HoloMonitor活細(xì)胞成像系統(tǒng)
HoloMonitor活細(xì)胞成像系統(tǒng)
KilobaserDNA /RNA探針合成儀
CURIOSIS Celloger Mini 自動(dòng)活細(xì)胞成像系統(tǒng)
Magnetofectamine O2轉(zhuǎn)染試劑盒
產(chǎn)品概述
Glial-Mag旨在通過(guò)小膠質(zhì)細(xì)胞系和原代細(xì)胞達(dá)到ZJ轉(zhuǎn)染效率。Glial-Mag試劑盒是由我們的Magnetofection?技術(shù)發(fā)行的特定磁性納米顆粒配方(Glial-Mag 試劑)與旨在提高轉(zhuǎn)染效率的增強(qiáng)劑(Glial-Boost)的結(jié)合體。
對(duì)于小膠質(zhì)細(xì)胞的轉(zhuǎn)染,BV2,N9,N13,HMO6,MG-5,SIM-A9,原發(fā)性小膠質(zhì)細(xì)胞。
可用于瞬時(shí)和穩(wěn)定的轉(zhuǎn)染
即用型,僅用于研究目的。
技術(shù)參數(shù)
GL00250: 250 μL膠質(zhì)Mag試劑+ 3mL膠質(zhì)Boost
GL00500:500 μL Glial -Mag試劑+ 6mL Glial-Boost
KGL00250: 250 μL Glial -Mag試劑+ 3mL Glial-Boost +1個(gè)超級(jí)磁性板
儲(chǔ)存:-20°C
運(yùn)輸條件:室溫

上傳人:上海跡亞國(guó)際商貿(mào)有限公司
大?。? B
1641
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電子增材打印設(shè)備是一種先進(jìn)的增材制造設(shè)備,主要應(yīng)用于顯示、半導(dǎo)體封裝、新能源鋰電等行業(yè),可打印具有電子功能的微納米級(jí)特征結(jié)構(gòu),被視為增材制造領(lǐng)域的下一個(gè)前沿。「西湖未來(lái)智造」通用型電子增材打印平臺(tái),采用微納墨水直寫(DIW)增材打印技術(shù),結(jié)合獨(dú)創(chuàng)自研納米級(jí)墨水材料,實(shí)現(xiàn)最小具有1~10 um特征尺寸的高性能金屬導(dǎo)電材料、聚合物及復(fù)合介質(zhì)材料的三維增材制造,可用于打印精密互聯(lián)線路、微波天線、無(wú)源器件
提供了一種方便的方法來(lái)創(chuàng)建納米模式,而無(wú)需使用緩慢且昂貴的光掩膜。這對(duì)于研究和快速原型設(shè)計(jì)特別有用。
紫外臭氧清洗機(jī)(UVOzone Cleaner, UVO),是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì),快速高效的材料表面清洗設(shè)備,能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)表面上的有機(jī)污染物。
CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設(shè)計(jì)的粉體專用等離子清洗機(jī),可以高效率地處理微細(xì)的甚至分子級(jí)別的超細(xì)粉體材料,改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機(jī)無(wú)法處理粉體樣品的問(wèn)題。
CIF 掃描電鏡(SEM)等離子清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程等離子清洗源 設(shè)計(jì),清洗快速、高效、低轟擊損傷,主要用于 SEM 或 FIB 等腔 體內(nèi)碳?xì)浠衔锏那逑础?/p>
CIF 透射電鏡(TEM)樣品桿清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程離子清洗源 設(shè)計(jì),清洗快速高效, 低轟擊損傷, 同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。 主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
CIF 推出的旋涂機(jī)系列產(chǎn)品轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速,旋涂均勻,操作簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。
CIF烤膠機(jī)是一種控溫加熱 設(shè)備。主要用于半導(dǎo)體硅片, 載玻片,晶片,基片,ITO 導(dǎo) 電玻璃等工藝的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。