在國(guó)際上，隨著光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，紫外光表面清洗技術(shù)也被提了出來(lái)。有機(jī)化合物的光敏氧化作用為紫外光清洗技術(shù)所利用，從而使得將黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)去除的目的達(dá)到，通過(guò)光清洗后的材料表面能夠"原子清潔度"。紫外臭氧清洗機(jī)為一種小型紫外臭氧清洗設(shè)備,能夠用來(lái)對(duì)各種單晶基片進(jìn)行清洗，從而使得成膜質(zhì)量變得更好。與此同時(shí)，還能夠?qū)⒐饪棠z去除，使材料表面潤(rùn)濕性得到改善以及對(duì)SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等進(jìn)行清洗。一種無(wú)酸、干燥對(duì)材料無(wú)損傷的原子級(jí)別的清洗手段被提供，對(duì)于一些有機(jī)化合物的清除尤為合適。

紫外臭氧清洗機(jī)基本原理

有機(jī)化合物的光敏氧化作用為紫外光清洗技術(shù)所利用，從而使得將黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)去除的目的達(dá)到，通過(guò)光清洗后的材料表面能夠"原子清潔度"。波長(zhǎng)為185納米以及254納米的光波通過(guò)UV光源進(jìn)行發(fā)射，具有的能量相當(dāng)高，當(dāng)這些光子在被清洗物體表面發(fā)生作用時(shí)，因?yàn)榇蟛糠痔細(xì)浠衔飳?duì)于185納米波長(zhǎng)的紫外光所具有的吸收能力比較強(qiáng)，并且在對(duì)185納米波長(zhǎng)的紫外光的能量吸收以后使得離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子被分解出來(lái)，此即為所說(shuō)的光敏作用。空氣中的氧氣分子在對(duì)185納米波長(zhǎng)的紫外光進(jìn)行吸收以后也會(huì)有臭氧和原子氧產(chǎn)生。臭氧對(duì)254納米波長(zhǎng)的紫外光的吸收作用液同樣非常強(qiáng)烈。臭氧被分解成氧氣以及原子氧，其中原子氧是非?；顫姷模矬w表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕镌谄渥饔孟履軌虮换铣煽蓳]發(fā)的氣體。從表面逸出水蒸氣以及二氧化碳等，從而使得黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物被徹底清除了

在清洗時(shí)基板治濕性向上，通過(guò)滾輪方式輸玻璃基板，低壓水銀燈在上方裝置，使得紫外線照射產(chǎn)生。玻璃基板所累積紫外線有著越多的能量，其表面水就會(huì)有越小的接觸，成逆向關(guān)系。