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美國TED PELLA 208HR高分辨離子濺射儀

面議 (具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn))
美國泰德派勒 208HR 美洲 美國 2026-04-14 12:21:06
售全國 入駐:8年 等級:金牌 營業(yè)執(zhí)照已審核
同款產(chǎn)品:美國 TED Pella(3件)
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產(chǎn)品特點(diǎn):

美國TED PELLA 208HR高分辨離子濺射儀-適用于場發(fā)射掃描電鏡,208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。
場發(fā)射掃描電鏡觀察時,樣品需鍍上極其薄、無細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累,并提高低密度材料的對比度。為了將細(xì)晶的尺寸減小到zui小程度,208HR提供了一系列的鍍膜材料,并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。

產(chǎn)品詳情:


美國TED PELLA 208HR高分辨離子濺射儀-適用于場發(fā)射掃描電鏡

 

一、主要特性

。可選擇多種鍍膜材料

。精確的膜厚控制

。樣品臺控制靈活:可對樣品臺進(jìn)行獨(dú)立的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動、傾斜控制,保證形貌差異大的樣品也能得到**的鍍膜效果。

。多個樣品座:提供4個樣品座,每個樣品座直徑32mm,可裝載多達(dá)6個小樣品座。

。樣品室?guī)缀慰勺儯?/strong> 樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率(1.0nm/s ~ 0.002nm/s)

。寬范圍的操作壓力:獨(dú)立的功率和壓力調(diào)節(jié),氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar。

。緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)

。操作容易

 

二、技術(shù)參數(shù)

濺射系統(tǒng)

鍍膜頭

低電壓平面磁控管

靶材更換快速

環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩

靶材調(diào)節(jié)遮擋

靶材

Cr, Pt/Pd (標(biāo)配) 
Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir (選配)

鍍膜控制

微處理器控制

安全互鎖

電流控制與真空度無關(guān)

數(shù)字化可選電流(20,40,60 和 80mA)

樣品室大小

直徑150mm
高度165 - 250mm

樣品臺

非重復(fù)的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動,并可手動傾斜0-90°
轉(zhuǎn)動速度可調(diào) 
晶體頭
4個樣品臺

模擬計(jì)量

真空 Atm - .001mb 
電流 0-100mA

控制方法

自動氣體凈化和泄氣功能

自動處理排序

帶有“暫停”功能的數(shù)字計(jì)時器

自動放氣

膜厚控制

MTM-20高分辨膜厚控制儀

真空系統(tǒng)

結(jié)構(gòu)

分子渦輪牽引泵和旋葉泵組合,

代替旋葉泵的無油渦旋式真空泵(選配)

抽真空速度

0.1mb 下300 l/min

抽真空時間

1 mbar  至 1 x 10-3mbar

極限真空

1 x 10-5mbar

桌上型系統(tǒng)

旋葉泵置于抗震臺上,全金屬真空耦合系統(tǒng)

膜厚測控儀

MTM-20

基于微處理器,4位數(shù)字顯示,復(fù)位按鈕, 6MHz晶體(具有壽命檢查功能),5次/s的更新速率

膜厚范圍

0.0 - 999.9nm

分辨率

優(yōu)于 0.1nm

密度范圍

0.50 - 30.00gm/cm3

修正系數(shù)范圍

0.25 - 8.00

鍍膜終止范圍

膜厚0 - 999.9nm

系統(tǒng)要求

電氣

100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz

功率

550VA(最大)

氬氣

最小純度99.995% 
調(diào)節(jié)壓力 5 - 6 psi (0.4 bar) 
6.0mm ID連接軟管

 

 

208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。

場發(fā)射掃描電鏡觀察時,樣品需鍍上極其薄、無細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累,并提高低密度材料的對比度。為了將細(xì)晶的尺寸減小到最小程度,208HR提供了一系列的鍍膜材料,并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。

 

208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力,可以對膜層的均勻性和一致性進(jìn)行精確控制,并盡大程度減小充電效應(yīng)。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便。

MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm,其作用是對所鍍薄膜的厚度進(jìn)行精確控制,它尤其適合場發(fā)射電鏡對膜厚(0.5-3nm)的要求。

 

場發(fā)射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是:

    。Pt/Pd:非導(dǎo)電樣品鍍膜的通用鍍膜材料

     。Cr:優(yōu)良的半導(dǎo)體樣品的鍍膜材料

。Ir:優(yōu)良的真正無細(xì)晶的鍍膜材料

 

208HR系統(tǒng)為得到**高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇,可配備標(biāo)準(zhǔn)的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵,標(biāo)配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。

 


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