在國際上，隨著光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，紫外光表面清洗技術(shù)也被提了出來。有機(jī)化合物的光敏氧化作用為紫外光清洗技術(shù)所利用，從而使得將黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)去除的目的達(dá)到，通過光清洗后的材料表面能夠"原子清潔度"。紫外臭氧清洗機(jī)為一種小型紫外臭氧清洗設(shè)備,能夠用來對(duì)各種單晶基片進(jìn)行清洗，從而使得成膜質(zhì)量變得更好。

紫外臭氧清洗機(jī)歷史

在七十年代中期，紫外光被美國軍事電子技術(shù)和器件實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用來對(duì)石英晶片進(jìn)行照射清洗，取得的效果十分滿意，然而在非常長(zhǎng)的一段時(shí)間內(nèi)，軍事領(lǐng)域?yàn)槊绹贤夤獗砻媲逑醇夹g(shù)的主要應(yīng)用領(lǐng)域，其主要被用于研究性應(yīng)用。

一直到九十年代初，在日本和美國的民用光電子產(chǎn)品的工業(yè)生產(chǎn)過程中，紫外臭氧清洗機(jī)先后得到應(yīng)用，紫外臭氧清洗機(jī)被提供給了我國個(gè)別外資LCD企業(yè)，并且要求這些企業(yè)對(duì)技術(shù)進(jìn)行保密。在此以后，紫外光表面清洗技術(shù)在日本得到迅猛發(fā)展，與此同時(shí)，紫外光表面改質(zhì)技術(shù)也獲得了發(fā)展。

在二十世紀(jì)末，日本等先進(jìn)工業(yè)國家紫外光表面清洗和改質(zhì)技術(shù)通過信息產(chǎn)業(yè)慢慢向著金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)過程進(jìn)行拓展。

二十世紀(jì)九十年代后期，我國的信息技術(shù)和產(chǎn)業(yè)發(fā)展速度十分驚人，尤其是高速發(fā)展的平板顯示技術(shù)，LCD顯示屏從TN級(jí)向STN和TFT持續(xù)提升，市場(chǎng)上也開始進(jìn)入新型的OLED顯示產(chǎn)品。從這開始，對(duì)于制備工藝過程表面質(zhì)量有著越來越嚴(yán)格的要求，對(duì)于紫外光表面清洗技術(shù)的優(yōu)越性的認(rèn)可也變得越來越廣泛，紫外臭氧清洗機(jī)的需求量也在持續(xù)增加。