本文由 美國(guó)perkinelmer有限公司 整理匯編

2024-09-12 18:28 292閱讀次數(shù)

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• NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)硝酸中的雜質(zhì)

  NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)硝酸中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2024-09-12 18:28

  操作手冊(cè)

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• NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)TMAH中的雜質(zhì)

  NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)TMAH中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2013-07-17 00:00

  其它

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• NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)硫酸中的雜質(zhì)

  NexION 300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)硫酸中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2024-09-15 17:52

  期刊論文

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• NexION 300S 測(cè)定半導(dǎo)體級(jí)TMAH中的雜質(zhì)

  四甲基氫氧化銨（TMAH）是一種廣泛用于半導(dǎo)體光刻工藝和液晶顯示器生產(chǎn)中形成酸性光阻的基本溶劑，因此對(duì)TMAH純度的檢測(cè)變得越來(lái)越重要。由于具有快速測(cè)定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度待測(cè)元素的能力，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）已成為了質(zhì)量控制不可缺少的分析工具。然而，解決由基體帶來(lái)的多原子干擾和由于含有碳造成的基體YZ效應(yīng)是非常重要的。本應(yīng)用報(bào)告證明了NexION?300SICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過(guò)一次分析就能夠?qū)MAH中全部痕量水平的雜質(zhì)元素進(jìn)行測(cè)定的能力。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• NexION 300S ICP-MS測(cè)定硅晶片中的雜質(zhì)

  NexION 300S ICP-MS測(cè)定硅晶片中的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2013-07-17 00:00

  操作手冊(cè)

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• NexION 300S ICP-MS 對(duì)光刻膠中的Si的分析

  使用ICP、ICP-MS分析時(shí)存在光學(xué)干擾，而儀器的結(jié)構(gòu)又決定了Si的檢出限比其他元素更高，所以為了分析低濃度的Si，必須去除光學(xué)干擾或更換儀器進(jìn)樣系統(tǒng) ( 霧室、霧化器、ZX管、炬管 )。 本實(shí)驗(yàn)的目的是利用NexION 的 DRC模式確定分析Si的**條件。 [詳細(xì)]

  2024-09-14 16:18

  應(yīng)用文章

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• 動(dòng)態(tài)反應(yīng)池-ICP-MS分析半導(dǎo)體級(jí)鹽酸中雜質(zhì)

  動(dòng)態(tài)反應(yīng)池-ICP-MS分析半導(dǎo)體級(jí)鹽酸中雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2013-08-06 00:00

  選購(gòu)指南

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• NexION300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體行業(yè)中使用有機(jī)溶劑的雜質(zhì)

  NexION300S ICP-MS測(cè)定半導(dǎo)體行業(yè)中使用有機(jī)溶劑的雜質(zhì)[詳細(xì)]

  2024-10-05 12:26

  實(shí)驗(yàn)操作

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• 利用ICP-MS對(duì)半導(dǎo)體級(jí)鹽酸中的雜質(zhì)進(jìn)行分析

  在半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)過(guò)程中，許多流程中都要用到各種酸類(lèi)試劑。其中Z重要的是鹽酸（HCl），其主要用途是與過(guò)氧化氫和水配制成混合物用來(lái)清潔硅晶片的表面。由于半導(dǎo)體設(shè)備尺寸不斷縮小，其生產(chǎn)中使用的試劑純度變得越來(lái)越重要，這是因?yàn)榧词故巧倭侩s質(zhì)也會(huì)導(dǎo)致設(shè)備的失效。國(guó)際SEMI標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的是金屬雜質(zhì)的Zda濃度（SEMI標(biāo)準(zhǔn)C27-07081用于鹽酸），而半導(dǎo)體設(shè)備的生產(chǎn)商對(duì)雜質(zhì)濃度的要求往往更加嚴(yán)格，這樣就給試劑供應(yīng)商帶來(lái)了更大的挑戰(zhàn)。其結(jié)果是，分析儀器也必須能夠?qū)Ω蜐舛鹊碾s質(zhì)成分極ng確檢測(cè)。電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）具備極ng確測(cè)定納克/升（ng/L，PPT）甚至更低濃度元素含量的能力，是Z適合測(cè)量痕量及超痕量金屬的技術(shù)。然而，常規(guī)的測(cè)定條件下，氬、氧、氫離子會(huì)與酸基體相結(jié)合，對(duì)待測(cè)元素產(chǎn)生多原子離子干擾。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 利用NexION 2000 對(duì)半導(dǎo)體級(jí)鹽酸中的雜質(zhì)進(jìn)行分析

