【概述】   

電子在電場的作用下，飛向基片過程中與氣體原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出氣體正離子和新的電子；新電子飛向基片，離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子借助于靶表面上形成的正交電磁場，被束縛在靶表面特定區(qū)域，增強(qiáng)電離效率，增加離子密度和能量，從而實(shí)現(xiàn)高速率濺射。

主要應(yīng)用：

適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜、鉑金、銀、鎳、銅等），儀器操作簡單方便，是配合各類型掃描電子顯微鏡制樣必備的儀器。是制備低維度，小尺寸納米材料器件的必備實(shí)驗(yàn)手段，廣泛應(yīng)用于集成電路，光子晶體，低維半導(dǎo)體、微生物、超微膜材料等領(lǐng)域。

配套世界主流掃描電子顯微鏡廠家：

熱電（美國原荷蘭）FEI鎢絲陰極、場發(fā)射、飛納臺(tái)式等各類型電子顯微鏡，蔡司（德國）鎢絲陰極、場發(fā)射各系列的掃描電子顯微鏡，JEOL（日本電子）各類電鏡，日立（日本）各系列電鏡、臺(tái)式電鏡，TESCAN泰斯肯（捷克）各系列電鏡，還有如韓國“賽科”、COXEM庫賽姆、MIRERO等電鏡品牌及所有需要樣品前期處理，提高成像質(zhì)量、增強(qiáng)導(dǎo)電性能等表面鍍膜處理的樣品制備工作。

【實(shí)驗(yàn)/設(shè)備條件】

     掃描電鏡、場發(fā)射、能譜儀定性定量分析

【樣品提取】

    切割機(jī)---切割樣品--超聲清洗---干燥（生物樣品需臨界點(diǎn)干燥）---放置樣品杯

【實(shí)驗(yàn)/操作方法】

        所需設(shè)備小型離子濺射儀（TZZN-1000CK）

升級型                                         低溫磁控型

1.打開電源，預(yù)抽3-5分鐘

2.場發(fā)射電鏡，使用電流10毫安，鍍膜時(shí)間60秒

  鎢絲陰極，可用高壓2000V左右的直流濺射，電流8毫安，鍍膜時(shí)間3分鐘

   調(diào)試好濺射儀工作狀態(tài)，并設(shè)置好參數(shù)，關(guān)閉電源準(zhǔn)備。

3.將處理好的樣品：如：鏡片

4.將樣品放置于樣品臺(tái)正中，大約距離濺射靶源50毫米左右，如果是磁控型的可放置于20毫米左右。

5.打開濺射儀工作電源。

【實(shí)驗(yàn)結(jié)果/結(jié)論】

      高壓型濺射儀在處理樣品，樣品的鍍膜厚度與鍍膜的電流和時(shí)間成正比關(guān)系，但樣品表面的溫升范圍很大，容易對樣品造成熱損傷。

鍍膜效果：12毫安，斷續(xù)5分鐘，給鏡片鍍膜

    低溫磁控型處理樣品：60秒樣品表面無明顯改變，裸眼觀測會(huì)有淺灰色；當(dāng)加大電流且延長鍍膜時(shí)間，隨著時(shí)間的延長，樣品表面的顏色有灰色到金色。

  如果需要鍍一層厚膜，建議使用高壓型離子濺射儀。

【儀器/耗材清單】

     切割機(jī)：用于提取樣品適合掃描電鏡和離子濺射儀

    拋光機(jī)：本次未用

   超聲清洗機(jī)：清楚樣品污染

   導(dǎo)電膠或是導(dǎo)電膠帶：固定樣品

   樣品杯：固定放置樣品

   掃描電鏡：觀測，分析

   離子濺射儀：樣品導(dǎo)電性處理

標(biāo)簽：離子濺射儀失效分析鍍膜制樣