- 2025-01-21 09:33:41徠卡離子束研磨
- 徠卡離子束研磨是一種高精度的材料表面加工技術(shù),它利用聚焦的離子束對(duì)樣品表面進(jìn)行微納尺度的去除和塑形。該技術(shù)具有加工精度高、邊緣效應(yīng)小、適用于復(fù)雜幾何形狀樣品等優(yōu)勢(shì),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的樣品制備和分析中。通過精確控制離子束的能量和束流,徠卡離子束研磨能夠?qū)崿F(xiàn)納米級(jí)的表面平整度和精確的樣品厚度控制,為科研和工業(yè)生產(chǎn)提供高質(zhì)量的樣品處理解決方案。
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- 在傳統(tǒng)的制樣方法中,針對(duì)目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行定點(diǎn)切割、研磨或者拋光等通常是一項(xiàng)耗時(shí)耗力困難的工作,因?yàn)槟繕?biāo)區(qū)域極易丟失或由于目標(biāo)尺寸太小而難以處理。針對(duì)此類樣品,使用徠卡的精研一體機(jī)EM TXP可以輕易地處理
徠卡離子束研磨產(chǎn)品
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徠卡離子束研磨問答
- 2025-02-01 18:10:12徠卡偏光顯微鏡生產(chǎn)商是誰
- 標(biāo)題:徠卡偏光顯微鏡生產(chǎn)商是誰 在顯微鏡行業(yè),徠卡(Leica)一直被認(rèn)為是高端顯微鏡設(shè)備的代表,尤其是在偏光顯微鏡領(lǐng)域。偏光顯微鏡因其對(duì)樣品中結(jié)構(gòu)、成分、應(yīng)力和光學(xué)特性的分析而廣泛應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、材料科學(xué)、地質(zhì)學(xué)等多個(gè)研究領(lǐng)域。作為全球知名的顯微鏡品牌,徠卡偏光顯微鏡的生產(chǎn)商究竟是誰?本文將揭示這一問題,并深入探討徠卡品牌在顯微鏡技術(shù)領(lǐng)域中的領(lǐng)先地位。 徠卡偏光顯微鏡的生產(chǎn)商:徠卡顯微系統(tǒng) 徠卡顯微系統(tǒng)(Leica Microsystems)是偏光顯微鏡的主要生產(chǎn)商,屬于全球領(lǐng)先的顯微鏡制造公司之一。徠卡顯微系統(tǒng)總部位于德國,是德國史陶比爾集團(tuán)(Danaher Corporation)的一部分,史陶比爾集團(tuán)是一家全球性的科技公司,專注于各種科學(xué)儀器的研發(fā)和生產(chǎn)。徠卡顯微系統(tǒng)致力于為科研人員、醫(yī)療機(jī)構(gòu)和工業(yè)界提供高質(zhì)量的顯微鏡解決方案,其中包括偏光顯微鏡系列。 徠卡顯微系統(tǒng)以其創(chuàng)新的技術(shù)、的圖像質(zhì)量和精確的光學(xué)設(shè)計(jì)而聞名。偏光顯微鏡在材料分析和巖石學(xué)等領(lǐng)域中,特別能體現(xiàn)出其非凡的優(yōu)勢(shì)。徠卡的偏光顯微鏡通過精密的光學(xué)元件和高分辨率的成像能力,能幫助科學(xué)家們觀察樣品的內(nèi)部結(jié)構(gòu)和成分,揭示細(xì)微的物理變化和微觀現(xiàn)象。 徠卡偏光顯微鏡的技術(shù)優(yōu)勢(shì) 徠卡顯微系統(tǒng)的偏光顯微鏡采用多項(xiàng)創(chuàng)新技術(shù),確保其在全球顯微鏡行業(yè)中的領(lǐng)先地位。徠卡顯微鏡配備了獨(dú)特的偏振光學(xué)系統(tǒng),能夠進(jìn)行高效的應(yīng)力分析和顯微結(jié)構(gòu)的觀察。在地質(zhì)學(xué)和材料科學(xué)中,樣品的光學(xué)特性可以通過偏光顯微鏡清晰呈現(xiàn),幫助研究人員準(zhǔn)確分析巖石、礦物和纖維等樣本。 