電子束曝光機（Electron Beam Lithography, EBL）
電子束曝光系統(tǒng) ELS-F125/F100/HS50
原子層沉積系統(tǒng)-SE6
臺式無掩模光刻機-SHNTI
聚合物筆印刷Park XE-PPL
電子束曝光一種高分辨率的微細(xì)加工技術(shù)，廣泛應(yīng)用于納米科技和半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。其基本原理是利用聚焦的電子束在光刻膠上進(jìn)行直接寫入，通過改變光刻膠的化學(xué)性質(zhì)來形成微納米結(jié)構(gòu)圖案。上海納騰儀器有限公司自主研發(fā)的電子束曝光機（Pharos系列產(chǎn)品）， 具有高分辨率、 精準(zhǔn)控制和高度自動化的優(yōu)勢， 被廣泛應(yīng)用于制備半導(dǎo)體芯片、 光子學(xué)元件和其他微納米結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域， 是進(jìn)行亞微米至納米級曝光技術(shù)研發(fā)的理想工具。
Pharos X100電子束曝光機作為新一代納米加工平臺，集成了100kV高亮度熱場發(fā)射電子源、高速靜電束閘、支持高通量與高精度雙模式運行，配備20位圖形發(fā)生器及多級靜電偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)，二維真空位移臺與激光干涉全閉環(huán)測距系統(tǒng)完美契合，同時具備動態(tài)檢焦功能，確保超精度的圖形完美加工。
、
電子束曝光機通用框圖
產(chǎn)品參數(shù)：
| 電子槍 | 肖特基場發(fā)射 |
| 較高加速電壓 | 100kV |
| 較小加工線寬（特征尺寸） | ≤ 10nm |
| 圖形套刻精度 | ≤ 25nm |
| 寫場拼接精度 | ≤ 25nm |
| 較大寫場范圍 | 3000μm |
| 電子束束斑尺寸 | ≤5nm |
| 樣品尺寸 | 2-12英寸晶圓，同時兼容小尺寸晶片 |
| 較高圖形發(fā)生器頻率 | 100 MHz |
| 電子束束流范圍 | 5pA-100nA |
| 定位方式 | 激光干涉 |
| 功能配置 | 自動聚焦像散與高度測量 |
電子束曝光機設(shè)備布局參考圖：
1、主機：1.6m×1.4m×2.2m（長寬高），合計約 4.5 噸
2、機柜：0.8m ×0.6m ×1.8m，約 0.5 噸×3 個
3、設(shè)備進(jìn)出門：1.6m×2.4m(寬高）
4、建議房間高度：3.0m
5、電源 ：單相 220V，12kW，63A 空開
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電子束曝光一種高分辨率的微細(xì)加工技術(shù)，廣泛應(yīng)用于納米科技和半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。其基本原理是利用聚焦的電子束在光刻膠上進(jìn)行直接寫入，通過改變光刻膠的化學(xué)性質(zhì)來形成微納米結(jié)構(gòu)圖案。上海納騰儀器有限公司自主研發(fā)的電子束曝光機（Pharos系列產(chǎn)品）， 具有高分辨率、 精準(zhǔn)控制和高度自動化的優(yōu)勢， 被廣泛應(yīng)用于制備半導(dǎo)體芯片、 光子學(xué)元件和其他微納米結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域， 是進(jìn)行亞微米至納米級曝光技術(shù)研發(fā)的理想工具。
1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD，PEALD，與ALA等先進(jìn)制程。 2. SE series具有高度的改造彈性，但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。 3. 原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計具有便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高的產(chǎn)品定位。
WinSPM EDU 系統(tǒng)榮獲“全國教學(xué)儀器設(shè)備評比較好獎”,該獎項由國家教育裝備委員會頒發(fā)，表彰其在納米教育實驗系統(tǒng)方面的創(chuàng)新設(shè)計、穩(wěn)定性能和在全國高校廣泛應(yīng)用中的突出表現(xiàn)。
日本東宇 是業(yè)界知名的氮氣發(fā)生器廠家,擁有30年豐富的銷售經(jīng)驗及專業(yè)的售后支持團(tuán)隊。 日本京都的研發(fā)生產(chǎn)中心, 與合作實驗室持續(xù)開發(fā)新機型。 在日本、 中國等多國取得多項技術(shù)專利。工廠通過ISO9001認(rèn)證。
較為低的曲率半徑：每根針經(jīng)過質(zhì)檢； 較小探針差異：較為特加工工藝實現(xiàn)精準(zhǔn)控制
AIUniBeam”是一種基于Al的光束均勻性補償技術(shù)采用光束輪廓儀進(jìn)行補償。光束輪廓儀測量每個像素的強度，然后通過像素控制對局部強度進(jìn)行補償和優(yōu)化，以滿足98%以上的均勻性。
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 ， 是光刻工藝的延伸應(yīng)用 。 電子束曝光系統(tǒng)是實現(xiàn)電子束曝光 技術(shù)的硬件平臺，系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關(guān)鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數(shù)。
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