FC系列微流控芯片標準夾具，適用于Micronit的標準微流控芯片，也適配Micronit設計的標準頂端進樣芯片（45mm x 15mm）或標準側邊進樣芯片（15 mm x 15 mm或者15 mm x 30 mm的）。夾具以其特有的密封設計，保證與芯片的緊密連接，同時也不會對微流控芯片造成損傷。
芯片夾具的主體材質采用不銹鋼、鋁合金或者PEEK，堅固耐用，配套特氟龍連接套裝，包含特氟龍連接管和密封圈，可以滿足絕大多數(shù)試劑的使用。
[詳細]
2024-09-15 17:09
標準
CorSolutions PDMS微流控芯片打孔器 PDMS Port Creator 資料 CorSolutions PDMS微流控芯片打孔器，可以在PDMS芯片上實現(xiàn)快速、方便又極ng確的打孔。此款打孔器配備了對準攝像頭和顯示器，只需通過攝像頭對準需要打孔的位置，然后壓下打孔針，打孔針便可以保持在垂直方向上，完成在PDMS微流控芯片上的打孔，并且在之后的抬起過程中，從PDMS微流控芯片上取出的PDMS圓柱芯也會自動從打孔針中脫落，從而避免了PDMS殘屑可能帶來的堵塞問題。如果需要在PDMS芯片上打其他直徑的孔，只需從安裝柱上拆下打孔器的頭部，并將其替換為所需所需直徑的打孔器頭部即可。[詳細]
2024-09-11 17:46
標準
無掩膜光刻機 光刻機又名掩膜對準曝光機，是芯片制造流程中光刻工藝的核心設備。其主要用途是生產(chǎn)集成電路，將設計好的集成電路模板復刻到硅晶圓上，從而生產(chǎn)出微小、精確、高效率的集成電路。
根據(jù)光刻機的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機、接近式光刻機和直寫式光刻機，其中直寫式光刻機又可以依據(jù)其是否需要使用掩膜版細分為有掩膜和無掩膜兩種。無掩膜光刻機是一種不需要使用傳統(tǒng)掩膜版的光刻機，它通過直接對晶圓進行曝光，實現(xiàn)圖案的轉移，能夠更快速地制造特定產(chǎn)品、降低成本，除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外，還能實現(xiàn)2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩膜光刻機不需要掩膜版、高度靈活的優(yōu)點，使其被廣泛應用于科學研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造、電子器件、生物醫(yī)藥、光學元件、微機械等領域。[詳細]
2024-09-15 17:53
產(chǎn)品樣冊
Eden-microfluidics微流控芯片環(huán)氧樹脂模具制作工具套裝Epoxym ? 資料 Epoxym ?微流控芯片環(huán)氧樹脂模具制作工具套裝來自Eden-microfluidics，是專門用于微流控芯片模板（SU-8，硅或玻璃等易損材質）的復制工具，復制后的環(huán)氧樹脂芯片模板堅固耐用，使用壽命長。
其使用步驟分為兩步：步驟一，使用硅樹脂（例如PDMS）澆筑在需要復制的模具上，制作一個反模；步驟二，利用制作出來的硅樹脂反模，使用環(huán)氧樹脂在反模中完成模具的復制。
[詳細]
2024-09-15 17:11
標準
