MunichMetrologyVPD系統(tǒng)及模組

MunichMetrologyGmbH,是PVATePla的全資子公司,擁有VPD，氣相分解設(shè)備超過二十年的VPD經(jīng)驗(yàn)，無論在設(shè)備和應(yīng)用方面都是前沿供應(yīng)商。在2012年MunichMetrology被PVA-TEPLA收購(gòu)，MunichMetrology產(chǎn)品目前是由PVA-TEPLA制造，擴(kuò)大其半導(dǎo)體集團(tuán)的計(jì)量功能。

產(chǎn)品：

WSMS-晶圓表面測(cè)量系統(tǒng)

MunichMetrology提供了zuixianjin的，完全整合的VPD測(cè)量系統(tǒng)。該WSMS包括前緣的VPD，氣相分解，zuixianjin，精密的化學(xué)品輸送系統(tǒng)，自動(dòng)提供所需的所有集成的ICP-MS分析的校準(zhǔn)的化學(xué)品VPD和所有的化學(xué)物質(zhì)樣品采集系統(tǒng)系統(tǒng)。它是一臺(tái)用計(jì)算機(jī)控制的系統(tǒng)，接受遠(yuǎn)程命令，并通過SECS/GEM工廠自動(dòng)化接口提供的測(cè)量結(jié)果實(shí)時(shí)在一個(gè)完整的測(cè)量系統(tǒng)。該WSMS的優(yōu)點(diǎn)包括：

全自動(dòng)

zuidi的檢出限制

更快地取得測(cè)量結(jié)果

實(shí)時(shí)操作過程

通過精密，無錯(cuò)，加藥，稀釋，混合和傳遞到兩個(gè)VPD和ICP-MS的操作精確測(cè)量

無需人工較準(zhǔn),降低成本

WSPS - 晶圓表面制備系統(tǒng)(VPD Preparation)

WSPS系統(tǒng)包括處理模塊，機(jī)器人控制，錄像帶站cassettestations和固定負(fù)載接口站系統(tǒng)中的FOUPS，提供過濾后的潔凈空氣，工具和電源各個(gè)獨(dú)立模塊。WSPS軟件提供了完整的系統(tǒng)運(yùn)行能力和數(shù)據(jù)收集，包括定制配方設(shè)置，作業(yè)定義，作業(yè)執(zhí)行，晶圓優(yōu)先級(jí)和遠(yuǎn)程監(jiān)控和操作管理。

• 掃描整個(gè)晶圓表面無殘留

• 系統(tǒng)模塊設(shè)計(jì)

• 自動(dòng)處理功能

• 適用于硅片及其它材料表面

WSPS,WaferSurfacePreparationSystemandVPDModules

PAD-Fume

可編程自動(dòng)分解煙化機(jī)

PAD-Fume是MunichMetrology晶圓表面清洗裝置的模塊之一,用于分析硅片表面和其氧化物的超微量金屬污染。它也可與自動(dòng)液滴掃描器PAD-Scan以及PAD-Dry（只適用于全反射X射線熒光-TXRF分析）組合使用。

PAD-Fume,OxideEtchModule

PAD-Scan

可編程自動(dòng)液滴掃描器

PAD-Scan提供了一個(gè)高度敏感硅晶片VPD分析的新質(zhì)量。它的全自動(dòng)化操作,除去了人工操作所造成的所有微粒污染，降低空白試驗(yàn)值,從而大幅度提升并達(dá)到卓越的偵測(cè)度。

由于其掃描程序的精確控制,PAD-Scan把VPD打造成為一個(gè)能提供優(yōu)良重復(fù)性的可靠制備方法,是個(gè)適合用于前端工藝,針對(duì)晶圓表面質(zhì)量管理的理想方案。

由于精密的部分掃描模式,任何晶片的范圍皆可選擇用于收集VPD殘液。機(jī)器手的晶圓處理能力可用于所有晶圓,直徑達(dá)300毫米。

PAD-Scan,SampleCollectionModule

PAD-Dry

可編程自動(dòng)液滴烘干機(jī)

T只適用于全反射X射線熒光-TXRF分析。采用真空及適度的熱量,平均及快速地把晶圓烘干。

全自動(dòng)化系統(tǒng)操作

作為以生產(chǎn)導(dǎo)向工具的WSPS系統(tǒng)提供了自動(dòng)晶圓處理，包括SMIF和FOUPloadports的所有選項(xiàng)。所有以軟件標(biāo)準(zhǔn)，如SECS/GEM與工廠控制系統(tǒng)結(jié)合。

VPD原理

以校準(zhǔn)了的化學(xué)溶液或超純水（50?350微升）先以移液管滴到晶片上。之后由高純度管作為引導(dǎo)，在晶片表面形成可編輯的格局。在掃描完成后，管子將在一個(gè)短氮?dú)饷}沖下脫離液滴。

液滴可在晶片的預(yù)定位置上蒸發(fā)(用于TXRF分析)，或利用移液管轉(zhuǎn)移到小瓶（用于ICP-MS分析）。掃描前后可以使用清洗液清洗，再用超純水沖洗掃描官子和移液管。

300/450mm橋梁工具

MunichMetrologyVPD系統(tǒng)和模塊可用于晶圓尺寸可達(dá)450mm。所有450毫米的產(chǎn)品以橋梁工具將兩個(gè)300和450毫米的晶圓一起工作。

系統(tǒng)翻新(RefurbishedSystems)

MunichMetrology可以將舊的GeMeTecVPD產(chǎn)品翻新成一臺(tái)先進(jìn)的系統(tǒng)，請(qǐng)與我們的銷售聯(lián)系。