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輝光放電質(zhì)譜儀的前景

更新時(shí)間:2025-10-18 22:38:36 類型: 閱讀量:1367
導(dǎo)讀:一種將輝光放電源當(dāng)作離子源并且和質(zhì)譜儀器聯(lián)接行質(zhì)譜測(cè)定的分析方法,被稱為輝光放電質(zhì)譜法簡(jiǎn)稱為GDMS。GDMS應(yīng)用于多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域,作用舉足輕重。

一種將輝光放電源當(dāng)作離子源并且和質(zhì)譜儀器聯(lián)接行質(zhì)譜測(cè)定的分析方法,被稱為輝光放電質(zhì)譜法,英文名:glow discharge mass spectrometry,簡(jiǎn)稱為GDMS。GDMS應(yīng)用于多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域,作用舉足輕重,在材料科學(xué)領(lǐng)域,GDMS已經(jīng)變成了無(wú)機(jī)固體材料,特別是高純材料雜質(zhì)成分分析的強(qiáng)有力方法。GDMS已經(jīng)變成了反應(yīng)性和非反應(yīng)性等離子體沉積過(guò)程的控制和表征的工具。


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發(fā)展前景

到目前為止,在直接進(jìn)行固體導(dǎo)電材料的痕量及超痕量元素分析的手段當(dāng)中,輝光放電質(zhì)譜法(GDMS)是被認(rèn)為zui行之有效的。因?yàn)槠淠軌蛑苯舆M(jìn)行固體進(jìn)樣,所以在這二十年以內(nèi)已經(jīng)在高純金屬、合金等材料的分析領(lǐng)域得到了非常廣泛的應(yīng)用,除了寬動(dòng)態(tài)線性范圍的優(yōu)點(diǎn)以及優(yōu)越的檢測(cè)限為GDMS所具備,而且樣品能夠較為簡(jiǎn)單地進(jìn)行制備,有著比較低的基體效應(yīng)并且元素間有著較小的靈敏度差異。GDMS因?yàn)樗姆治鲂阅鼙容^優(yōu)越,可以廣泛地應(yīng)用于電子學(xué)、化學(xué)、冶金、地質(zhì)以及材料科學(xué)等領(lǐng)域里。其在高純金屬和半導(dǎo)體材料分析中的優(yōu)越性已經(jīng)被顯示出來(lái)。也在積極地研究和完善它在絕緣體、粉末、液體、有機(jī)物和生物材料分析以及負(fù)離子測(cè)定中的應(yīng)用。有著非常廣闊的發(fā)展前景。


表面及深度分析應(yīng)用

輝光放電質(zhì)譜的原子化過(guò)程是陰極濺射過(guò)程,持續(xù)地逐層剝離樣品原子的質(zhì)譜信息,其所反映的化學(xué)組成也由表及里,隨著濺射過(guò)程而變化,所以深度分析也可以使用GDMS。相比于GDAES,GDMS的優(yōu)點(diǎn)是元素的覆蓋范圍更加的寬以及檢出限也更加的低。然而GDMS卻沒(méi)有較為迅速的速度。輝光放電質(zhì)譜深度分析的應(yīng)用文獻(xiàn)增長(zhǎng)速度相當(dāng)?shù)目?,在這當(dāng)中,占比較非常多的是不同類型金屬涂層分析,并且該技術(shù)在氧化物、 氮化物和一些其它的非金屬涂層分析中也應(yīng)用的相當(dāng)成功。


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