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2025-01-24 09:34:44微納生物顯徽鏡: 微納生物顯微鏡是一種高精度的科研儀器，專門用于觀察和研究微生物、細胞及納米級生物結構。它采用先進的光學系統(tǒng)和成像技術，能夠提供高分辨率、高放大倍數(shù)的圖像，幫助科研人員深入了解生物樣本的微觀特征。該顯微鏡廣泛應用于生物學、醫(yī)學、材料科學等領域，是科研實驗室中不可或缺的重要工具。其高精度、高靈敏度的特點，使得科研人員能夠更準確地解析生物樣本的結構和功能，推動相關領域的研究進展。

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微納生物顯徽鏡問答

2023-02-10 18:22:46STED顯納鏡顯示線粒體蛋白質的合成情況: 人類線粒體DNA編碼了13種重要的多肽，這些多肽是連接氧化磷酸化（OXPHOS）復合物的多亞基復合物的組成部分，這些復合物主要存在于內(nèi)陷的嵴膜上。內(nèi)界膜（IBM）含有豐富的動態(tài)接觸位點，用于從細胞膜導入蛋白質的移位酶。大多數(shù)OXPHOS亞單位采用核編碼，因此必須通過外膜在與內(nèi)界膜的接觸位點處從胞漿中導入。由于大多數(shù)OXPHOS成分導入后需與mtDNA編碼的成分整合組裝，那么線粒體內(nèi)翻譯發(fā)生于何處？由于線粒體編碼的成分也是這些復合物的組成部分，所以蛋白質合成發(fā)生于何處？題圖：以STED顯納鏡分辨率拍攝的人類線粒體網(wǎng)絡截面。(更多細節(jié)見圖1）。本論文采用了基于點擊化學的方法，并結合受激發(fā)射損耗顯納鏡（STED）來解決以上問題。報告顯示，在培養(yǎng)的人類細胞中，大部分線粒體蛋白質的合成是在嵴膜上檢測到的，且在空間上與RNA加工和成熟的位點相分離。圖1：圖片顯示了人類線粒體網(wǎng)絡截面，以共聚焦顯微鏡和STED顯納鏡的分辨率拍攝，用775nmSTED激光器損耗AF594，用660nmSTED激光器損耗AF532。這些圖片是顯示新合成蛋白質的亞線粒體位置的關鍵圖像。綠色的熒光信號代表新合成的線粒體蛋白，品紅色是線粒體內(nèi)界膜中發(fā)現(xiàn)的線粒體蛋白（TIM23）的免疫熒光抗體。閱讀完整文章：Zorkau M., Albus C., Berlinguer-Palmini R., Chrzanowska-Lightowlers Z. & Lightowlers R.Zorkau M., Albus C., Berlinguer-Palmini R., Chrzanowska-Lightowlers Z. & Lightowlers R.High-resolution imaging reveals compartmentalization of mitochondrial protein synthesis in cultured human cellsPNAS February 9, 2021 118 (6) e2008778118; https://doi.org/10.1073/pnas.2008778118

