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用Sievers InnovOx ES實(shí)驗(yàn)室型TOC分析儀分析硫酸中的總有機(jī)碳

來源:威立雅水務(wù)技術(shù)(上海)有限公司 更新時(shí)間:2026-01-28 18:15:26 閱讀量:169
導(dǎo)讀:事實(shí)證明,InnovOx使用的超臨界水氧化SCWO技術(shù)能夠?qū)α姿?、鹽酸、硝酸、硫酸進(jìn)行精準(zhǔn)的TOC定量分析。

挑戰(zhàn)

很多工藝使用無機(jī)酸作為重要原料。在確定特定應(yīng)用的適用性時(shí),尤其是在確定該應(yīng)用對工藝和產(chǎn)品的影響時(shí),準(zhǔn)確評估酸的質(zhì)量是至關(guān)重要的

酸中的可溶性雜質(zhì)會影響生產(chǎn)工藝和產(chǎn)品質(zhì)量。過量的有機(jī)污染物帶來以下問題:

  • 生產(chǎn)工藝效率低下

  • 產(chǎn)品被污染

  • 生產(chǎn)批次不合格

  • 工藝和產(chǎn)品偏差


化工行業(yè)都需要確定和控制無機(jī)酸的質(zhì)量。這些行業(yè)包括:原料藥物(API,Active Pharmaceutical Ingredient)、化肥、半導(dǎo)體加工、化學(xué)衍生物。酸用于離子交換樹脂再生,也可以是產(chǎn)品配方的原料。


在半導(dǎo)體行業(yè)中,硫酸用于晶圓蝕刻工藝。酸的純度和潔凈度對生產(chǎn)至關(guān)重要,這就要求硫酸供應(yīng)商對產(chǎn)品批次進(jìn)行污染控制,以滿足工藝要求。很多行業(yè)在電鍍工藝中使用硫酸銅。為了提高化學(xué)品的性能,生產(chǎn)商添加有機(jī)基體的勻染劑和增白劑。了解添加劑的用量及其潛在的分解物,有助于控制產(chǎn)品質(zhì)量和工藝。


解決方案

由于有機(jī)污染物的種類繁多,用總有機(jī)碳(TOC,Total Organic Carbon)作為評估酸質(zhì)量的參數(shù)不失為檢測樣品雜質(zhì)的有效方法。但是,分析儀器必須具有酸基體的化學(xué)耐受性,并能在低pH值下有效氧化有機(jī)碳,這樣才能得到正確的檢測結(jié)果。


Sievers InnovOx ES實(shí)驗(yàn)室型TOC分析儀采用超臨界水氧化(SCWO,Supercritical Water Oxidation)技術(shù)來檢測酸溶液中的TOC的ppm和ppb含量。事實(shí)證明,SCWO技術(shù)能夠?qū)α姿?、鹽酸、硝酸、硫酸進(jìn)行精準(zhǔn)的TOC定量分析。


技術(shù)

Sievers InnovOx ES實(shí)驗(yàn)室型分析儀采用SCWO技術(shù),將有機(jī)碳分子氧化成CO2,然后用非分散紅外(NDIR,Non-dispersive Infrared)檢測技術(shù)進(jìn)行精確定量。在使用SCWO技術(shù)時(shí),先在水的臨界點(diǎn)以上對樣品進(jìn)行加熱和加壓。在一定條件下(375?C和220巴),水成為超臨界流體,水中的有機(jī)物高度可溶,而無機(jī)鹽不溶。這就提高了氧化效率,能夠精確檢測腐蝕性和復(fù)雜基質(zhì)中的TOC,甚至濃酸中的TOC。


硫酸中含有來自其自身生產(chǎn)過程的各種雜質(zhì),包括有機(jī)污染物。這些污染物即使含量極低,也會給要求使用高純度原料的工藝帶來風(fēng)險(xiǎn),尤其是給半導(dǎo)體和電化學(xué)沉積工藝帶來風(fēng)險(xiǎn)。因此,為了優(yōu)化工藝操作、提供產(chǎn)量,必須對酸的質(zhì)量進(jìn)行定量分析。

