- 2025-01-21 09:34:48二氧化硅納米
- 二氧化硅納米是指尺度在納米級(jí)別的二氧化硅顆粒。它具備獨(dú)特的物理化學(xué)性質(zhì),如高比表面積、優(yōu)異的分散性和穩(wěn)定性等。在材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、催化劑等領(lǐng)域,二氧化硅納米有著廣泛的應(yīng)用,如用于藥物載體、傳感器材料、高性能涂料等。其獨(dú)特的納米效應(yīng),使其展現(xiàn)出不同于宏觀二氧化硅的特殊性能和應(yīng)用潛力。
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二氧化硅納米資訊
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二氧化硅納米問答
- 2022-11-11 22:42:17納米二氧化硅表面改性研究-低場(chǎng)核磁技術(shù)
- 納米二氧化硅表面改性研究-低場(chǎng)核磁技術(shù)納米二氧化硅具有常規(guī)材料難以比擬的優(yōu)異性能,在先進(jìn)陶瓷、微電子、航天航空、生物制藥、光學(xué)檢測(cè)等領(lǐng)域獲得了廣泛的應(yīng)用,但由于穩(wěn)定性低、易發(fā)生團(tuán)聚和難于分散,需要對(duì)超細(xì)粉體進(jìn)行適當(dāng)?shù)谋砻嫣幚硪愿纳祁w粒的表面特性和提高其分散性能,達(dá)到應(yīng)用要求。納米二氧化硅表面改性方法納米二氧化硅表面改性方法是指改變非金屬礦物粉體表面或界面的物理化學(xué)性質(zhì)的方法,主要有表面物理涂覆、化學(xué)包覆、無(wú)機(jī)沉淀包覆或薄膜、機(jī)械力化學(xué)、化學(xué)插層等。目前工業(yè)上粉體表面改性常用的方法主要有表面化學(xué)包覆改性法、沉淀反應(yīng)改性法、機(jī)械化學(xué)改性法和復(fù)合法。在實(shí)際生產(chǎn)過程中,正確評(píng)價(jià)表面改性效果,對(duì)及時(shí)調(diào)整改性劑、工藝與設(shè)備參數(shù)等至關(guān)重要。低場(chǎng)核磁共振技術(shù)可用于粉體表面改性研究,特別是懸浮體系的表面特性研究。低場(chǎng)核磁技術(shù)用于納米二氧化硅表面改性劑研究的基本原理:對(duì)于潤(rùn)濕的顆粒體系,顆粒表面會(huì)附著一層液相分子,這些液相分子因無(wú)機(jī)相表面的吸附作用而運(yùn)動(dòng)受限。但未與顆粒相接觸的液相分子運(yùn)動(dòng)是自由的,液相分子的馳豫時(shí)間(relaxation time)與它所處的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)密切相關(guān),自由狀態(tài)的液相分子的核磁馳豫時(shí)間要比束縛狀態(tài)的液相分子的馳豫時(shí)間長(zhǎng)得多,顆粒分散性更好的體系吸附溶劑量相對(duì)更多,弛豫時(shí)間也就更短。因此,可以利用低場(chǎng)核磁共振技術(shù)來測(cè)量懸浮液體系的馳豫時(shí)間,并計(jì)算顆粒的濕潤(rùn)比表面積(可利用的吸附表面積),進(jìn)而用來研究顆粒的團(tuán)聚狀態(tài)、分散性穩(wěn)定性、親和性以及潤(rùn)濕性等問題。
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- 2023-06-05 09:39:20傅立葉變換紅外光譜儀測(cè)定粉塵中游離二氧化硅含量
- 關(guān)鍵詞:紅外光譜儀 定量檢測(cè) 游離二氧化硅 在電力、煤炭等行業(yè)生產(chǎn)環(huán)境中,粉塵中游離二氧化硅含量較高,粉塵的分散度也比較高,即多為呼吸性粉塵,因此對(duì)作業(yè)人員的危害較大,主要包括鼻炎、咽炎、氣管炎、支氣管炎等呼吸系統(tǒng)疾病。因此,加強(qiáng)對(duì)粉塵中游離二氧化硅含量的檢測(cè)是一件非常重要和緊迫的工作。以往檢測(cè)均采用“焦磷酸重量法”,該方法存在操作步驟復(fù)雜、使用試劑種類繁多、檢測(cè)周期長(zhǎng)、準(zhǔn)確性差、試驗(yàn)室條件要求苛刻等一系列問題,難以滿足現(xiàn)場(chǎng)批量檢測(cè)的要求。為了提高檢測(cè)的準(zhǔn)確性,實(shí)現(xiàn)批量檢測(cè)的目的,可選用FTIR920型傅立葉變換紅外光譜儀來檢測(cè)粉塵中游離二氧化硅含量。檢測(cè)原理:α-石英在紅外光譜中于 12.5μm(800cm-1)、12.8μm(780cm-1)及 14.4(694cm-1)μm處出現(xiàn)特異性強(qiáng)的吸收帶,在一定范圍內(nèi),其吸光度值與α-石英質(zhì)量成線性關(guān)系。