2023-02-08 11:59:58用STED顯納鏡定量顯示線粒體的動態(tài)變化: 線粒體是重要的細胞器，可產(chǎn)生支持生物細胞整個生命周期所需的能量。然而，傳統(tǒng)的熒光顯微鏡分辨率不足以對線粒體嵴進行可視化。本研究證實了光學STED顯納鏡能以納米級分辨率長時間研究細胞內(nèi)的生理過程。本研究開發(fā)了一種增強型方酸變體染料（MitoESq-635），以超高分辨率方法研究活細胞中線粒體嵴的動態(tài)結構。對活體HeLa細胞中的線粒體內(nèi)膜進行了超過50分鐘的延時成像（每幀3.9秒，間隔71.5秒），分辨率為35.2nm?？汕宄赜^察到線粒體融合和裂變過程中線粒體嵴的形態(tài)和形狀。在與低功率STED結合使用的情況下，MitoESq-635的標記特異性和性能使其非常適合作為線粒體長期超高分辨率成像的下一代標準方法。圖1：共焦顯微鏡（左）和STED顯納鏡（右）成像的比較。圖像中的綠色虛線所示的強度截面表明，用STED超高分辨率顯微鏡可獲得35.2nm的分辨率。比例尺為5μm。圖2：線粒體的延時STED成像顯示了融合過程中線粒體嵴的動態(tài)變化。線粒體發(fā)生了從線狀到氣泡狀的動態(tài)變化。上面兩行的比例尺為2μm，下面一行的比例尺為1μm。閱讀完整文章：Yang X., Yang Z., Wu Z., He Y., ShanC., Chai P., Ma C., Tian M., Teng J., Jin D., Yan W., Das P., Qu J. & Xi P.:Yang X.、Yang Z.、Wu Z.、He Y.、ShanC.、Chai P.、Ma C.、Tian M.、Teng J.、Jin D.、Yan W.、Das P.、Qu J.和Xi P.：Mitochondrial dynamics quantitatively revealed by STED nanoscopy with an enhanced squaraine variant probeNature Communications volume 11, Article number: 3699 (2020)

2023-02-05 09:13:27納克微束祝您元宵節(jié)快樂！: 萬家燈火，歡樂元宵！納克微束祝大家好夢皆圓！

2023-02-01 14:56:12蔡司激光共聚焦顯微鏡-微納器件的表征分析: 對微納器件進行表征時，常關注的便是器件的表面形貌和三維尺寸信息，比如粗糙度、深度、體積等，這些都是評價微納加工工藝的重要指標。然而，在進行表面三維的分析工作中，我們可能常遇到這樣的苦惱：　　光學明場無法直接定位到亞微米級缺陷結構!　　樣品結構太復雜，微弱信號無法捕獲，難以準確測量尺度信息!　　三維接觸式測量經(jīng)常會損傷柔軟樣品，導致測試結果不準確!　　今天，友碩小編將從下面幾個角度來看看蔡司激光共聚焦顯微鏡如何幫助你更好地解決這些問題?！　∈Х治觯憾喑叨榷嗑S度原位分析!　　器件表面往往存在一些特殊的結構或缺陷，比如亞微米尺度的劃痕，這些特征難以在光學明場下被直接觀察到。C-DIC(圓微分干涉)觀察模式可以讓樣品表面亞微米尺度的微小起伏都可以呈現(xiàn)出浮雕效果，幫助我們快速定位并開展下一步的分析工作。　　▲ 不同觀察方式下晶圓表面缺陷　　在定位到感興趣區(qū)域后，可以直接切換到共聚焦模式，進行表面三維形貌掃描，并進行尺寸測量及分析，無需轉移樣品即可完成樣品多尺度多維度的表征。　　▲共聚焦三維圖像及深度測量　　對于某些樣品，暗場和熒光模式也是一種很好定位方法，表面起伏的結構在暗場下尤其明顯，如藍寶石這類能發(fā)熒光的晶圓，利用熒光成像也能幫助我們快速地定位到失效結構。甚至，共聚焦還可以和電鏡或者雙束電鏡(FIB)(點擊查看)實現(xiàn)原位關聯(lián)，在共聚焦顯微鏡下進行定位后轉移樣品到電鏡下進行更高分辨的表征分析。　　深硅刻蝕：結構深，信號弱，蔡司激光共聚焦顯微鏡有辦法!　　深硅刻蝕的樣品通常為窄而深的溝壑結構。接觸式測量(如臺階儀)無法接觸到溝壑底部測得信息，而由于結構特殊造成了反射光信號損失，常規(guī)白光干涉或者顯微明場無法捕獲底面的微弱信號。因此，不得不對樣品進行裂片分析，這不僅破壞了樣品，而且還使分析流程復雜化。　　西湖大學張先鋒老師用蔡司激光共聚焦顯微鏡對深163.905 μm，寬3.734μm的刻蝕坑進行成像，高靈敏探測器、大功率激光及Z Brightness Correction技術可以幫助成功檢測到底部的微弱信號，完成大深寬比(近50：1)樣品的三維形貌表征與測量，輕松實現(xiàn)無損檢測分析。

