摘要：

Agilent 8800 ICP-MS/MS（采用 MS/MS 模式）可以準(zhǔn) 確、GX地測定不同濃度（30 ppm 和 2000 ppm）高純硅 基質(zhì)中的 P、Ti 和其他痕量元素。所有元素的 BEC 和 DL 都非常低，MS/MS 模式可以確保將目標(biāo)產(chǎn)物離子與其他 分析物生成的潛在干擾產(chǎn)物離子分離。這是 8800 ICP-MS/ MS 的 MS/MS 模式所獨有的功能。即使在使用超低流量 霧化器的條件下，仍然可以獲得優(yōu)異的靈敏度和超低的檢 測限，對于 2000 ppm Si 基質(zhì)樣品可連續(xù)測定超過 3 小 時，表明儀器具有出色的信號穩(wěn)定性。