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頻繁且經(jīng)濟(jì)有效的光譜表征對(duì)于開發(fā)具有競(jìng)爭(zhēng)力的光學(xué)薄膜涂層非常重要。完全自動(dòng)化且無(wú)人值守的光譜測(cè)量有助于降低每次分析的成本、提高分析效率，還有助于擴(kuò)展質(zhì)保程序。在生產(chǎn)過(guò)程中，滿負(fù)荷運(yùn)轉(zhuǎn)的沉積室中常會(huì)涂覆大面積、通常呈圓形的襯底晶片。GX的光學(xué)表征工具必須能夠在晶片被切割之前從用戶指定的晶片表面的特征點(diǎn)獲得準(zhǔn)確且有意義的信息。
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