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2025-01-10 10:53:10納米力學(xué)技術(shù)及應(yīng)用
納米力學(xué)技術(shù)及應(yīng)用是研究納米尺度下物質(zhì)力學(xué)性質(zhì)及其應(yīng)用的學(xué)科。它涉及納米材料的力學(xué)性能測(cè)試、納米結(jié)構(gòu)的力學(xué)行為分析以及納米尺度下的摩擦、磨損和變形機(jī)制等。納米力學(xué)技術(shù)在材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、機(jī)械工程等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，如提高材料的強(qiáng)度和韌性、設(shè)計(jì)新型納米器件、優(yōu)化生物醫(yī)學(xué)植入物的性能等。通過納米力學(xué)技術(shù)，可以深入探索物質(zhì)的微觀世界，為科技創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供有力支撐。

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納米力學(xué)技術(shù)及應(yīng)用相關(guān)內(nèi)容

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2022-11-02 23:50:36兆聲清洗技術(shù)原理、優(yōu)勢(shì)及應(yīng)用
1 兆聲清洗技術(shù)背景Schwartzman等人，1993在SC1、SC2清洗時(shí)使用了兆頻超聲技術(shù)，獲得前所未有的清洗效果，使得該方法在清洗工藝中被廣泛采用，也引發(fā)了對(duì)超聲波增強(qiáng)清洗效果的規(guī)律與機(jī)理的研究。1995年Busnaina的研究表明，兆頻超聲波去除粒子的能力與溶液的組成、粒子的大小、超聲波的功率及處理時(shí)間有關(guān)。1997年Olim發(fā)現(xiàn)兆頻超聲去除粒子的效率與粒子直徑的立方成正比，并由此推斷兆頻超聲無法去除0.1μm以下的粒子。但是，兆聲波清洗拋光片可去掉晶片表面上＜0.2μm的粒子，起到超聲波起不到的作用。這種方法能同時(shí)起到機(jī)械擦片和化學(xué)清洗兩種方法的作用。兆聲波清洗方法已成為拋光片清洗的一種有效方法。但是，隨著頻率升高，聲傳播的效率會(huì)降低，所以兆聲波清洗技術(shù)效果并不是頻率越高越好。目前，一般用的頻率范圍是（700～1000）kHz。2 兆聲波清洗原理簡(jiǎn)介聲能在液體內(nèi)傳播時(shí)，液體會(huì)沿聲傳播的方向運(yùn)動(dòng)，形成聲學(xué)流（Acousticstreaming），聲學(xué)流是由聲波生產(chǎn)的力和液體的聲學(xué)阻力以及其他的氣泡阻力形成的液體的流動(dòng)的效果，兆聲波清洗就是利用聲能產(chǎn)生的液體流動(dòng)來去除硅片表面的污染物，其原理見圖1。兆聲波清洗是由高頻（700～1000kHz）的波長(zhǎng)短（1.5μm左右）的高能聲波推動(dòng)溶液做加速運(yùn)動(dòng)，使溶液以加速的流體形式連續(xù)沖擊硅片表面，使硅片表面的顆粒等污染物離開硅片進(jìn)入溶液中，達(dá)到去除污染物的目的。隨著聲能的增高，表面張力會(huì)下降，這可改善浸潤(rùn)效果及小顆粒的浸潤(rùn)。而且，能量越高，聲學(xué)流的速度越快，硅片表面被帶走的顆粒也隨之增多反應(yīng)速率也會(huì)升高，這可降低反應(yīng)時(shí)間，同時(shí)，也可以降低化學(xué)液的濃度。隨著頻率升高，空洞現(xiàn)象的閥值會(huì)升高，所以兆聲不會(huì)像超聲一樣會(huì)產(chǎn)生氣泡而損傷硅片表面。而根據(jù)超聲頻率的高低對(duì)應(yīng)的去除污染物顆粒大小的能力，選用的頻率見表1。