安東帕專業(yè)型全自動折光儀Abbemat 7001/7201
布魯克TANGO小型化傅立葉變換近紅外光譜儀
飛行時間二次離子質(zhì)譜儀TOF-SIMS/量子研究
Specim IQ手持式高光譜儀
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安東帕專業(yè)型全自動折光儀Abbemat 7001/7201
安東帕專業(yè)型全自動折光儀Abbemat 7001/7201能夠滿足制藥行業(yè)規(guī)定,以及其他環(huán)保監(jiān)管要求:21 CFR Part 11、GAMP 5 和 EU GMP Vol. 4 Annex 11。它們能夠提供安全的數(shù)據(jù)管理、審計追蹤、電子簽名和訪問控制,確保隨時做好審計準(zhǔn)備,并能與工藝相集成,安全存儲測量值和元數(shù)據(jù)。AISQ+ 認(rèn)證包將認(rèn)證速度提升 70%,提供了風(fēng)險分析、SOP 和可追溯性文檔,以便在監(jiān)管環(huán)境下實現(xiàn)快速部署
關(guān)鍵功能
全面認(rèn)證您的制藥用折光儀
對測量設(shè)備的性能鑒定和日常監(jiān)測不僅僅是驗證折射率。安東帕還確保第二個關(guān)鍵參數(shù)的準(zhǔn)確性:溫度。
安東帕服務(wù)工程師能夠利用專利性 T-Check 系統(tǒng)驗證精確的溫度測量,提供:
通過用戶指南預(yù)防出錯
用戶權(quán)限管理能夠確保操作員只能訪問其工作所必須的功能。只有擁有對應(yīng)權(quán)限的用戶才能更改設(shè)置。用戶配置文件可以與域無縫集成。常規(guī)測量可以根據(jù)您的 SOP 構(gòu)建,并預(yù)先定義合格/不合格標(biāo)準(zhǔn)??梢耘渲脵z查間隔,以根據(jù)您的測量設(shè)備控制協(xié)議,執(zhí)行系統(tǒng)適用性測試。
安全數(shù)據(jù)管理選項
自動折光儀可以獨(dú)立使用,并將基于文件的數(shù)據(jù)導(dǎo)出到您的網(wǎng)絡(luò)?;蛘?,也可以通過 AP Connect 軟件管理數(shù)據(jù):不易操縱的加密 SQL 數(shù)據(jù)庫可確保在整個保留期內(nèi)安全存儲數(shù)據(jù)、直接備份和恢復(fù)數(shù)據(jù)、以及輕松訪問數(shù)據(jù)。
電子 AISQ+ 驗證文件
綜合分析儀器和系統(tǒng)驗證 (AISQ+) 極大減少了使用新制藥用折光儀所需的工作量。它可打印或完全數(shù)字化電子簽名,從而加快資格審查過程中的審查和批準(zhǔn)。
耐用藍(lán)寶石棱鏡
自動制藥用折光儀的優(yōu)質(zhì)光學(xué)元件經(jīng)過精心設(shè)計,經(jīng)久耐用,保證了卓越的彈性和長使用壽命。
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已咨詢44次光譜儀器
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已咨詢5235次光學(xué)測量儀器
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已咨詢3570次光學(xué)測量儀器
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已咨詢4391次光學(xué)測量儀器
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已咨詢2796次光學(xué)測量儀器
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已咨詢2732次光學(xué)測量儀器
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已咨詢4960次光學(xué)測量儀器
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已咨詢3521次光學(xué)測量儀器
PMMA 光刻膠是學(xué)術(shù)界和工業(yè)界廣泛使用的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)正性電子束光刻膠,適用于高分辨率特征和剝離工藝。它也可用于納米壓印應(yīng)用,以及石墨烯薄片轉(zhuǎn)移等其他晶圓廠和研發(fā)工藝。P(MMA-MAA) 共聚物光刻膠可與 PMMA 配合使用,用于 T 型柵極等雙層光刻膠工藝。它也可單獨(dú)用作高靈敏度正性光刻膠。