通過測(cè)量吸光度,進(jìn)行定量測(cè)定。儀器配置:制樣準(zhǔn)備:瓷坩堝和坩堝鉗;箱式電阻爐或低溫灰化爐;十萬(wàn)分之一天平;200目過濾篩;濾紙、稱量紙 若干;無(wú)水乙醇;手套、脫脂棉、小藥勺、玻璃取樣瓶;游離二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)品(純度高于95%);采集的粉塵樣品。樣品的采集:根據(jù)測(cè)定目的,樣品的采集方法參見 GBZ 159 和 GBZ/T 192.2 或 GBZ/T 192.1,濾膜上采集的粉塵量大于 0.1mg 時(shí),可直接用于本法測(cè)定游離二氧化硅含量。測(cè)定:1、樣品處理準(zhǔn)確稱量采有粉塵的濾膜上粉塵的質(zhì)量(G)。然后將受塵面向內(nèi)對(duì)折 3 次,放在瓷坩堝內(nèi),置于低溫灰化爐或電阻爐(小于 600℃)內(nèi)灰化,冷卻后,放入干燥器內(nèi)待用。稱取 250mg 溴化鉀和灰化后的粉塵樣品一起放入瑪瑙乳缽中研磨混勻后,連同壓片模具一起放入干燥箱(110℃±5℃)中10min。將干燥后的混合樣品置于壓片模具中,加壓25MPa,持續(xù) 3min,制備出的錠片作為測(cè)定樣品。同時(shí),取空白濾膜一張,同樣處理,作為空白對(duì)照樣品。2、石英標(biāo)準(zhǔn)曲線的繪制 精確稱取不同質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)α-石英塵(0.01mg ~1.00mg),分別加入250mg 溴化鉀,置于瑪瑙乳缽中充分研磨均勻,按上述樣品制備方法做出透明的錠片。將不同質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)石英錠片置于樣品室光路中進(jìn)行掃描,紅外軟件以 X 軸橫坐標(biāo)記錄 1000cm-1~600cm-1 的譜圖,在 900cm-1 處校正零點(diǎn)和 100%,以 Y 軸縱坐標(biāo)表示吸光度。以 800cm-1、780cm-1 及 694cm-1 三處的吸光度值為縱坐標(biāo),以石英質(zhì)量(mg)為橫坐標(biāo),繪制三條不同波長(zhǎng)的α-石英標(biāo)準(zhǔn)曲線,并求出標(biāo)準(zhǔn)曲線的回歸方程式。在無(wú)干擾的情況下,一般選用 800 cm-1標(biāo)準(zhǔn)曲線進(jìn)行定量分析。3、樣品測(cè)定分別將樣品錠片與空白對(duì)照樣品錠片置于樣品室光路中進(jìn)行掃描,記錄800cm-1(或 694cm-1)處的吸光度值,重復(fù)掃描測(cè)定 3 次,測(cè)定樣品的吸光度均值減去空白對(duì)照樣品的吸光度均值后,由α-石英標(biāo)準(zhǔn)曲線得樣品中游離二氧化硅的質(zhì)量(m)。計(jì)算 按以下公式計(jì)算粉塵中游離二氧化硅的含量:SiO2(F)= m/G× 100公式中:SiO2(F)——粉塵中游離二氧化硅(α-石英)的含量,%;m——測(cè)得的粉塵樣品中游離二氧化硅的質(zhì)量,mg;G——粉塵樣品質(zhì)量,mg。注意事項(xiàng)1、本法的α-石英檢出量為 0.01mg;相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)差(RSD)為 0.64%~1.41%。2、粉塵粒度大小對(duì)測(cè)定結(jié)果有一定影響,因此,樣品和制作標(biāo)準(zhǔn)曲線的石英塵應(yīng)充分研磨,使其粒度小于 5μm 者占 95%以上,方可進(jìn)行分析測(cè)定。3、灰化溫度對(duì)煤礦塵樣品定量結(jié)果有一定影響,若煤塵樣品中含有大量高嶺土成分,在高于 600℃灰化時(shí)發(fā)生分解,于 800cm-1 附近產(chǎn)生干擾,如灰化溫度小于 600℃時(shí),可消除此干擾帶。4、在粉塵中若含有粘土、云母、閃石、長(zhǎng)石等成分時(shí),可在 800cm-1 附近產(chǎn)生干擾,則可用 694cm-1 的標(biāo)準(zhǔn)曲線進(jìn)行定量分析。5、為降低測(cè)量的隨機(jī)誤差,實(shí)驗(yàn)室溫度應(yīng)控制在 18℃~24℃,相對(duì)濕度小于 50%為宜。制備石英標(biāo)準(zhǔn)曲線樣品的分析條件應(yīng)與被測(cè)樣品的條件完全一致,以減少誤差。
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- 2023-06-16 10:55:37成都客戶體驗(yàn)中心開放日粉塵中游高二氧化硅會(huì)量測(cè)定高級(jí)培訓(xùn)班