3 兆聲波清洗技術(shù)的特點(diǎn)（1）美國(guó)VEＲTEQ公司的M.Olesen.Y.Fan等人研究發(fā)現(xiàn)，兆聲技術(shù)有如下特點(diǎn)。能大大降低邊界層的厚度，使其具有清除深亞微米顆粒的能力，可滿足現(xiàn)行工藝以及0.1μm（線寬）技術(shù)對(duì)清洗工藝的需求。有兆聲時(shí)邊界厚度的對(duì)比（見圖2）。（2）可以極大的提高清洗效率，從圖3有無兆聲時(shí)的清洗效率對(duì)比圖中可以看到，當(dāng)兆聲關(guān)閉時(shí)，用30s的時(shí)間清洗效率只能達(dá)到20%，有兆聲時(shí)，只需10s的時(shí)間清洗效率就可達(dá)到99.99%。（3）由于兆聲波清洗可以使用稀釋倍數(shù)大的化學(xué)液，從而大大減少了化學(xué)藥品的用量和消耗，降低了清洗工序的工藝成本，有效減少了化學(xué)液的污染，保護(hù)環(huán)境。圖3是在極低濃度的化學(xué)液中有無兆聲的清洗效果對(duì)比圖。由于兆聲波清洗具備以上諸多優(yōu)點(diǎn)，因此使得兆聲波清洗很快成為硅片清洗行業(yè)中廣泛應(yīng)用于去除微細(xì)顆粒的重要手段。4 兆聲波清洗技術(shù)在清洗設(shè)備中的應(yīng)用結(jié)合常規(guī)的濕法清洗工藝開發(fā)出適合相關(guān)工藝階段的兆聲清洗設(shè)備，按照這些設(shè)備的不同結(jié)構(gòu)，大體可分為兩類，一類是融匯在濕法清洗機(jī)兆聲清洗槽或兆聲漂洗槽，它們作為設(shè)備的一部分，只完成單個(gè)的清洗或漂洗過程。另一類則是以獨(dú)立的設(shè)備形式出現(xiàn)。這就是兆聲清洗機(jī)，該種設(shè)備通常配備兩個(gè)槽體，一個(gè)清洗槽和一個(gè)沖洗槽，清洗槽是在兆聲環(huán)境下用化學(xué)液來去除硅片表面的微細(xì)顆粒及化學(xué)污染物等，沖洗槽則是對(duì)清洗完的硅片用去離子水進(jìn)行沖洗，從而達(dá)到生產(chǎn)需要的潔凈度。但是由于兆聲傳播是一種介質(zhì)傳播，聲音傳播中的能量會(huì)轉(zhuǎn)化成介質(zhì)的動(dòng)能，因此在使用兆聲清洗的同時(shí)會(huì)產(chǎn)生兆聲能量的衰減。導(dǎo)致能量衰減的因素，首先是兆波的反射，如圖4所示。兆聲能量的衰減可通過以下公式計(jì)算：衰減系數(shù)γ可表示為：γ=γ吸收+γ分散；γ分散在液體中，不在計(jì)算內(nèi)。在水液體中，γ吸收系數(shù)（dB/m）=0.2F2（MHz）。由此計(jì)算可得，在頻率為950kHz時(shí)，衰減度約為0.002dB/m；在頻率為40kHz時(shí)，衰減度約為0.000003dB/m，在水液體中，兆聲波衰減約為低頻超聲波衰減的1000倍，如圖5所示。因此，在兆聲清洗中，液位不能超過500mm。而在低頻超聲波中，超聲波能量可傳至（1.5～2）m高。安裝時(shí)，石英缸底部有一定傾斜角度更利于高頻兆聲波的傳播，由圖7中角度與聲壓的關(guān)系可知，當(dāng)θ=2°時(shí)，最有利于兆聲波的傳播。由于聲波傳播時(shí)一種介質(zhì)傳播，因此在不同的頻率下石英缸作為傳遞介質(zhì)，它的厚度也對(duì)兆聲的傳播有一定影響。通過下面公式可以計(jì)算出不同介質(zhì)中聲波的傳播率D：從圖8可見，當(dāng)厚度t=3mm時(shí)，兆聲波在石英中具備更好的傳播率。兆聲發(fā)生器在石英循環(huán)溢流槽中的安裝原理見圖9。5 兆聲清洗技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域由于兆聲波能去除硅片表面的微小顆粒，并且不會(huì)對(duì)硅片表面造成損傷，近幾年兆聲波清洗被大量的應(yīng)用在清洗工藝中。兆聲波用在SC－1中，可提高去除顆粒尤其是小顆粒的效果；用在DHF，臭氧水、純水中都能起到增強(qiáng)清洗效果的作用。