原子層沉積系統(tǒng)-SE6

1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD，PEALD，與ALA等先進制程。 2. SE series具有高度的改造彈性，但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。 3. 原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計具有便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高的產(chǎn)品定位。

WinSPM EDU掃描探針顯微鏡教學實驗系統(tǒng)

WinSPM EDU 系統(tǒng)榮獲“全國教學儀器設(shè)備評比較好獎”,該獎項由國家教育裝備委員會頒發(fā)，表彰其在納米教育實驗系統(tǒng)方面的創(chuàng)新設(shè)計、穩(wěn)定性能和在全國高校廣泛應用中的突出表現(xiàn)。

氮氣發(fā)生器-TOUDENKI

日本東宇 是業(yè)界知名的氮氣發(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷售經(jīng)驗及專業(yè)的售后支持團隊。 日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實驗室持續(xù)開發(fā)新機型。 在日本、 中國等多國取得多項技術(shù)專利。工廠通過ISO9001認證。

AFM探針

較為低的曲率半徑：每根針經(jīng)過質(zhì)檢； 較小探針差異：較為特加工工藝實現(xiàn)精準控制

臺式無掩模光刻機-SHNTI

AIUniBeam”是一種基于Al的光束均勻性補償技術(shù)采用光束輪廓儀進行補償。光束輪廓儀測量每個像素的強度，然后通過像素控制對局部強度進行補償和優(yōu)化，以滿足98%以上的均勻性。

電子束曝光系統(tǒng)-納騰Pharos 310電子束曝光系統(tǒng)

電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 ， 是光刻工藝的延伸應用 。 電子束曝光系統(tǒng)是實現(xiàn)電子束曝光 技術(shù)的硬件平臺，系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關(guān)鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數(shù)。

拉曼增強試劑

SERS芯片基底

我們的SERS基底采用創(chuàng)新技術(shù)制造，使您可以進行SERS快速和重復測量，從而對SERS活性的樣品進行定性分析和定量分析。