RQC-2S全自動磁控離子濺射儀
? 靶材后有永磁鐵
? 靶材上施加電壓為-400 ~ -600V，樣品臺接地
? 絕大部分電子和負離子在電場和磁場的共同作用下，做螺旋線運動，
單個電子電離的氣體分子大大多于直流，因此，在較好的真空、較 低的電壓下即可獲得較大的電流;
? 在磁場在作用下，絕大部分電子和部分負離子落在靶材附近，無法 到達樣品臺，對樣品基本沒有熱損傷
工作特點: 濺射電流與壓力無關、基本沒有熱損傷
應用領域: 適用于所有樣品，尤其是溫度敏感性樣品、如生物、聚合物等樣品
工作時真空度好，鍍膜的顆粒度更小，更適用場發(fā)射等高分辨觀測 電極制備
報價：￥80000
已咨詢383次樣品制備
報價：￥40000
已咨詢414次樣品制備
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已咨詢204次離子濺射儀
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已咨詢1353次美國 TED Pella
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已咨詢1726次日立電鏡制樣設備
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已咨詢256次鍍膜儀
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已咨詢201次離子濺射儀
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已咨詢11786次微流控壓力泵或壓力控制器
LJ-16離子濺射儀是專用于掃描電鏡（SEM）的樣品噴金鍍膜系統，能夠極為有效的提高電鏡觀測效果。 操作簡便，性能優(yōu)越，質量穩(wěn)定，功能豐富
108離子濺射儀是一款結構緊湊的桌上型鍍膜系統，特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。 描述 108離子濺射儀是一款結構緊湊的桌上型鍍膜系統，特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。 主要特性 l 通過GX低壓直流磁控頭進行冷態(tài)精細的噴鍍過程，避免樣品表面受損。 l 操作容易快捷，控制的參數包括放氣以及氬氣換氣控制。 l 可用MTM-10高分辨膜厚控制儀（選件）精確測定所鍍膜的厚度。 l 數字化的噴鍍電流控制不受樣品室內氬氣壓力影響，可得到一致的鍍膜速率和ZJ的鍍膜效果。 可使用多種金屬靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶為標配），靶材更換快速方便。
整體含濺射主機和真空系統組成，濺射靶頭被設置成為一個二級濺射結構，通過均勻恒定的電場激發(fā)并電離氣體分子，形成穩(wěn)定的輝光放電現象，被電離的離子和電子在這個電場下進行加速，從而使靶原子逃離靶材表面在樣品上面形成納米涂層 配套世界主流掃描電子顯微鏡廠家： 熱電（美國原荷蘭）FEI鎢絲陰極、場發(fā)射、飛納臺式等各類型電子顯微鏡，蔡司（德國）鎢絲陰極、場發(fā)射各系列的掃描電子顯微鏡，JEOL（日本電子）各類電鏡，日立（日本）各系列電鏡、臺式電鏡，TESCAN泰斯肯（捷克）各系列電鏡，還有如韓國“賽科”、COXEM庫賽姆、MIRERO等電鏡品牌及所有需要樣品前期處理，提高成像質量、增強導電性能等表面鍍膜處理的樣品制備工作。
全自動真空離子濺射儀噴金儀 直流濺射鍍膜導電處理優(yōu)勢看得見：全自動微電腦控制，更智能； 專利技術，1 0秒更換靶材； 樣品臺內置高度調節(jié)功能，1秒即可調節(jié)； 內置1 0步操作向導，5分鐘即可熟練使用設備；
全自動真空離子濺射儀噴金儀 磁控濺射鍍膜導電處理優(yōu)勢看得見：全自動微電腦控制，更智能； 專利技術，1 0秒更換靶材； 樣品臺內置高度調節(jié)功能，1秒即可調節(jié)； 內置1 0步操作向導，5分鐘即可熟練使用設備；
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