目前兆聲清洗技術(shù)被廣泛應(yīng)用于液晶、手機(jī)鏡片、光學(xué)器件照相機(jī)鏡頭制造業(yè)，汽車、摩托車制造業(yè)，電子、微電子、電子電器元器件制造業(yè)，五金業(yè)、機(jī)械的零件業(yè)，航天、航空清洗精密零部件業(yè)，鐘表、眼境、珠寶制造業(yè)，家電產(chǎn)品制造業(yè)，電鍍業(yè)，鐵路機(jī)車造業(yè)等各個(gè)行業(yè)。（轉(zhuǎn)）具體應(yīng)用涉及：帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗CMP處理后的晶圓片清洗晶圓框架上的切粒芯片清洗等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗帶保護(hù)膜的分劃版清洗掩模版空白部位或接觸部位清洗X射線及極紫外掩模版清洗光學(xué)鏡頭清洗ITO涂覆的顯示面板清洗兆聲輔助的剝離工藝
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2024-01-17 16:04:12雜交瘤技術(shù)應(yīng)用、優(yōu)缺點(diǎn)、常見問題解析
雜交瘤技術(shù)又稱細(xì)胞融合技術(shù)，是將兩個(gè)或多個(gè)細(xì)胞融合成一個(gè)。 融合后形成的雜交瘤細(xì)胞承襲了兩親本細(xì)胞的特征。 自發(fā)的細(xì)胞融合很少發(fā)生，當(dāng)加入一種融合劑，如：聚乙二醇（常用）、仙臺(tái)病毒或溶血卵磷脂后，兩種細(xì)胞就可發(fā)生融合。 首先是質(zhì)膜互相融合，形成具有兩個(gè)或多個(gè)核的異核體，細(xì)胞進(jìn)一步分裂時(shí)，核互相融合，形成了雜交細(xì)胞。  雜交瘤技術(shù)優(yōu)缺點(diǎn)：優(yōu)點(diǎn)：與傳統(tǒng)的免疫動(dòng)物方法制備抗體相比，利用雜交瘤技術(shù)可以制備出高純度的單抗，并且可以進(jìn)行單克隆抗體的大量生產(chǎn)。缺點(diǎn)：a.操作步驟繁瑣。b.利用雜交瘤技術(shù)生產(chǎn)出的單克隆抗體多為鼠源性，而鼠源性抗體在應(yīng)用中有諸多問題，例如被人類免疫系統(tǒng)所識(shí)別，產(chǎn)生人抗鼠抗體( HAMA）反應(yīng)、在人體循環(huán)系統(tǒng)中很快被清除等。 雜交瘤技術(shù)應(yīng)用：①診斷應(yīng)用：?jiǎn)慰寺】贵w在疾病診斷中發(fā)揮了重要作用，其優(yōu)點(diǎn)在于診斷準(zhǔn)確且無交叉反應(yīng)，例如在乙型肝炎及潛伏的乙型肝炎病毒的診斷中，單克隆抗體能顯著減少假陰性的漏診。②治-療載體：?jiǎn)慰寺】贵w也可作為治-療疾病的載體。通過與抗腫瘤藥物結(jié)合，單克隆抗體能在體內(nèi)選擇性集中攻擊腫瘤細(xì)胞，具有靶向性，從而減少對(duì)正常組織的損傷并減輕抗-癌藥物的副作用。因此，載藥單克隆抗體被譽(yù)為“生物導(dǎo)-彈”。③異種蛋白質(zhì)問題：目前大多數(shù)單克隆抗體為鼠-鼠型，對(duì)于人體來說屬于異種蛋白質(zhì)，容易引起排異反應(yīng)，限制了其在治-療中的應(yīng)用。④人-人型單克隆抗體的研究：為了解決排異問題，研究者正在努力研發(fā)人-人型單克隆抗體，以利于其在治-療中的廣泛應(yīng)用。 雜交瘤技術(shù)常見問題解析： ①電融合和PEG融合的區(qū)別？PEG化學(xué)融合是利用聚乙二醇分子能夠改變細(xì)胞膜結(jié)構(gòu)的特性來實(shí)現(xiàn)細(xì)胞融合的過程。聚乙二醇可以使兩個(gè)細(xì)胞接觸點(diǎn)質(zhì)膜的脂質(zhì)分子發(fā)生疏散和重組，兩個(gè)細(xì)胞接觸部位的質(zhì)膜由于相互親和以及彼此的表面張力作用，從而發(fā)生細(xì)胞融合。電融合則是先通過高頻交流電壓，使細(xì)胞成串珠狀排列，實(shí)現(xiàn)點(diǎn)接觸；然后施加方波脈沖，擊穿兩個(gè)細(xì)胞接觸部位的質(zhì)膜，質(zhì)膜脂質(zhì)分子發(fā)生重組，同時(shí)由于細(xì)胞表面張力作用，完成細(xì)胞融合。