概要 薄膜測量系統(tǒng)是基于白光干涉的原理來確定光學(xué)薄膜的厚度白光干涉圖樣通過數(shù)學(xué)函數(shù)被計算出薄膜厚度對于單層膜來說，如果已知薄膜介質(zhì)的n和k值就可以計算出它的物理厚度附著在基底上的薄膜就如同一個標(biāo)準(zhǔn)具，當(dāng)觀察其表面的反射率時會看到一幅干涉條紋圖樣當(dāng)組合不同折射率的材料時，條紋間隔的正弦曲線分布可以用來計算此薄膜的厚度薄膜測量廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體晶片生產(chǎn)工業(yè)，此時需要監(jiān)控等離子刻蝕和沉積加工過程還可以用于其它需要測量在金屬和玻璃基底上鍍制透明膜層的領(lǐng)域其他領(lǐng)域中，金屬表面的透明涂層和玻璃襯底也需要嚴(yán)格測量 USB2000+光纖光譜儀 美國海洋光學(xué) Maya2000-Pro紫外可見光纖光譜儀 －美國海洋光學(xué) QE65000-ABS紫外可見光纖光譜儀-美國海洋光學(xué) TMS透過率/透光率測試儀 球面光學(xué)元件顯微檢測儀Sphere-3000 Planum-3000全自動光學(xué)元件光譜分析儀 405nm激光誘導(dǎo)熒光系統(tǒng)