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氮氧化硅薄膜材料具有優(yōu)異的熱力學介電及光學性能 ,在微電子光學器件等方面有著重要應用其 主要制備方法包括化學氣相沉積濺射直接氮化/氧化及離子植入綜述了該類材料的制備方法和應用研究進展 , 并指出了制備方法和應用研究的發(fā)展方向 TEM用氮化硅薄膜窗口 上海昭沅

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