徠卡顯微鏡還結(jié)合了先進(jìn)的數(shù)字成像技術(shù),提供高分辨率和高對(duì)比度的圖像,便于用戶捕捉細(xì)節(jié)和進(jìn)行后續(xù)分析。集成的圖像分析軟件使得數(shù)據(jù)處理和分析變得更加簡便,進(jìn)一步提升了科研效率。 為什么選擇徠卡偏光顯微鏡? 選擇徠卡偏光顯微鏡的理由不僅僅在于其的光學(xué)性能,還在于其強(qiáng)大的品牌背書和廣泛的應(yīng)用場(chǎng)景。無論是學(xué)術(shù)研究,還是工業(yè)檢測(cè),徠卡顯微系統(tǒng)都提供定制化的解決方案,滿足不同領(lǐng)域用戶的需求。特別是在高端顯微鏡市場(chǎng),徠卡憑借其多年的經(jīng)驗(yàn)和專業(yè)積淀,已成為眾多科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)的首選品牌。 總結(jié) 徠卡偏光顯微鏡由徠卡顯微系統(tǒng)生產(chǎn),憑借其的技術(shù)和創(chuàng)新的設(shè)計(jì),成為全球顯微鏡行業(yè)的佼佼者。無論是在科研還是應(yīng)用實(shí)踐中,徠卡偏光顯微鏡都為用戶提供了無與倫比的精確性和可靠性,深受世界各地專業(yè)人士的推崇。通過不斷提升產(chǎn)品技術(shù),徠卡顯微系統(tǒng)持續(xù)引領(lǐng)著顯微鏡行業(yè)的發(fā)展潮流。
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- 2022-11-25 16:10:30離子束刻蝕(IBE)技術(shù)研究
- 離子束刻蝕(IBE)技術(shù)研究 1.離子束刻蝕(IBE)技術(shù)的原理?離子束刻蝕(IBE,Ion Beam Etching)也稱為離子銑(IBM,Ion Beam Milling),也有人稱之為離子濺射刻蝕,是利用輝光放電原理將氬氣分解為氬離子,氬離子經(jīng)過陽極電場(chǎng)的加速對(duì)樣品表面進(jìn)行物理轟擊,以達(dá)到刻蝕的作用。刻蝕過程即把Ar氣充入離子源放電室并使其電離形成等離子體,然后由柵極將離子呈束狀引出并加速,具有一定能量的離子束進(jìn)入工作室,射向固體表面轟擊固體表面原子,使材料原子發(fā)生濺射,達(dá)到刻蝕目的,屬純物理刻蝕。工件表面有制備溝槽的掩膜,最后裸露的部分就會(huì)被刻蝕掉,而掩膜部分則被保留,形成所需要的溝槽圖形。離子束刻蝕使高方向性的中性離子束能夠控制側(cè)壁輪廓,優(yōu)化納米圖案化過程中的徑向均勻性和結(jié)構(gòu)形貌。另外傾斜結(jié)構(gòu)可以通過傾斜樣品以改變離子束的撞擊方向這一獨(dú)特能力來實(shí)現(xiàn)。在離子束刻蝕過程中,通常情況下,樣品表面采用厚膠作為掩模層,刻蝕期間富有能量的離子流會(huì)使得基片和光刻膠過熱。為了便于后面光刻膠的剝離清洗,一般需要對(duì)樣品臺(tái)進(jìn)行冷卻處理,使整個(gè)刻蝕過程中溫度控制在一個(gè)比較好的范圍。 圖1 離子束刻蝕設(shè)備結(jié)構(gòu)圖圖2 離子束刻蝕工藝原理圖 2.離子束刻蝕(IBE)適合的材料體系?可用于刻蝕加工各種金屬(Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等)及其合金,以及非金屬、氧化物、氮化物、碳化物、半導(dǎo)體、聚合物、陶瓷、紅外和超導(dǎo)等材料。目前離子束刻蝕在非硅材料方面優(yōu)勢(shì)明顯,在聲表面波、薄膜壓力傳感器、紅外傳感器等方面具有廣泛的用途。 3. 離子束刻蝕(IBE)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)?a 優(yōu)點(diǎn): (1)方向性好、無鉆蝕、陡直度高; (2)刻蝕速率可控性好,圖形分辨率高,可達(dá)0.01um; (3)屬于物理刻蝕,可以刻蝕各種材料(Si、SiO2、GaAs、Ag、Au、光刻膠等); (4)刻蝕過程中可改變離子束入射角來控制圖形輪廓,加工特殊的結(jié)構(gòu);b 缺點(diǎn): (1)刻蝕速率慢、效率比ICP更低; (2)難以完成晶片的深刻蝕; (3)屬于物理刻蝕,常常會(huì)有過刻的現(xiàn)象。 