在國際上，隨著光電子信息產業(yè)的發(fā)展，紫外光表面清洗技術也被提了出來。有機化合物的光敏氧化作用為紫外光清洗技術所利用，從而使得將黏附在材料表面上的有機物質去除的目的達到，通過光清洗后的材料表面能夠"原子清潔度"。紫外臭氧清洗機為一種小型紫外臭氧清洗設備,能夠用來對各種單晶基片進行清洗，從而使得成膜質量變得更好。

紫外臭氧清洗機影響因素

在紫外臭氧清洗機消毒過程中，消紫外線消毒與照射強度和照射時間均存在關聯(lián)，溫度和濕度對其有著較大的影響，有消毒死角。臭氧消毒殺菌有著較快的殺毒速度，光譜有著較強的殺毒能力。沒有消毒死角，其消毒效果能夠達到通常紫外線消毒的15倍，并且不會產生二次污染，除了能夠對物體表面進行消毒，而且還能夠去除室內存在的甲醛、苯、煙味等有害氣體。

紫外臭氧清洗機作用

紫外線能夠將包括細菌繁殖體、芽胞、分支桿菌、病毒、真菌、立克次體和支原體等在內的各種微生物殺滅，廣譜性為其所具有。從內部對有害物質進行破壞從而是其死亡。利用紫外光和臭氧氧化去除襯底表面的油脂和有機物，從而使清潔的效果達到。與此同時使襯底表面的親疏水性改變了，使墨水在襯底上的打印效果得到優(yōu)化，上述這些均為紫外臭氧清洗機的作用。

紫外臭氧清洗機處理不同襯底時的效果：

1、對于比較干凈、沒有做過有機涂層處理的襯底做清洗，并沒有較為明顯的清洗效果。

2、對于表面做過有機涂層，親水性較好的襯底做清洗，疏水性增加為清洗以后得出的結果，有著較為明顯的效果。

3、對于表面較臟、油污較多的襯底做清洗，疏水性增加為清洗以后得出的結果，有著較為明顯的效果。