安東帕Anton Paar全自動微量落球黏度計Lovis 2000 M/ME
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科研用緊湊型納米壓印儀
安東帕納米劃痕儀NST3
納米壓印機特色：
? 體積小巧，容易存放，桌面型；
? 輕微復(fù)制微米和納米級結(jié)構(gòu)；
? 熱壓印溫度高達(dá)200℃；
? 可選的高溫模塊，適用于250℃；
? UV納米壓印，365nm曝光；
? 可選的UV模塊，適用于405nm曝光；
? 真空納米壓印（腔室可抽真空至0.1mbar）；
? 納米壓印壓力高達(dá)11bar；
? 溫度分布均勻、讀數(shù)精準(zhǔn)；
? 筆記本電腦全自動控制，工藝配方編輯簡單，完全靈活控制，自動記錄數(shù)據(jù)；
? 直徑最大210mm（圓形）腔室；
? 腔室高度為20mm；
? 即插即用
? 使用簡單直觀
? 專為研發(fā)而設(shè)計
? 提供安裝和操作教程視頻
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PMMA 光刻膠是學(xué)術(shù)界和工業(yè)界廣泛使用的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)正性電子束光刻膠，適用于高分辨率特征和剝離工藝。它也可用于納米壓印應(yīng)用，以及石墨烯薄片轉(zhuǎn)移等其他晶圓廠和研發(fā)工藝。P(MMA-MAA) 共聚物光刻膠可與 PMMA 配合使用，用于 T 型柵極等雙層光刻膠工藝。它也可單獨用作高靈敏度正性光刻膠。
產(chǎn)品介紹 什么是 V-ITEX V-ITEX 是一種先進(jìn)的微萃取方法，它基于經(jīng)典的管內(nèi)萃取 (ITEX) 硬件，但在萃取過程中引入了減壓（真空）條件。想象一下，在真空環(huán)境下，樣品中的揮發(fā)性物質(zhì)更容易“逃逸”到氣相中，從而被更高效地捕獲和分析！ V-ITEX 的核心優(yōu)勢 超高萃取效率與靈敏度 與傳統(tǒng)的頂空固相微萃取 (HS-SPME) 和經(jīng)典 HS-ITEX 相比，V-ITEX 能夠萃取到高達(dá) 450 倍的化合物量！ 這意味著可以檢測到更多種類、含量更低的揮發(fā)性化合物，顯著提升分析的靈敏度和全面性。
1、安東帕服務(wù)工程師能夠利用專利性 T-Check 系統(tǒng)驗證精確的溫度測量 2、常規(guī)測量可以根據(jù)您的 SOP 構(gòu)建，并預(yù)先定義合格/不合格標(biāo)準(zhǔn)?？梢耘渲脵z查間隔，以根據(jù)您的測量設(shè)備控制協(xié)議，執(zhí)行系統(tǒng)適用性測試。 3、綜合分析儀器和系統(tǒng)驗證 (AISQ+) 極大減少了使用新制藥用折光儀所需的工作量。它可打印或完全數(shù)字化電子簽名，從而加快資格審查過程中的審查和批準(zhǔn)。
蔡司激光共聚焦顯微系統(tǒng) LSM 990 集多種成像技術(shù)于一體的多功能共聚焦系統(tǒng) [ 產(chǎn)品簡介 ] 蔡司激光共聚焦顯微系統(tǒng) LSM 990 集多種顯微成像技術(shù)與一身，是一款專為生命科學(xué)研究而設(shè)計的多功能先進(jìn)共聚焦顯微成像系統(tǒng)。該系統(tǒng)采用高靈敏度的檢測器和多種激光源，可以輕松實現(xiàn)從微米到數(shù)十納米的多色超分辨三維成像。其出色的分辨率，優(yōu)異的成像深度及超快的成像速度能夠滿足多種應(yīng)用場景需要，為使用者提供優(yōu)異的靈活性和成像質(zhì)量。同時，作為綜合性的多功能成像平臺，LSM 990特殊的光路設(shè)計及強大的電子控制系統(tǒng)賦予了其出色的擴展能力。可通過搭載多種功能模塊，使其具備雙光子成像、超高分辨率成像、
【特點】 1、領(lǐng)先的屏幕截取功能：直接將儀器屏幕上的各種波形圖保存為BMP文件，并輸出到PC機 2、領(lǐng)先的關(guān)機自動保存功能：方便下次開機讀取測量的數(shù)據(jù) 3、240*320彩色TET LED顯示屏：更適用于黑暗環(huán)境下作業(yè) 4、較VA-11S采樣點數(shù)提高一倍左右，為8192個采樣點更精確的了解每一單一頻率下的幅值。 5、三種顯示方式：振動表，時域譜和FFT分析功能。測量數(shù)據(jù)保存在存儲卡上。 7、附帶中文軟件方便于PC機上分析，打印報表。
特點 開口部大，提高安全性 還標(biāo)準(zhǔn)裝備防止機械、電氣事故的機構(gòu)，如在開口部（開口部擴大，方便樣品進(jìn)出）設(shè)置防止誤操作的區(qū)域傳感器等。 細(xì)致應(yīng)對作業(yè)需要 搭載容易固定小樣品的磁板、日常檢查不可或缺的標(biāo)準(zhǔn)試驗片等裝備。除此之外，在軟件方面，也針對以豐富幫助功能等為代表的增強日常操作性進(jìn)行了極其細(xì)微的應(yīng)對。 追求使用便捷性和安全性 圖像 為了更容易使用、更安全地作業(yè)，對細(xì)節(jié)進(jìn)行了精心考慮，如兩側(cè)的大型窗口、LED照明、電源開關(guān)的保護(hù)蓋、前面的透明板可安裝拆卸等。 還有固定彎曲印刷電路板的治具、測定時防止樣品背面沾水的局部浸水裝置等選購件，請隨時咨詢。
適合科研領(lǐng)域的中小型實驗凈房與納米加工的學(xué)術(shù)研究領(lǐng)域 原位成像和灰度光刻模塊的熱探針光刻解決方案 NanoFrazor? Scholar特別適合納米加工研究的學(xué)術(shù)單位，用于在1D/2D 材料， 例如量子點和納米數(shù)組上制作量子器件的納米結(jié)構(gòu)，其獨特的功能使能夠應(yīng)用任何新材料。 例如，灰度光子學(xué)設(shè)備、納米流道結(jié)構(gòu)或用于細(xì)胞生長的仿生基質(zhì)等進(jìn)階應(yīng)用； 通過加熱探針對材料進(jìn)行局部改性，例如化學(xué)反應(yīng)和物理相變。
光學(xué)系統(tǒng)上的創(chuàng)新與突破-平行化曝光制程技術(shù)制版系統(tǒng) VPG +大尺寸曝光系統(tǒng)適合用于先進(jìn)封裝，半導(dǎo)體，顯示器，彩色濾光片，LED和觸摸屏等相關(guān)掩膜版制作的應(yīng)用。 ?VPG +系統(tǒng)支持所有工業(yè)等級數(shù)據(jù)化格式，并提供Mura優(yōu)化功能，呈現(xiàn)完美的CD均勻性和分辨率。 VPG + 1400是我們大的系統(tǒng)，特別針對顯示器領(lǐng)域和FPD的應(yīng)用，例如TFT數(shù)組和彩色濾光片以及ITO。? VPG + 1400具有高精度的設(shè)備架構(gòu)，分辨率低至1.2 nm的差分干涉儀及先進(jìn)的Mura校正功能。
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