電融合法比PEG融合法有明顯的優(yōu)點(diǎn)：細(xì)胞融合率高，有利于雜交瘤的篩選；電脈沖擊穿對(duì)細(xì)胞的損傷小，有利于融合后細(xì)胞的生長(zhǎng)增殖；可直接觀察融合過程；便于有目的地控制選擇融合條件。 ②為什么要推薦進(jìn)行2~3輪有限稀釋獲得穩(wěn)定的雜交瘤細(xì)胞株？陽性單克隆細(xì)胞的獲得通常進(jìn)行至少2輪有限稀釋，原因主要考慮兩點(diǎn)。第一，有限稀釋過程中，大多數(shù)是通過實(shí)驗(yàn)者在顯微鏡下觀察細(xì)胞團(tuán)狀態(tài)來判定是否是單克隆，存在一定的主觀經(jīng)驗(yàn)值，至少進(jìn)行兩輪有限稀釋可以增加判斷的準(zhǔn)確性；第二，雜交瘤細(xì)胞由兩個(gè)細(xì)胞融合而成，存在基因的不穩(wěn)定性，連續(xù)2輪有限稀釋，客觀上增加了篩選中細(xì)胞培養(yǎng)時(shí)間，有利于淘汰不穩(wěn)定的雜交瘤細(xì)胞株。 ③為什么要使用核酸免疫？重組蛋白由于免疫靶向明確、劑量可控等優(yōu)勢(shì)，通常作為動(dòng)物免疫階段的首-選免疫原。但有些重組蛋白因?yàn)楸磉_(dá)純化困難，很難大量獲得并用于動(dòng)物免疫；另外，重組蛋白與天然樣本之間存在或多少的結(jié)構(gòu)差異。而核酸免疫，跳過了蛋白表達(dá)純化的過程，成功避開了蛋白生產(chǎn)的難題，通過核酸體內(nèi)表達(dá)的蛋白結(jié)構(gòu)也更加接近天然蛋白，故而可以作為重組蛋白免疫的有效補(bǔ)充手段。但核酸免疫的免疫劑量很難判斷，整體免疫效價(jià)也會(huì)普遍低于蛋白和多肽免疫。 ④除弗氏佐劑之外，免疫佐劑還有哪些？免疫佐劑是指那些同抗原一起或預(yù)先注入機(jī)體內(nèi)能增強(qiáng)機(jī)體對(duì)抗原的免疫應(yīng)答能力或改變免疫應(yīng)答類型的輔助物質(zhì)。佐劑的免疫生物學(xué)作用是增強(qiáng)免疫原性、增強(qiáng)抗體的滴度、改變抗體產(chǎn)生的類型、引起或增強(qiáng)遲發(fā)超敏反應(yīng)等。除經(jīng)典的弗氏佐劑外，各類不同功能的佐劑也層出不窮，比較常見的有：1）無機(jī)佐劑，如磷酸鋁佐劑、氫氧化鋁佐劑；2）生物類佐劑，如以細(xì)菌胞壁或產(chǎn)物為主要組成的佐劑；3）具有佐劑活性的細(xì)胞因子類，如GSF、IL1、IL2、IFN -γ等；4）人工合成佐劑，如cpG等。 ⑤雜交瘤融合后主克隆接種96孔細(xì)胞培養(yǎng)板數(shù)量通常是多少？融合后的主克隆細(xì)胞接種96孔細(xì)胞培養(yǎng)板的數(shù)量與融合效率和脾細(xì)胞多少有密切關(guān)系。PEG化學(xué)融合后的主克隆，通常一只小鼠的脾細(xì)胞可以接種8-15塊96孔細(xì)胞培養(yǎng)板；電融合因?yàn)槿诤闲蚀蟠筇岣撸ǔＲ恢恍∈蟮钠⒓?xì)胞可以接種30~50塊96孔細(xì)胞培養(yǎng)板。  更多雜交瘤技術(shù)開發(fā)平臺(tái)詳情可以關(guān)注：https://cn.sinobiological.com/services/platform/hybridoma-development 義翹神州：蛋白與抗體的專業(yè)引領(lǐng)者，歡迎通過百度搜索“義翹神州”與我們?nèi)〉寐?lián)系。
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2021-11-26 14:53:36Bruker納米紅外光譜儀優(yōu)點(diǎn)及應(yīng)用范圍