2023-06-08 17:52:34邀請函｜飛納電鏡邀您參加微納科技與先進材料創(chuàng)新大會 2023: 復納INVITATION微納科技與先進材料創(chuàng)新大會（2023）將于 6 月 10 日 - 12 日在重慶舉辦。本次會議旨在凝聚優(yōu)勢力量、加強納米科學與微納制造技術的基礎研究與應用研究，促進多學科交叉融合，促進先進材料產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展。時間：2023 年 6 月 10 日 - 12 日地點：重慶兩江云頂大酒店復納科技展位號：7 號新興的微納材料在電子、通信和物聯(lián)網(wǎng)、能源存儲、化工和燃料生產(chǎn)、醫(yī)療保健、藥物輸送等領域應用廣泛。納米材料的性質與其組成和表面形貌有很大的關系，復納科技擁有一系列高精尖的分析檢測儀器與先進的解決方案，可以對納米材料進行分析表征和改性。歡迎各位老師同行蒞臨【7】號展位，和我們一起探討交流！莊思濛復納科技產(chǎn)品經(jīng)理報告時間：6月12日 16:05-16:25本次會議中，復納科技產(chǎn)品經(jīng)理莊思濛將在“微納技術在新能源電池領域中的應用技術”分會場帶來《電池粉末原子層沉積包覆改性及原位電鏡表征方案》的主題報告。1、Phenom-飛納臺式掃描電鏡飛納臺式掃描電鏡操作簡單，效率高，成像質量高，其優(yōu)異的低真空模式可實現(xiàn)無需噴金直接觀察不導電樣品。最新的第二代場發(fā)射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 分辨率優(yōu)于 1.5nm，是分辨率最高的臺式掃描電鏡，是納米材料表征的強有力工具。Phenom Pharos G2飛納臺式場發(fā)射掃描電鏡Phenom XL G2飛納臺式掃描電鏡大樣品室卓越版Phenom ProX飛納臺式掃描電鏡能譜一體機2、Forge Nano-原子層沉積系統(tǒng)ALD 原子層沉積技術已被證明可用于多種組分以及納米結構的制備，包括單原子 / 團簇催化劑、鋰電材料表面包覆等等。Forge Nano 設備基于 ALD 工藝可實現(xiàn)從毫克到千噸級的粉末包覆處理量，能夠有效提高電池化學性能與安全性。3、DENSsolutions-TEM 原位實驗方案DENS 產(chǎn)品可以為 TEM 樣品施加外界刺激，實現(xiàn)在 TEM 中引入氣、液、熱、電等多種條件，捕捉 TEM 樣品在真實環(huán)境下的動態(tài)現(xiàn)象。目前提供的四種原位實驗方案：Wildfire TEM 原位加熱方案、Lightning TEM 原位熱電方案、Climate TEM 原位氣相加熱方案和 Stream TEM 原位液相加熱 / 加電方案。Wildfire 原位加熱樣品桿Lightning 原位熱電樣品桿Lightning 原位熱電樣品桿Stream 原位液相加熱/加電樣品桿Climate 原位氣相加熱樣品桿4、VSParticle-全自動納米研究平臺VSParticle 設備采用火花燒蝕制備納米顆粒的技術，可對產(chǎn)生的顆粒進行粒徑的控制，從而獲得不同粒徑中位值的單分散納米氣溶膠。此外該技術也能用于進行快速打印以及粉末表面的納米沉積。歡迎各位老師蒞臨展位與我們探討交流，我們將隨時為您提供專業(yè)的解答與支持，現(xiàn)場也有精美小禮品相送噢！