Nanoscribe Quantum X align對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻系統(tǒng)
Nanoscribe超高速雙光子灰度光刻技術(shù)微納3D打印設(shè)備
Nanoscribe超高速雙光子灰度光刻技術(shù)微納3D打印設(shè)備
Nanoscribe 突破二維局限實(shí)現(xiàn)三維微流道結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
Nanoscribe 3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域
Nanoscribe第一款工業(yè)級(jí)高速灰度光刻微納打印系統(tǒng) - Quantum X
德國(guó)Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會(huì)展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng) Quantum X ,并榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。該系統(tǒng)是世界No.1基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)的精密加工微納米打印系統(tǒng),可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。該系統(tǒng)的面世代表著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動(dòng)化系統(tǒng)的Quantum X無論從外形或者使用體驗(yàn)上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。
Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)
這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到j(luò)ing準(zhǔn)同步,這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的卓越性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高端復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng) - 多種獨(dú)特智能化解決方案:
·配備自動(dòng)識(shí)別匹配不同物鏡,樣品架以及樹脂的功能,有助于樣品制備和硬件配置之間的切換,從而加快整個(gè)工作流程。
·配備從始至終的智能軟件向?qū)Чδ?,以?jiǎn)化從最初準(zhǔn)備到創(chuàng)建打印作業(yè)的整個(gè)流程。
·配備三個(gè)實(shí)時(shí)監(jiān)控?cái)z像頭可同時(shí)監(jiān)管打印作業(yè)并支持直觀操作?,F(xiàn)在用戶可以直接在內(nèi)置觸控屏上隨時(shí)檢查作業(yè)狀態(tài),控制打印過程并可隨時(shí)顯示和調(diào)整打印效果。
技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)地:德國(guó)全進(jìn)口
打印技術(shù):雙光子灰度光刻 (2GL)
三維橫向特征尺度:160nm
**分辨率:400nm
最小表面粗糙度:≤10nm
激光掃描速度:≤250mm/s
納糯三維科技(上海)有限公司作為Nanoscribe全資子公司擴(kuò)大了銷售范圍,并加強(qiáng)了售后服務(wù)支持。
報(bào)價(jià):面議
已咨詢12354次QuantumX平臺(tái)
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已咨詢10782次Quantum X align
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已咨詢419次光刻機(jī)
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已咨詢106次微納3D打印機(jī)
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已咨詢99次微納3D打印機(jī)
高分辨率專利A2PL技術(shù)3D打印應(yīng)用于納米級(jí)精度對(duì)準(zhǔn) 再光纖和芯片上進(jìn)行3D打印 納米級(jí)精度3D對(duì)準(zhǔn)技術(shù) 光學(xué)級(jí)三維打印
GP-Silica 是全球首款石英玻璃微納結(jié)構(gòu)3D打印光刻膠
由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于超高分辨率微納加工的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有超高形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。
雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。
雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。
高精度的增材制造可打印出尖端的折射微納光學(xué)元件。得益于雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計(jì)自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點(diǎn),您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。
借助我們雙光子聚合技術(shù)獨(dú)有的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。