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2025-01-21 09:31:43納米沉積印刷: 納米沉積印刷是一種高精度、高效率的納米制造技術(shù)，通過將納米材料精確沉積到基材表面，形成具有特定結(jié)構(gòu)和功能的納米圖案。該技術(shù)結(jié)合了印刷技術(shù)的高通量與納米技術(shù)的高精度，適用于多種材料體系，廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、生物傳感等領(lǐng)域。通過調(diào)控沉積參數(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)納米結(jié)構(gòu)尺寸、形狀和分布的精確控制。

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復(fù)納科技攜 VSParticle 納米印刷沉積系統(tǒng)來襲，新品發(fā)布會(huì)圓滿成功

 復(fù)納科學(xué)儀器（上海）有限公司 201
2023-12-28

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納米沉積印刷問答

2023-08-09 15:13:49原子層沉積ALD在納米材料方面的應(yīng)用: 在微納集成器件進(jìn)一步微型化和集成化的發(fā)展趨勢(shì)下，現(xiàn)有器件特征尺寸已縮小至深亞微米和納米量級(jí)，以突破常規(guī)尺寸的極限實(shí)現(xiàn)超微型化和高功能密度化，成為近些年來的熱點(diǎn)研究領(lǐng)域。微納結(jié)構(gòu)器件不僅對(duì)功能薄膜本身的厚度和質(zhì)量要求嚴(yán)格，而且對(duì)功能薄膜/基底之間的界面質(zhì)量也十分敏感，尤其是隨著復(fù)雜高深寬比和多孔納米結(jié)構(gòu)在微納器件中的應(yīng)用，傳統(tǒng)的薄膜制備工藝越來越難以滿足其發(fā)展需求。ALD 技術(shù)沉積參數(shù)高度可控，可在各種尺寸的復(fù)雜三維微納結(jié)構(gòu)基底上，實(shí)現(xiàn)原子級(jí)精度的薄膜形成和生長(zhǎng)，可制備出高均勻性、高精度、高保形的納米級(jí)薄膜。微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)是尺寸在幾毫米乃至更小的高科技裝置，其內(nèi)部結(jié)構(gòu)一般在微米甚至納米量級(jí)，是一個(gè)獨(dú)立的智能系統(tǒng)，主要由傳感器、動(dòng)作器(執(zhí)行器)和微能源三大部分組成，廣泛應(yīng)用于智能系統(tǒng)、消費(fèi)電子、可穿戴設(shè)備、智能家居、系統(tǒng)生物技術(shù)的合成生物學(xué)與微流控技術(shù)等領(lǐng)域。MEMS的構(gòu)造過程需要精細(xì)的微納加工技術(shù)，而工作過程伴隨著器件復(fù)雜的三維運(yùn)動(dòng)，其中ALD技術(shù)均可發(fā)揮重要作用，ALD具有高致密性以及高縱寬比結(jié)構(gòu)均勻性，為MEMS機(jī)械耐磨損層、抗腐蝕層、介電層、憎水涂層、生物相容性涂層、刻蝕掩膜層等提供優(yōu)質(zhì)解決方案。磁隧道結(jié)(MTJ)是由釘扎層、絕緣介質(zhì)層和自由由層的多層堆垛組成。在電場(chǎng)作用下，電子會(huì)隧穿絕緣層勢(shì)壘而垂直穿過器件，電子隧穿的程度依賴于釘扎層和自由層的相對(duì)磁化方向。隨著MTJ尺寸的不斷縮小以及芯片集成度的不斷提高，MTJ制備過程中的薄膜生長(zhǎng)工藝偏差和刻蝕工藝偏差的存在，將會(huì)導(dǎo)致MTJ狀態(tài)切換變得不穩(wěn)定，并降低MTJ的讀取甚至?xí)?yán)重影響NV-FA電路中寫入功能和邏輯運(yùn)算結(jié)果輸出功能的正確性。ALD技術(shù)沉積參數(shù)高度可控，可通過精準(zhǔn)控制循環(huán)數(shù)來控制MTJ所需達(dá)到的各項(xiàng)參數(shù)，是適用于MTJ制造的最佳工藝方案之一。生物物理學(xué)微流體器件可由單個(gè)納米孔和電極組成，也可以由許多納米孔陣列組成，可同時(shí)篩選、引導(dǎo)、定位、測(cè)量不同尺度的生物大分子，在生物物理學(xué)和生物技術(shù)領(lǐng)域中有著廣泛的應(yīng)用前景。生物納米孔逐漸受到了人們的普遍重視引起了人們的廣泛興趣，尤其是納米孔作為生物聚合物的檢測(cè)器件，為一些生物化學(xué)現(xiàn)象的基礎(chǔ)研究提供了研究的平臺(tái)。然而生物納米孔所固有的一些缺陷也很明顯，如生物相容性差及微孔的尺寸不可更改等；針對(duì)于此，ALD技術(shù)可通過表面修飾，改善納米孔的生物相容性，同時(shí)提升抗菌抑菌和促進(jìn)細(xì)胞合成。圖一: ALD Al2O3(僅~10 nm)可作為MEMS齒輪高硬度潤(rùn)滑膜圖二：ALD應(yīng)用于低溫MEMS器件構(gòu)造圖三：MRAM磁隧道結(jié)（MTJ）存儲(chǔ)元件圖四：一種具有納米蛛網(wǎng)結(jié)構(gòu)的細(xì)菌纖維素膜

