日立 EDS Quantax75 TM系列專用光譜儀
日立 Regulus 冷場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡SEM
日立 SU8600 冷場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡SEM
日立 SU5000 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡SEM
日立 SU9000 冷場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡 SEM
賽默飛推出的全新臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pharos 搭載肖特基場(chǎng) 發(fā)射電子槍,可穩(wěn)定提供超高信號(hào)質(zhì)量的顯微照片,這意味著無(wú) 需嚴(yán)苛的安裝條件,場(chǎng)發(fā)射電鏡便可以為更多科研工作者提供服 務(wù)。得益于 Phenom Pharos 對(duì)極簡(jiǎn)工業(yè)設(shè)計(jì)原則的秉持,這 款電鏡從安裝到實(shí)際使用的整個(gè)過程都極其簡(jiǎn)單。Pharos 設(shè)計(jì) 精巧,且選用了高質(zhì)量探頭,這使得它的成像速度超快,測(cè)試結(jié) 果穩(wěn)定可靠。
產(chǎn)品技術(shù)參數(shù):
| 掃描電鏡放大倍數(shù)范圍 | 200 x - 1.000.000x | 尺寸 & 重量 | |
| 光學(xué)顯微鏡放大 | 20 x - 134 x | 主機(jī) | 286(w) x 566(d) x 545(h) mm, 53 kg |
| 加速電壓 | 2 kV - 15 kV | 真空泵 | 145(w) x 220(d) x 213(h) mm, 4.5 kg |
| 分辨率 | 優(yōu)于 2.5 nm@15kV | 電源 | 156(w) x 300(d) x 74(h) mm, 3 kg |
| 樣品臺(tái) | 全自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái) | 顯示器 | 375(w) x 203(d) x 395(h) mm, 7.9 kg |
| 定位 | 全自動(dòng)樣品定位與回溯 | ProSuite | 375(w) x 250(d) x 395(h) mm, 9 k g標(biāo)準(zhǔn)的ProSuite 系統(tǒng)包括: ? 19” 顯示器的電腦 ? 路由器 |
| 探測(cè)器 | 環(huán)境條件 | ||
| 標(biāo)配 | 背散射電子探測(cè)器 | 溫度 | 15°C ~ 30°C (59°F ~ 86°F) |
| 選配 | ? 二次電子探測(cè)器 ? 能譜探測(cè)器 | 濕度 | < 80% RH |
| 電子源 | 肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源 | 電源 | 單相交流電 110 - 240 V 50/60 Hz, 400 W (最大功率) |
| 真空模式 | ? 高真空 ? 中真空 ? 低真空 | 建議桌面尺寸 | 150 x 75 cm,載重 100 kg |
能譜面掃描和線掃描
元素面掃描功能顯示整個(gè)樣品的元素分布。指定像素分辨率和獲 取時(shí)間之后,即可獲取某元素的分布情況。實(shí)時(shí)面掃描算法實(shí)時(shí) 顯示所選元素的分布情況。對(duì)于用戶來說,只需選取感興趣的位 置即可。 線掃描功能顯示了線圖中的量化的元素分布。這對(duì)于涂層、涂料 和其他多層樣品尤其有用。所有的面掃描和線掃描功能的結(jié)果都 可以通過自動(dòng)化的報(bào)表模板輕松導(dǎo)出。
二次電子探測(cè)器
二次電子探測(cè)器 (SED) 可選用在 Phenom Pharos 上,SED 從 樣品的表層收集低能量電子。因此,它是分析樣品表面信息的最 佳選擇。SED 可以很好地應(yīng)用于表面和形態(tài)分析。在研究微觀結(jié) 構(gòu)、納米結(jié)構(gòu)或顆粒時(shí),這就很有意義。
應(yīng)用多樣性
為滿足不同領(lǐng)域的測(cè)試需求,Phenom Pharos 擁有多種特定功 能的樣品杯,如金相杯、溫控杯、原位通電杯和傾斜旋轉(zhuǎn)杯等。 測(cè)試時(shí),您只需簡(jiǎn)單更換樣品杯,就能滿足特殊樣品的測(cè)試需求。


報(bào)價(jià):¥5000000
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