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在空氣中保存并且接觸水溶液后，PH值滴定實(shí)驗(yàn) 測(cè)得氮化硅片的等電點(diǎn)（IEP）為PH4與氧化硅 片相比，IEP移向了更高的PH值然而，如果用 5%的HF酸處理幾秒鐘，IEP變?yōu)?.3，這說(shuō)明HF 有效出去了氮化硅表面的自生氧化層如果在HF 處理之前先用Piranha 溶液處理一下，氧化物層 將會(huì)被處理的更徹底 安東帕SurPASS固體表面分析儀/固體電位運(yùn)動(dòng)分析儀/固體表面ZETA電位測(cè)量?jī)x

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