研究領(lǐng)域：純鎳點(diǎn)蝕 測(cè)量方法：塔菲爾曲線 利用電化學(xué)測(cè)量方法測(cè)量純鎳在3.4%NaCL溶液中，靜水壓力為0MPa和8MPa條件下的點(diǎn)蝕擊破電位和孕育時(shí)間，分析得到純鎳在不同靜水壓力下點(diǎn)蝕擊破電位的理論極ng確值，利用隨機(jī)分析方法分析純鎳在靜水壓力下的點(diǎn)蝕機(jī)制，實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明靜水壓力對(duì)純鎳的點(diǎn)蝕過(guò)程有著重要的影響，在靜水壓力下純鎳的點(diǎn)蝕行為和機(jī)制發(fā)生了改變