產(chǎn)品介紹 什么是 V-ITEX V-ITEX 是一種先進(jìn)的微萃取方法,它基于經(jīng)典的管內(nèi)萃取 (ITEX) 硬件,但在萃取過程中引入了減壓(真空)條件。想象一下,在真空環(huán)境下,樣品中的揮發(fā)性物質(zhì)更容易“逃逸”到氣相中,從而被更高效地捕獲和分析! V-ITEX 的核心優(yōu)勢 超高萃取效率與靈敏度 與傳統(tǒng)的頂空固相微萃取 (HS-SPME) 和經(jīng)典 HS-ITEX 相比,V-ITEX 能夠萃取到高達(dá) 450 倍的化合物量! 這意味著可以檢測到更多種類、含量更低的揮發(fā)性化合物,顯著提升分析的靈敏度和全面性。
1、安東帕服務(wù)工程師能夠利用專利性 T-Check 系統(tǒng)驗證精確的溫度測量 2、常規(guī)測量可以根據(jù)您的 SOP 構(gòu)建,并預(yù)先定義合格/不合格標(biāo)準(zhǔn)??梢耘渲脵z查間隔,以根據(jù)您的測量設(shè)備控制協(xié)議,執(zhí)行系統(tǒng)適用性測試。 3、綜合分析儀器和系統(tǒng)驗證 (AISQ+) 極大減少了使用新制藥用折光儀所需的工作量。它可打印或完全數(shù)字化電子簽名,從而加快資格審查過程中的審查和批準(zhǔn)。
蔡司激光共聚焦顯微系統(tǒng) LSM 990 集多種成像技術(shù)于一體的多功能共聚焦系統(tǒng) [ 產(chǎn)品簡介 ] 蔡司激光共聚焦顯微系統(tǒng) LSM 990 集多種顯微成像技術(shù)與一身,是一款專為生命科學(xué)研究而設(shè)計的多功能先進(jìn)共聚焦顯微成像系統(tǒng)。該系統(tǒng)采用高靈敏度的檢測器和多種激光源,可以輕松實現(xiàn)從微米到數(shù)十納米的多色超分辨三維成像。其出色的分辨率,優(yōu)異的成像深度及超快的成像速度能夠滿足多種應(yīng)用場景需要,為使用者提供優(yōu)異的靈活性和成像質(zhì)量。同時,作為綜合性的多功能成像平臺,LSM 990特殊的光路設(shè)計及強(qiáng)大的電子控制系統(tǒng)賦予了其出色的擴(kuò)展能力。可通過搭載多種功能模塊,使其具備雙光子成像、超高分辨率成像、
【特點(diǎn)】 1、領(lǐng)先的屏幕截取功能:直接將儀器屏幕上的各種波形圖保存為BMP文件,并輸出到PC機(jī) 2、領(lǐng)先的關(guān)機(jī)自動保存功能:方便下次開機(jī)讀取測量的數(shù)據(jù) 3、240*320彩色TET LED顯示屏:更適用于黑暗環(huán)境下作業(yè) 4、較VA-11S采樣點(diǎn)數(shù)提高一倍左右,為8192個采樣點(diǎn)更精確的了解每一單一頻率下的幅值。 5、三種顯示方式:振動表,時域譜和FFT分析功能。測量數(shù)據(jù)保存在存儲卡上。 7、附帶中文軟件方便于PC機(jī)上分析,打印報表。
特點(diǎn) 開口部大,提高安全性 還標(biāo)準(zhǔn)裝備防止機(jī)械、電氣事故的機(jī)構(gòu),如在開口部(開口部擴(kuò)大,方便樣品進(jìn)出)設(shè)置防止誤操作的區(qū)域傳感器等。 細(xì)致應(yīng)對作業(yè)需要 搭載容易固定小樣品的磁板、日常檢查不可或缺的標(biāo)準(zhǔn)試驗片等裝備。除此之外,在軟件方面,也針對以豐富幫助功能等為代表的增強(qiáng)日常操作性進(jìn)行了極其細(xì)微的應(yīng)對。 追求使用便捷性和安全性 圖像 為了更容易使用、更安全地作業(yè),對細(xì)節(jié)進(jìn)行了精心考慮,如兩側(cè)的大型窗口、LED照明、電源開關(guān)的保護(hù)蓋、前面的透明板可安裝拆卸等。 還有固定彎曲印刷電路板的治具、測定時防止樣品背面沾水的局部浸水裝置等選購件,請隨時咨詢。
適合科研領(lǐng)域的中小型實驗凈房與納米加工的學(xué)術(shù)研究領(lǐng)域 原位成像和灰度光刻模塊的熱探針光刻解決方案 NanoFrazor? Scholar特別適合納米加工研究的學(xué)術(shù)單位,用于在1D/2D 材料, 例如量子點(diǎn)和納米數(shù)組上制作量子器件的納米結(jié)構(gòu),其獨(dú)特的功能使能夠應(yīng)用任何新材料。 例如,灰度光子學(xué)設(shè)備、納米流道結(jié)構(gòu)或用于細(xì)胞生長的仿生基質(zhì)等進(jìn)階應(yīng)用; 通過加熱探針對材料進(jìn)行局部改性,例如化學(xué)反應(yīng)和物理相變。
光學(xué)系統(tǒng)上的創(chuàng)新與突破-平行化曝光制程技術(shù)制版系統(tǒng) VPG +大尺寸曝光系統(tǒng)適合用于先進(jìn)封裝,半導(dǎo)體,顯示器,彩色濾光片,LED和觸摸屏等相關(guān)掩膜版制作的應(yīng)用。 ?VPG +系統(tǒng)支持所有工業(yè)等級數(shù)據(jù)化格式,并提供Mura優(yōu)化功能,呈現(xiàn)完美的CD均勻性和分辨率。 VPG + 1400是我們大的系統(tǒng),特別針對顯示器領(lǐng)域和FPD的應(yīng)用,例如TFT數(shù)組和彩色濾光片以及ITO。? VPG + 1400具有高精度的設(shè)備架構(gòu),分辨率低至1.2 nm的差分干涉儀及先進(jìn)的Mura校正功能。