在國際上，隨著光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，紫外光表面清洗技術(shù)也被提了出來。有機(jī)化合物的光敏氧化作用為紫外光清洗技術(shù)所利用，從而使得將黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)去除的目的達(dá)到，通過光清洗后的材料表面能夠"原子清潔度"。紫外臭氧清洗機(jī)為一種小型紫外臭氧清洗設(shè)備,能夠用來對各種單晶基片進(jìn)行清洗，從而使得成膜質(zhì)量變得更好。

紫外臭氧清洗機(jī)應(yīng)用

1、大規(guī)模集成電路的密度變得越來越高，晶格的微細(xì)化也變得越來越密，對于表面的潔凈度也有了越來越高的要求。光清洗能夠使表面的原子清潔度得到有效地實現(xiàn)，并且不會損傷芯片表面。

2、在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗，能夠使粘合力得到提高，使針孔、裂縫的發(fā)生得以避免。

3、在光盤的生產(chǎn)中，沉積各種膜前作光清洗準(zhǔn)備，能夠使光盤的質(zhì)量得到提高。

4、粘合磁頭固定面，磁頭涂敷與對金屬絲的連接強度加以提高，光清洗以后會獲得更加好的效果。

5、在LCD、OLED生產(chǎn)中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過光清洗，能夠使基體表面潤濕性得到非常大的提高，使得基體表面的粘合力增強。

6、印制電路板生產(chǎn)中，對銅底板，印刷底板進(jìn)行光清洗和改質(zhì)，在導(dǎo)線焊接前進(jìn)行光清洗，能夠使得熔焊的接觸面積提高，使連接強度得到大大的增加。尤其是高精度印制電路板，當(dāng)線距達(dá)到亞微米級時，光清洗能夠?qū)⒃诰€距之間很小的微粒輕易地去除掉，能夠使印制電路板的質(zhì)量大大地提高。