賽默飛 Element? GD Plus 是一款高分辨輝光放電質(zhì)譜儀（GD?MS），以 Grimm 型快速流輝光放電離子源 + 高分辨磁質(zhì)譜為核心，主打固體樣品直接進(jìn)樣、超痕量多元素同步分析與深度剖析，適配高純金屬、半導(dǎo)體、涂層 / 薄膜及部分非導(dǎo)電材料，檢測(cè)下限達(dá) ppb–ppq 級(jí)，兼顧研發(fā)與高通量質(zhì)控。

核心原理與系統(tǒng)設(shè)計(jì)

1. 分析原理：樣品作為陰極，在氦氣輝光放電環(huán)境中被高能離子濺射產(chǎn)生原子 / 離子，經(jīng)離子源提取、磁質(zhì)譜分離，由三重檢測(cè)器定量；直流（DC）模式適配導(dǎo)體，脈沖模式 + 二次電極可分析非導(dǎo)體，無(wú)需復(fù)雜消解前處理。

   
   

2. 關(guān)鍵配置

• 離子源：快速流 Grimm 型，濺射速率可調(diào)，多原子干擾低，無(wú)需低溫冷卻；陽(yáng)極直徑可選，保證濺射坑形貌均勻，適配體分析與深度剖析。

  
  

• 質(zhì)譜分辨：3 檔固定分辨率（300/4000/10000），切換時(shí)間 < 1 s，快速消除光譜干擾。

  
  

• 檢測(cè)系統(tǒng)：二次電子倍增器（SEM，計(jì)數(shù) / 模擬雙模式）+ 法拉第杯，線性動(dòng)態(tài)范圍 > 1012，覆蓋基體（% 級(jí)）、痕量（ppm）與超痕量（ppb–ppq）分析，自動(dòng)檢測(cè)器切換與交叉校準(zhǔn)。

  
  

• 樣品交換：樣品更換 < 1 min，抽真空周期 < 10 min，通量可達(dá)約 5 樣 / 小時(shí)。

核心技術(shù)參數(shù)

適用場(chǎng)景與核心優(yōu)勢(shì)

1. 核心應(yīng)用領(lǐng)域

• 高純材料：高純金屬（Cu/Al/Ti）、半導(dǎo)體硅 / 靶材、稀土材料的全元素雜質(zhì)篩查，保障 5N–6N 純度質(zhì)控Thermo Fisher Scientific。

• 先進(jìn)制造：航空高溫合金、鋰電材料、增材制件的體成分與痕量雜質(zhì)分析；涂層 / 薄膜的深度剖析（如擴(kuò)散層、多層膜）Thermo Fisher。

• 特殊樣品：陶瓷粉末、氧化物等非導(dǎo)電材料（二次電極 + 脈沖模式），規(guī)避濕法消解污染與損耗。

  
  

2. 核心優(yōu)勢(shì)

• 直接固體進(jìn)樣：無(wú)需消解，減少污染與前處理時(shí)間，適合易污染 / 難溶樣品。

• 寬域精準(zhǔn)：三檔分辨率快速切換，三重檢測(cè)器覆蓋寬濃度范圍，超痕量檢出穩(wěn)定。

• 高效靈活：高通量 + 深度剖析雙模式，適配常規(guī)質(zhì)控與高端研發(fā)。

關(guān)鍵注意事項(xiàng)

1. 樣品表面需平整清潔，無(wú)油污 / 氧化層，非導(dǎo)體需用二次電極或脈沖模式，粉末可壓片處理。

2. 定期更換陽(yáng)極、清潔離子源與透鏡，保證氦氣純度（≥99.999%），降低背景干擾。

3. 低含量分析優(yōu)先選用高分辨率模式，深度剖析需匹配脈沖參數(shù)與濺射速率，確保深度精度。