4.反應(yīng)離子束刻蝕(RIBE)技術(shù)簡介及優(yōu)點(diǎn)?反應(yīng)離子束刻蝕(RIBE)是在離子束刻蝕的基礎(chǔ)上,增加了腐蝕性氣體,因此它不但保留了離子束物理刻蝕能力,還增加了腐蝕性氣體(氟基氣體、O2)離化后對(duì)樣品的化學(xué)反應(yīng)能力(反應(yīng)離子束刻蝕:RIBE),也支持腐蝕性氣體非離化態(tài)的化學(xué)輔助刻蝕能力(化學(xué)輔助離子束刻蝕:CAIBE),對(duì)適用于化學(xué)輔助的材料可以大幅度提升刻蝕速率,提高刻蝕質(zhì)量。 5. 離子束刻蝕(IBE)的案例展示 典型應(yīng)用:1、三族和四族光學(xué)零件2、激光光柵3、高深寬比的光子晶體刻蝕4、在二氧化硅、硅和金屬上深溝刻蝕5、微流體傳感器電極6、測(cè)熱式微流體傳感器
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- 2022-08-16 21:44:30福州大學(xué)離子束刻蝕機(jī)順利驗(yàn)收
- 福州大學(xué)離子束刻蝕機(jī)順利驗(yàn)收烈日炎炎,熱情滿心間!后疫情時(shí)代,NANO-MASTER工程師步履不停,一站接一站為客戶提供設(shè)備安裝調(diào)試服務(wù)。首站福州大學(xué),那諾-馬斯特工程師已順利安裝驗(yàn)收NIE-3500型離子束刻蝕機(jī)!性能配置:離子束刻蝕機(jī)用于刻蝕金屬和介質(zhì),z大可支持6”晶圓。配套美國考夫曼-羅賓遜 KDC160離子槍,650mA,100-1200V??涛g速率:~250A/min對(duì)Au;刻蝕均勻度:對(duì)4”片,片內(nèi)均勻性優(yōu)于±3%,重復(fù)性優(yōu)于±3%。樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速0-30RPM精確可控;可任意角度傾斜,支持斜齒刻蝕;帶水冷功能,刻蝕后易去除光刻膠。極限真空12小時(shí)可達(dá)6x10-7Torr,15分鐘可達(dá)10-6Torr量級(jí)的真空;采用雙真空計(jì),長期可靠,使用穩(wěn)定。14”不銹鋼立方腔體,配套一臺(tái)主控計(jì)算機(jī),20”觸摸屏監(jiān)控,配合Labview軟件,實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)全自動(dòng)工藝控制,并可在電源中斷情況下安全恢復(fù);完全的安全聯(lián)鎖;支持百級(jí)超凈間使用。驗(yàn)收培訓(xùn):安裝調(diào)試視頻:
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- 2023-06-02 10:40:43徠卡進(jìn)入自主共聚焦顯微鏡時(shí)代
- 人工智能(AI)正在成為生命科學(xué)研究的一個(gè)組成部分。當(dāng)人工智能被正確地整合到顯微成像工作流程中,可以使研究人員以更高效的方式收集數(shù)據(jù),并進(jìn)行以前無法完成的實(shí)驗(yàn)。用于STELLARIS共聚焦平臺(tái)的全新稀有事件檢測(cè)工作流程就是這樣一種基于人工智能的工具。STELLARIS的數(shù)據(jù)采集和Aivia的人工智能圖像分析的協(xié)同作用,能夠幫助科研人員快速獲得高質(zhì)量的信息并減少工作量。稀有事件檢測(cè)工作流程能夠穩(wěn)定地檢測(cè)出生物樣本中高達(dá)90%的稀有事件,并且大幅度地縮短了采集時(shí)間,最 高可達(dá)70%。由于只有感興趣的區(qū)域被以高分辨率成像記錄下來,可以避免大量不必要的數(shù)據(jù)。以前受限于時(shí)間和復(fù)雜性而不可能進(jìn)行的實(shí)驗(yàn),現(xiàn)在可以通過稀有事件檢測(cè)工作流程來實(shí)現(xiàn)。更多信息請(qǐng)關(guān)注后續(xù)的內(nèi)容!