美國MAC機控閥1800系列選型資料 美國MAC機控閥1800系列選型資料功能接囗尺寸流量（Zda）安裝方式5/2----5/31/4”3/8”1.4Cv管接/串接技術參數(shù)：介質壓縮空氣，真空或惰性氣體壓力范圍真空到150PSI流量范圍1/4”1/8”:1.4Cv潤滑不需要，如果需要請選用中性油過濾要求40泄漏量50cm/min訂貨方式：閥體選擇：18①②③④---⑤-⑥-⑦①②③④閥體類型⑤閥體類型⑥閥體類型⑦接口尺寸0001有彈簧底板1二位單壓，1#進氣，4\5#排氣或真空1管接，外先導1/4”21/4”NPT0002有彈簧底板\適用0034，0035，00392二位雙壓，4\5#進氣，1#排氣或真空2串接，3個共用口33/8”NPT0003有彈簧底板，帶安裝螺孔5三位中封，1#進氣，4\5#排氣3串接，1個共用口（進氣）51/4”BSPP6三位中泄，1#進氣，4\5#排氣9串接，3個共用口（內置流量控制）63/8”BSPP7三位中壓，雙壓，4\5#進氣，1#排氣8三位中壓，單壓，4\5#進氣，1#排氣備注：2、3#為氣缸口操作類型：⑧⑨⑩⑧⑨⑩⑧⑨⑩⑧⑨⑩0111垂直下壓凸輪開關平行于2和3口0023帶鎖定上拉式手柄開關垂直于閥體0033圓形按鈕，有保護圈0112垂直下壓凸輪開關垂直于2和3口0024無鎖定上拉式手柄開關垂直于閥體0034鎖定式圓形按鈕0013平行移動凸輪開關垂直于2和3口0025帶鎖定下按式手柄開關平行于閥體0035鎖定圓形按鈕，有面板固定螺絲0014平行移動凸輪開關平行于2和3口0026無鎖定下按式手柄開關平行于閥體0036蘑菇形按鈕0021帶鎖定下按式手柄開關垂直于閥體0027帶鎖定上拉式手柄開關平行于閥體0037蘑菇形按鈕，有面板固定螺絲0022無鎖定下按式手柄開關垂直于閥體0028無鎖定上拉式手柄開關平行于閥體0038蘑菇形按鈕，有保護圈0031圓形按鈕0032圓形按鈕，有面板固定螺絲0039鎖定式蘑菇形按鈕[詳細]
2018-09-29 10:00
產(chǎn)品樣冊
美國MAC機控閥1100系列選型資料 美國MAC機控閥1100系列選型資料功能接囗尺寸流量（Zda）安裝方式3/2----2/21/4”1/8”0.18Cv管接/串接/板接技術參數(shù)：介質壓縮空氣，真空或惰性氣體壓力范圍真空到150PSI流量范圍1/4”1/8”:0.18Cv潤滑不需要，如果需要請選用中性油過濾要求40泄漏量50cm/min訂貨方式：閥體選擇：11①②A-①②管接①②串接①②板接111/8”NPT,通用管接811/8”NPT，三通20二通常閉，無底座131/4”NPT，通用管接831/4”NPT，三通30通用三通，無底座611/8”NPT，三通常閉841/8”NPT，三通常閉32通用三通，有底座1/8”NPT631/4”NPT，三通常閉851/4”NPT，三通常閉40二通常開，無底座42二通常開，有底座1/8”NPT70三通常閉，無底座72三通常閉，有底座1/8”NPT操作類型：③④⑤③④⑤③④⑤③④⑤011垂直下壓凸輪開關平行于1和2口023帶鎖定上拉式手柄開關垂直于1和2口031圓形按鈕012垂直下壓凸輪開關垂直于1和2口024無鎖定上拉式手柄開關垂直于1和2口032圓形按鈕，有面板固定螺絲013平行移動凸輪開關垂直于1和2口025帶鎖定下按式手柄開關平行于1和2口033圓形按鈕，有保護圈014平行移動凸輪開關平行于1和2口026無鎖定下按式手柄開關平行于1和2口036蘑菇形按鈕021帶鎖定下按式手柄開關垂直于1和2口027帶鎖定上拉式手柄開關平行于1和2口037蘑菇形按鈕，有面板固定螺絲022無鎖定下按式手柄開關垂直于1和2口028無鎖定上拉式手柄開關平行于1和2口038蘑菇形按鈕，有保護圈[詳細]
2018-09-29 10:00
產(chǎn)品樣冊
Copyright 2004-2026 yiqi.com All Rights Reserved , 未經(jīng)書面授權 , 頁面內容不得以任何形式進行復制
KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列 資料
玻璃碎片曝光機 JZ-SGE-A
在線留言
滬公網(wǎng)安備 31011502008050號
參與評論
登錄后參與評論