Elveflow微流控 MUX RECIRCULATION 6口2位雙向閥
Elveflow 微流控 12/1旋轉(zhuǎn)雙向微流控分配閥
Elveflow微流控 COBALT自主微流泵
Elveflow微流控 OB1 MK4 多通道壓力&真空控制器
AF1 Dual 微流體壓力真空泵
產(chǎn)品概述
真空系統(tǒng)包括耐化學(xué)腐蝕隔膜真空泵，底板，冷凝器，分離器和真空控制單元
簡(jiǎn)單連接到線路電源（電源插頭）和氣動(dòng)系統(tǒng)
自動(dòng)真空控制
可控的回收溶劑，采用高性能冷凝器（壓力側(cè)）
系統(tǒng)中的顆粒收集（吸入側(cè)）
易于擴(kuò)展或轉(zhuǎn)換
環(huán)保
耐化學(xué)性
技術(shù)參數(shù)
atm流速[l / min]. 壓力:10
真空極限[mbar abs.]: 8.0
<30，使用氣鎮(zhèn)閥
標(biāo)稱電壓[V] :230
頻率[Hz] ：50
功率P1 [W]：90
工作電流[A]：0.6
允許的介質(zhì)和環(huán)境溫度[℃] ：+5 … +40
泵頭：?PTFE
隔膜：PTFE涂層
閥：FFPM
尺寸W x H x D [mm] ：140 x 187 x 281
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電子增材打印設(shè)備是一種先進(jìn)的增材制造設(shè)備，主要應(yīng)用于顯示、半導(dǎo)體封裝、新能源鋰電等行業(yè)，可打印具有電子功能的微納米級(jí)特征結(jié)構(gòu)，被視為增材制造領(lǐng)域的下一個(gè)前沿。「西湖未來(lái)智造」通用型電子增材打印平臺(tái)，采用微納墨水直寫(DIW)增材打印技術(shù)，結(jié)合獨(dú)創(chuàng)自研納米級(jí)墨水材料，實(shí)現(xiàn)最小具有1~10 um特征尺寸的高性能金屬導(dǎo)電材料、聚合物及復(fù)合介質(zhì)材料的三維增材制造，可用于打印精密互聯(lián)線路、微波天線、無(wú)源器件
提供了一種方便的方法來(lái)創(chuàng)建納米模式，而無(wú)需使用緩慢且昂貴的光掩膜。這對(duì)于研究和快速原型設(shè)計(jì)特別有用。
紫外臭氧清洗機(jī)（UVOzone Cleaner, UVO），是一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì)，快速高效的材料表面清洗設(shè)備，能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等）表面上的有機(jī)污染物。
CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設(shè)計(jì)的粉體專用等離子清洗機(jī)，可以高效率地處理微細(xì)的甚至分子級(jí)別的超細(xì)粉體材料，改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機(jī)無(wú)法處理粉體樣品的問(wèn)題。
CIF 掃描電鏡（SEM）等離子清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程等離子清洗源 設(shè)計(jì)，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于 SEM 或 FIB 等腔 體內(nèi)碳?xì)浠衔锏那逑础?/p>
CIF 透射電鏡（TEM）樣品桿清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程離子清洗源 設(shè)計(jì)，清洗快速高效， 低轟擊損傷， 同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。 主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
CIF 推出的旋涂機(jī)系列產(chǎn)品轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。
CIF烤膠機(jī)是一種控溫加熱 設(shè)備。主要用于半導(dǎo)體硅片， 載玻片，晶片，基片，ITO 導(dǎo) 電玻璃等工藝的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。
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