- 2025-04-23 07:01:59KRF
- KRF通常指的是刻蝕工藝中的一種技術(shù)，即反應(yīng)離子刻蝕（Reactive Ion Etching）。它是一種利用物理濺射與化學(xué)反應(yīng)相結(jié)合的方法來(lái)去除材料的技術(shù)。在KRF工藝中，使用的氣體主要是氟化氪（KrF）激光光源產(chǎn)生的氣體混合物，這些氣體在電場(chǎng)作用下形成等離子體，對(duì)硅片表面進(jìn)行各向異性刻蝕。KRF技術(shù)因其高精度和適用于多種材料的刻蝕特性，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。
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