Sievers InnovOx ES實(shí)驗(yàn)室TOC分析儀


硫酸(H2SO4

在測試中,向H2SO4中加入不同濃度的鄰苯二甲酸氫鉀(KHP),以此來評估Sievers InnovOx實(shí)驗(yàn)室型分析儀的分析硫酸中TOC的能力。將96%濃度的ACS級硫酸稀釋到24%,然后分別加入0.2、0.5和2 ppmTOC的KHP,進(jìn)而證明了分析儀的分析能力。


分析在0-100 ppm范圍內(nèi)進(jìn)行,由于樣品的pH值適用于TOC分析,故無需使用酸劑。10%過硫酸鈉氧化劑足以分析此范圍的TOC。


表1中的分析數(shù)據(jù)包括加標(biāo)濃度、測自空白24%硫酸溶液的TOC、實(shí)測TOC、以及回收TOC的含量和百分比?;厥盏腡OC值等于實(shí)測TOC減去空白TOC。


表中的數(shù)據(jù)證明了分析儀能夠定量分析濃酸溶液中的低濃度TOC。當(dāng)TOC從2 ppm降至0.2 ppm時(shí),回收率百分比就會從100%偏離,這主要是因?yàn)榧訕?biāo)濃度(200 ppb)接近空白濃度(180 ppb)。在這種低濃度下,空白濃度或儀器基線的波動會導(dǎo)致結(jié)果的波動。

表1:在24%H2SO4中的TOC分析


第二項(xiàng)測試分析了各種濃度硫酸的TOC回收率。將1 ppm TOC的KHP分別加到1、5、10和24%的H2SO4中,檢測數(shù)據(jù)如表2所示?;厥盏腡OC值等于實(shí)測TOC減去空白TOC。

表2:1-24%H2SO4的KHP回收率


5 - 24%H2SO4的1 ppm TOC回收率非常好,但1%H2SO4的TOC回收率就偏離了45%。當(dāng)TOC濃度接近空白TOC濃度時(shí),空白檢測值的波動會顯著影響到計(jì)算的TOC結(jié)果。


測試還評估了Sievers InnovOx實(shí)驗(yàn)室型分析儀分析24%ACS級硫酸中0.1 - 0.5 ppm范圍TOC的能力。分別將100、200、300 ppb KHP加到ACS級硫酸中,檢測結(jié)果如表3所示。

表3:24% H2SO4的低于500 ppb的KHP回收率


檢測結(jié)果顯示了預(yù)期的增長趨勢。100 ppb加標(biāo)顯示了50 ppb的增長,200 ppb加標(biāo)顯示了120 ppb的增長,300 ppb加標(biāo)顯示了230 ppb的增長。顯然,分析儀能夠檢測出410 ppb基線上的50 ppb的增長,這表明分析儀的靈敏度完全適用于分析如此低的濃度。對硫酸進(jìn)行高靈敏度分析的限制因素是基體中的基線TOC。同任何其它分析一樣,基線值附近的結(jié)果容易變化。人們都知道,H2SO4的純度低于同樣濃度的其它無機(jī)酸(如HCl、HNO3等)的純度,因此不難預(yù)料,純品H2SO4中含有一定量的有機(jī)雜質(zhì)。


結(jié)論

Sievers InnovOx ES實(shí)驗(yàn)室型分析儀能夠精準(zhǔn)地檢測出濃度最高為24%的硫酸中的TOC。最高2 ppm KHP的實(shí)測回收率具有出色的精確性和準(zhǔn)確性??瞻讬z測值的大小和穩(wěn)定性是對H2SO4進(jìn)行高靈敏度TOC分析的限制因素。分析儀的靈敏度(檢測限LOD=水中的50 ppb)足以區(qū)分100、200和300 ppb TOC。分析儀在整個(gè)測試過程中表現(xiàn)出極佳的耐用性,且能耐受H2SO4基質(zhì),無降解跡象。


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