上海伯東代理進(jìn)口高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng), 薄膜均勻性：≤±2％, 助力科研創(chuàng)新！
上海伯東代理高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng), 薄膜均勻性：≤±2％, 喜獲高校訂單, 助力科研創(chuàng)新, 適用于光學(xué)材料研究 (LED / Laser Diode), 光電元件, 半導(dǎo)體元件.

高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng) 性能指標(biāo)
基座可公轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn), zui高轉(zhuǎn)速20 rpm，5～20 rpm可調(diào)
乘載盤承載zui大4英吋樣品(可放小于4吋的樣品或破片)
鍍膜均勻性: 4英寸范圍內(nèi)薄膜厚度均勻性優(yōu)于±2%
極限真空度優(yōu)于 3 × 10-7 Torr
抽氣效率：atm to 3　×　10-6 Torr < 25min
                 atm to 5　×　10-7 Torr < 55min
電子束蒸發(fā)源 × 1，坩堝容量：分子7 cc，坩堝數(shù)量4，自動旋轉(zhuǎn)坩堝，電子束可掃描
6 kW電子束蒸發(fā)源電源 × 1

上海伯東代理電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 E-Beam Deposition Evaporation, 可針對量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達(dá)到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu), 電子束蒸鍍設(shè)備可以結(jié)合美國 KRi 離子源進(jìn)行離子輔助沉積或者預(yù)清潔等功能. 滿足客戶實際應(yīng)用!

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