Bruker 公司的Anasys nanoIR3型納米紅外光譜測(cè)量系統(tǒng)，是一款基于原子力顯微鏡（AFM）的納米表征工具。其采用獨(dú)有專利的光熱誘導(dǎo)共振技術(shù)（PTIR，也稱AFM-IR），使紅外光譜的空間分辨率突破了光學(xué)衍射極限，提高至10納米級(jí)別。為揭示納米尺度下的表界面紅外光譜信息提供了可能。該技術(shù)曾榮獲2010年度美國(guó)R&D100大獎(jiǎng)。 Bruker納米紅外光譜儀主要由紅外光源、光闌、干涉儀（分束器、動(dòng)鏡、定鏡）、樣品室、檢測(cè)器以及各種紅外反射鏡、激光器、控制電路板和電源組成?？梢詫?duì)樣品進(jìn)行定性和定量分析，廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥化工、地礦、石油、煤炭、環(huán)保、海關(guān)、寶石鑒定、刑偵鑒定等領(lǐng)域。 由于超高空間分辨率的紅外光譜采集和化學(xué)成分成像，被公認(rèn)為近十來年光譜領(lǐng)域最大的技術(shù)進(jìn)步。該技術(shù)曾榮獲2010年度 美國(guó)R&D100大獎(jiǎng)。 在廣受歡迎的第二代納米紅外光譜 系統(tǒng)的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)快速掃描功能，光譜采集速度＜ 1s/光譜；專利的輕敲模式納米紅外將空間分辨率提高至 10nm以上，并大大提高紅外成像速度，并使得較軟的生物材料等軟物質(zhì)的化學(xué)成像實(shí)現(xiàn)質(zhì)的飛躍。 優(yōu)點(diǎn)： ·消除研究人員的擔(dān)憂--與FTIR光譜完全吻合，沒有吸收峰的任何偏移 ·基于專利保護(hù)的脈沖共振增強(qiáng)技術(shù)：實(shí)現(xiàn)單分子層超薄樣品化學(xué)分析 ·專利技術(shù)實(shí)現(xiàn)智能的光路優(yōu)化調(diào)整，無需擔(dān)心光路偏差拖延你的實(shí)驗(yàn)進(jìn)度 ·最準(zhǔn)確的定性微區(qū)化學(xué)表征，得到美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)局NIST,橡樹嶺國(guó)家實(shí)驗(yàn)室等美國(guó)權(quán)威機(jī)構(gòu)的認(rèn)可 ·簡(jiǎn)單易用的操作，被三十多位企業(yè)用戶和過百位學(xué)術(shù)界用戶所選擇需要bruker其他型號(hào)的產(chǎn)品，可撥打電話021-61552797咨詢上海爾迪儀器科技有限公司產(chǎn)品資料介紹Bruker納米紅外光譜儀支持全系列掃描探針顯微鏡模式Contact Mode（接觸模式）Tapping Mode（輕敲模式）Lateral Force Microscope（橫向力/摩擦力顯微鏡）Phase Imaging（相位成像）Magnetic Force Microscopy (磁力顯微鏡)Electrostatic Force Microscopy (靜電力顯微鏡)Conductive Atomic Force Microscopy (導(dǎo)電原子力顯微鏡)Kelvin Probe Force Microscopy (開爾文探針力顯微鏡)Force Curve Spectroscopy（力曲線）Liquid Imaging（液態(tài)環(huán)境掃描）Heater-Cooler Imaging（高低溫環(huán)境掃描）SThM（掃描熱顯微鏡）Nano-TA（納米熱分析）LCR（洛倫茲納米力學(xué)分析）
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2023-04-20 09:37:22BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta
BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀——背向 + 90°散射粒度 + Zeta 電位三合一型儀 器 簡(jiǎn) 介BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及Zeta電位分析儀是BeNano 90+BeNano 180+BeNano Zeta 三合一的頂 級(jí)光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)。該系統(tǒng)中集成了背向 +90°動(dòng)態(tài)光散射 DLS、電泳光散射 ELS和靜態(tài)光散射技術(shù) SLS，可以準(zhǔn)確的檢測(cè)顆粒的粒徑及粒徑分布，Zeta 電位，高分子和蛋白體系的分子量信息等參數(shù)，可廣泛的應(yīng)用于化學(xué)、化工、生物、制藥、食品、材料等領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究和質(zhì)量分析與控制。指標(biāo)與性能Index＆performance粒徑測(cè)試原理：動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)粒徑范圍：0.3 nm – 15 μm樣品量：3 μL - 1 mL檢測(cè)角度：173°+90°+12°分析算法：Cumulants、通用模式、CONTIN、NNLSZeta電位測(cè)試原理：相位分析光散射技術(shù)檢測(cè)角度：12°Zeta范圍：無實(shí)際限制電泳遷移率范圍：> ±20 μ.cm/V.s電導(dǎo)率范圍：0 - 260 mS/cmZeta測(cè)試粒徑范圍：2 nm – 110 μm分子量測(cè)試分子量范圍：342 Da – 2 x 107 Da微流變測(cè)試頻率范圍：0.2 – 1.3 x 107 rad/s測(cè)試能力：均方位移、復(fù)數(shù)模量、彈性模量、粘性模量、蠕變?nèi)崃空扯群驼酃饴蕼y(cè)試粘度范圍：0.01 cp – 100 cp折光率范圍：1.3-1.6趨勢(shì)測(cè)試模式：時(shí)間和溫度系統(tǒng)參數(shù)溫控范圍：-15° C - 110° C+/- 0.1°C冷凝控制：干燥空氣或者氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)激光光源：50 mW 高性能固體激光器， 671 nm相關(guān)器：最快25 ns采樣，最多 4000 通道，1011 動(dòng)態(tài)線性范圍檢測(cè)器：APD （高性能雪崩光電二極管）光強(qiáng)控制：0.0001% - 100%，手動(dòng)或自動(dòng)軟件中文和英文符合21CFR Part 11原理圖儀器檢測(cè)檢測(cè)參數(shù)顆粒體系的光強(qiáng)、體積、面積和數(shù)量分布顆粒體系的 Zeta 電位及其分布分子量分布系數(shù) PD.I擴(kuò)散系數(shù) D流體力學(xué)直徑 D H顆粒間相互作用力因子 k D溶液粘度檢測(cè)技術(shù)動(dòng)態(tài)光散射電泳光散射靜態(tài)光散射
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2023-06-25 10:22:01線上講座 | 交流阻抗技術(shù)新發(fā)展新應(yīng)用
掃描上方二維碼免費(fèi)看直播！了解交流阻抗技術(shù)新發(fā)展新應(yīng)用錯(cuò)過直播 歡迎蒞臨 國(guó)際阻抗譜大會(huì)展臺(tái)交流 ！www.eis2023.cn由北京化工大學(xué)與清華大學(xué)聯(lián)合承辦的“第12屆國(guó)際電化學(xué)阻抗譜會(huì)議”（EIS 2023）將于2023年7月2-7日在北京舉行。在EIS 2023，普林斯頓輸力強(qiáng)將攜帶阻抗研究利器Enerylab與您見面，同時(shí)在7月6日14:30-14:45口頭報(bào)告題為"Towards Ultra-high Resolution and Localized EIS for Advanced Energy Research" 。普林斯頓輸力強(qiáng)期待您的蒞臨！
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