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- 2022-04-24 16:42:23納米多孔氧化鋁
- 本品為化學(xué)法合成的白色球形粉末,無(wú)重金屬、 無(wú)放射性元素。物理指標(biāo)①晶相 γ相②AI2O3含量 ≥99.9③ 介孔 0.38④ 原晶粒度 50-60納米化學(xué)指標(biāo)①本品用于噴墨打印紙的涂層, 為紙張?zhí)岣吖鉂?。②増加涂料的耐磨性,具有助流?提高上粉率、防結(jié)塊等特點(diǎn)應(yīng)用范圍①導(dǎo)熱硅膠②電子灌封膠③粉末涂料公眾號(hào)搜索粉體圈,聯(lián)系報(bào)價(jià)。聯(lián)系方式:400-869-9320轉(zhuǎn)8990更多信息進(jìn)入店鋪查看:https://www.360powder.com/shop.html?shop_id=1727
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- 2023-04-20 09:37:22BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta
- BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀——背向 + 90°散射粒度 + Zeta 電位三合一型儀 器 簡(jiǎn) 介BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及Zeta電位分析儀是BeNano 90+BeNano 180+BeNano Zeta 三合一的頂 級(jí)光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)。該系統(tǒng)中集成了背向 +90°動(dòng)態(tài)光散射 DLS、電泳光散射 ELS和靜態(tài)光散射技術(shù) SLS,可以準(zhǔn)確的檢測(cè)顆粒的粒徑及粒徑分布,Zeta 電位,高分子和蛋白體系的分子量信息等參數(shù),可廣泛的應(yīng)用于化學(xué)、化工、生物、制藥、食品、材料等領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究和質(zhì)量分析與控制。指標(biāo)與性能Index&performance粒徑測(cè)試原理:動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)粒徑范圍:0.3 nm – 15 μm樣品量:3 μL - 1 mL檢測(cè)角度:173°+90°+12°分析算法:Cumulants、通用模式、CONTIN、NNLSZeta電位測(cè)試原理:相位分析光散射技術(shù)檢測(cè)角度:12°Zeta范圍:無(wú)實(shí)際限制電泳遷移率范圍:> ±20 μ.cm/V.s電導(dǎo)率范圍:0 - 260 mS/cmZeta測(cè)試粒徑范圍:2 nm – 110 μm分子量測(cè)試分子量范圍:342 Da – 2 x 107 Da微流變測(cè)試頻率范圍:0.2 – 1.3 x 107 rad/s測(cè)試能力:均方位移、復(fù)數(shù)模量、彈性模量、粘性模量、蠕變?nèi)崃空扯群驼酃饴蕼y(cè)試粘度范圍:0.01 cp – 100 cp折光率范圍:1.3-1.6趨勢(shì)測(cè)試模式:時(shí)間和溫度系統(tǒng)參數(shù)溫控范圍:-15° C - 110° C+/- 0.1°C冷凝控制:干燥空氣或者氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)激光光源:50 mW 高性能固體激光器, 671 nm相關(guān)器:最快25 ns采樣,最多 4000 通道,1011 動(dòng)態(tài)線性范圍檢測(cè)器:APD (高性能雪崩光電二極管)光強(qiáng)控制:0.0001% - 100%,手動(dòng)或自動(dòng)軟件中文和英文符合21CFR Part 11原理圖儀器檢測(cè)檢測(cè)參數(shù)顆粒體系的光強(qiáng)、體積、面積和數(shù)量分布顆粒體系的 Zeta 電位及其分布分子量分布系數(shù) PD.I擴(kuò)散系數(shù) D流體力學(xué)直徑 D H顆粒間相互作用力因子 k D溶液粘度檢測(cè)技術(shù)動(dòng)態(tài)光散射電泳光散射靜態(tài)光散射
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