 頂空技術(shù)的分類 頂空技術(shù)依據(jù)其不同的取樣和進樣方式可分為： 靜態(tài)頂空：將樣品放置在一密閉容器中，在一定溫度下放置一段時間使氣液兩相達到平衡，取氣相部分進入GC分析，有稱平衡頂空或者一次氣相萃取 動態(tài)頂空：在樣品中連續(xù)通入惰性氣體，揮發(fā)性組分即隨該萃取氣體中樣品中溢出，然后通過一個吸附裝置（補集器）將樣品濃縮，Z后再將樣品解吸進入氣譜分析這是一種連續(xù)的多次氣相萃取，直到樣品中的揮發(fā)性組分完全萃取出來 方法 優(yōu)點 缺點 靜態(tài)頂空 1樣品基質(zhì)（如水）的干擾極小 2儀器較簡單，不需要吸附裝置 3揮發(fā)性樣品組分不會丟失 1靈敏度稍低 2難以分析較高沸點的樣品 動態(tài)頂空 1可將揮發(fā)性組分全部萃取出來，并在捕集裝置中濃縮后分析 2靈敏度較高 3比靜態(tài)頂空應(yīng)用范圍更廣，使 用于沸點較高的組分 1樣品基質(zhì)可能干擾分析 2儀器較復(fù)雜 3吸附和解吸可能造成樣 品組分的丟失  1.5 靜態(tài)頂空  1.5.1 靜態(tài)頂空的原理: 液氧中烴類雜質(zhì)分析專用氣相色譜儀