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Nanoscribe超高速雙光子灰度光刻技術(shù)微納3D打印設(shè)備

面議 (具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn))
nanoscribe Quantum X 歐洲 德國(guó) 2026-04-14 11:41:52
售全國(guó) 入駐:8年 等級(jí):銀牌 營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核
同款產(chǎn)品:Quantum X align(2件)
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產(chǎn)品特點(diǎn):

Quantum X新型超高速無掩模光刻技術(shù)的核心是Nanoscribedu家ZL的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)。該技術(shù)將灰度光刻的zhuo越性能與雙光子聚合的精確性和靈活性wan美結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高端復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝大大縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。

產(chǎn)品詳情:

Nanoscribe第一款工業(yè)級(jí)高速灰度光刻微納打印系統(tǒng) - Quantum X

德國(guó)Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會(huì)展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng) Quantum X ,并榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。該系統(tǒng)是世界No.1基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)的精密加工微納米打印系統(tǒng),可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。該系統(tǒng)的面世代表著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動(dòng)化系統(tǒng)的Quantum X無論從外形或者使用體驗(yàn)上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。


Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)

這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到j(luò)ing準(zhǔn)同步,這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的卓越性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高端復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。


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Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng) - 多種獨(dú)特智能化解決方案
·配備自動(dòng)識(shí)別匹配不同物鏡,樣品架以及樹脂的功能,有助于樣品制備和硬件配置之間的切換,從而加快整個(gè)工作流程。

·配備從始至終的智能軟件向?qū)Чδ?,以?jiǎn)化從最初準(zhǔn)備到創(chuàng)建打印作業(yè)的整個(gè)流程。

·配備三個(gè)實(shí)時(shí)監(jiān)控?cái)z像頭可同時(shí)監(jiān)管打印作業(yè)并支持直觀操作?,F(xiàn)在用戶可以直接在內(nèi)置觸控屏上隨時(shí)檢查作業(yè)狀態(tài),控制打印過程并可隨時(shí)顯示和調(diào)整打印效果。


技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)地:德國(guó)全進(jìn)口

打印技術(shù):雙光子灰度光刻 (2GL)

三維橫向特征尺度:160nm

**分辨率:400nm

最小表面粗糙度:≤10nm

激光掃描速度:≤250mm/s


納糯三維科技(上海)有限公司作為Nanoscribe全資子公司擴(kuò)大了銷售范圍,并加強(qiáng)了售后服務(wù)支持。

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Nanoscribe 微機(jī)械和MEMS

借助我們雙光子聚合技術(shù)獨(dú)有的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn),您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。

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