  電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）具備極ng確測(cè)定納克/升（ng/L，PPT）甚至更低濃度元素含量的能力，是Z適合測(cè)量痕量及超痕量金屬的技術(shù)。然而，常規(guī)的測(cè)定條件下，氬、氧、氫離子會(huì)與酸基體相結(jié)合，對(duì)待測(cè)元素產(chǎn)生多原子離子干擾。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• NexION300S測(cè)定半導(dǎo)體行業(yè)中使用有機(jī)溶劑的雜質(zhì)

  半導(dǎo)體行業(yè)中Z常用的兩種有機(jī)溶劑是異丙醇（IPA）和丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）。兩種有機(jī)溶劑都必須檢測(cè)痕量金屬污染物的含量，因?yàn)檫@些物質(zhì)的存在將會(huì)對(duì)存儲(chǔ)設(shè)備的可靠性產(chǎn)生不利影響。由于具有快速測(cè)定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度待測(cè)元素的能力，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）已成為了質(zhì)量控制不可缺少的分析工具。本應(yīng)用報(bào)告證明了NexION300ICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過(guò)一次分析就能夠很容易的對(duì)IPA和PGMEA中全部痕量水平的雜質(zhì)元素進(jìn)行測(cè)定的能力。這一實(shí)驗(yàn)在一次測(cè)定中同時(shí)使用標(biāo)準(zhǔn)模式和反應(yīng)模式可以得到**的分析結(jié)果。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• 使用NexION 5000 ICP-MS直接測(cè)定高純氧化釹中的稀土雜質(zhì) Application Note (706124_CHN _01)

  使用NexION 5000 ICP-MS直接測(cè)定高純氧化釹中的稀土雜質(zhì) Application Note (706124_CHN _01)[詳細(xì)]

  2024-09-12 16:02

  應(yīng)用文章

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• ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基體進(jìn)樣系統(tǒng) (AMS)

  ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基體進(jìn)樣系統(tǒng) (AMS) [詳細(xì)]

  2020-07-17 14:16

  應(yīng)用文章

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• ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基體進(jìn)樣系統(tǒng) (AMS)

  ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基體進(jìn)樣系統(tǒng) (AMS) [詳細(xì)]

  2024-09-10 22:38

  應(yīng)用文章

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• 采用NexION 2000 ICP-MS分析尿液中的微量元素

  在檢測(cè)尿液中的微量金屬元素時(shí)主要需要攻克兩大難關(guān)：基體產(chǎn)生的多原子離子干擾的存在和用于評(píng)估污染物接觸的某些元素的含量極低，包括砷（As）、鎘（Cd）、汞（Hg）等。PerkinElmerNexION2000ICP質(zhì)譜儀（ICP-MS）的通用池系統(tǒng)具有標(biāo)準(zhǔn)（Standard）、碰撞（KED）和反應(yīng)（DRC）三種模式，并具有三個(gè)氣路，可選擇的碰撞/反應(yīng)氣體種類(lèi)也很豐富，所以NexION2000能夠Z有效地排除干擾，準(zhǔn)確地測(cè)定Zdi的濃度水平。[詳細(xì)]

  2018-08-17 10:00

  產(chǎn)品樣冊(cè)

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• NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的應(yīng)用

  NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的應(yīng)用 [詳細(xì)]

  2020-07-17 14:08

  應(yīng)用文章

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• NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的應(yīng)用

  NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的應(yīng)用 [詳細(xì)]

  2020-07-17 14:08

  應(yīng)用文章

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• NexION 5000 ICP-MS在超純水分析中的應(yīng)用

  NexION 5000 ICP-MS在超純水分析中的應(yīng)用[詳細(xì)]

  2024-09-13 05:07

  應(yīng)用文章

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• 使用NexION 5000 ICP-MS直接測(cè)定高純氧化釓中的稀土雜質(zhì) Application Note (745526 (705300)_CHN _01)

  使用NexION 5000 ICP-MS直接測(cè)定高純氧化釓中的稀土雜質(zhì) Application Note (745526 (705300)_CHN _01)[詳細(xì)]

  2024-09-14 06:17

  應(yīng)用文章

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• 濃硝酸中痕量陰離子的測(cè)定

  濃硝酸中痕量陰離子的測(cè)定[詳細(xì)]

  2009-02-05 00:00

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