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- 2023-02-01 17:28:41高通量組織研磨儀!助力生物樣品研磨實(shí)驗(yàn)!
- 有用戶講高通量組織研磨儀設(shè)備實(shí)驗(yàn)室用的少,其實(shí)主要是你沒有看到,你往農(nóng)業(yè)領(lǐng)域去看看,對(duì)種子等樣品的研磨基本都是應(yīng)用的高通量多樣品組織研磨儀,說起這組織研磨儀,那就不得不提提他應(yīng)用的特點(diǎn)有哪些了,真的是讓人超助力! 高通量組織研磨儀采用上下垂直高速振蕩模式,可快速促進(jìn)細(xì)胞快速破碎、細(xì)胞裂解、組織均勻,使樣品研磨更加均勻;對(duì)樣品研磨的重復(fù)性更好,樣品間無交叉污染,節(jié)省時(shí)間和人工成本,是一種高通量、高效率、高效率的樣品預(yù)處理技術(shù)。其還具有冷凍組件,可滿足用戶研磨和保存溫度敏感樣品的需求?! 「咄拷M織研磨儀儀應(yīng)用性能: 1、超高通量組織研磨儀一次可處理多個(gè)樣品 2、超高效率處理,利用垂直振蕩研磨技術(shù),可在短時(shí)間內(nèi)完成困難樣品研磨、均質(zhì) 3、高均一性,批量處理樣品,程序化處理機(jī)制,均一性、重復(fù)性更好 4、更人性化,可調(diào)角度彩色觸摸顯示屏,可編輯、調(diào)用、存儲(chǔ)500種方法 5、適用性廣,程序可調(diào),更多研磨瓶、研磨介質(zhì)可供選擇,完美契合不同樣品研磨、混勻需求 6、安全可靠,雙重門鎖,研磨過程更安全;設(shè)置保密程序,限制查看特定方法 7、適用于對(duì)多種樣品的干磨、濕磨、冷凍研磨 8、分隔設(shè)計(jì),使用封閉式的專用研磨罐或一次性的離心管,避免樣品交叉污染?! 「咄拷M織研磨儀那獨(dú)特的水平?jīng)_擊研磨原理可使其樣品的研磨效果更好;如果采用冷凍操作,樣品研磨和核酸提取都沒有問題;該高通量組織研磨儀的研磨范圍廣,使用封閉樣品管不產(chǎn)生交叉污染,更安全,其樣品的實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)確率更高。另外,該高通量組織研磨儀不只只是應(yīng)用在農(nóng)業(yè)領(lǐng)域,在生物醫(yī)藥、地質(zhì)、法醫(yī)、食品、冶金、化工、環(huán)境、質(zhì)檢、高校等各行各業(yè)均有應(yīng)用,對(duì)生物樣品的研磨,那也是可圈可點(diǎn)的。
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