2022-04-24 16:42:23納米多孔氧化鋁: 本品為化學(xué)法合成的白色球形粉末，無重金屬、無放射性元素。物理指標(biāo)①晶相 γ相②AI2O3含量 ≥99.9③ 介孔 0.38④ 原晶粒度 50-60納米化學(xué)指標(biāo)①本品用于噴墨打印紙的涂層，為紙張?zhí)岣吖鉂?。②増加涂料的耐磨性，具有助流?提高上粉率、防結(jié)塊等特點(diǎn)應(yīng)用范圍①導(dǎo)熱硅膠②電子灌封膠③粉末涂料公眾號(hào)搜索粉體圈，聯(lián)系報(bào)價(jià)。聯(lián)系方式：400-869-9320轉(zhuǎn)8990更多信息進(jìn)入店鋪查看：https://www.360powder.com/shop.html?shop_id=1727

2023-04-20 09:37:22BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta: BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀——背向 + 90°散射粒度 + Zeta 電位三合一型儀器簡(jiǎn) 介BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及Zeta電位分析儀是BeNano 90+BeNano 180+BeNano Zeta 三合一的頂級(jí)光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)。該系統(tǒng)中集成了背向 +90°動(dòng)態(tài)光散射 DLS、電泳光散射 ELS和靜態(tài)光散射技術(shù) SLS，可以準(zhǔn)確的檢測(cè)顆粒的粒徑及粒徑分布，Zeta 電位，高分子和蛋白體系的分子量信息等參數(shù)，可廣泛的應(yīng)用于化學(xué)、化工、生物、制藥、食品、材料等領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究和質(zhì)量分析與控制。指標(biāo)與性能Index＆performance粒徑測(cè)試原理：動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)粒徑范圍：0.3 nm – 15 μm樣品量：3 μL - 1 mL檢測(cè)角度：173°+90°+12°分析算法：Cumulants、通用模式、CONTIN、NNLSZeta電位測(cè)試原理：相位分析光散射技術(shù)檢測(cè)角度：12°Zeta范圍：無實(shí)際限制電泳遷移率范圍：> ±20 μ.cm/V.s電導(dǎo)率范圍：0 - 260 mS/cmZeta測(cè)試粒徑范圍：2 nm – 110 μm分子量測(cè)試分子量范圍：342 Da – 2 x 107 Da微流變測(cè)試頻率范圍：0.2 – 1.3 x 107 rad/s測(cè)試能力：均方位移、復(fù)數(shù)模量、彈性模量、粘性模量、蠕變?nèi)崃空扯群驼酃饴蕼y(cè)試粘度范圍：0.01 cp – 100 cp折光率范圍：1.3-1.6趨勢(shì)測(cè)試模式：時(shí)間和溫度系統(tǒng)參數(shù)溫控范圍：-15° C - 110° C+/- 0.1°C冷凝控制：干燥空氣或者氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)激光光源：50 mW 高性能固體激光器， 671 nm相關(guān)器：最快25 ns采樣，最多 4000 通道，1011 動(dòng)態(tài)線性范圍檢測(cè)器：APD （高性能雪崩光電二極管）光強(qiáng)控制：0.0001% - 100%，手動(dòng)或自動(dòng)軟件中文和英文符合21CFR Part 11原理圖儀器檢測(cè)檢測(cè)參數(shù)顆粒體系的光強(qiáng)、體積、面積和數(shù)量分布顆粒體系的 Zeta 電位及其分布分子量分布系數(shù) PD.I擴(kuò)散系數(shù) D流體力學(xué)直徑 D H顆粒間相互作用力因子 k D溶液粘度檢測(cè)技術(shù)動(dòng)態(tài)光散射電泳光散射靜態(tài)光散射

2021-10-19 16:33:00凹版印刷圓盤剝離試驗(yàn)機(jī): 凹版印刷圓盤剝離試驗(yàn)機(jī)適用于凹版印刷工藝生產(chǎn)的塑料薄膜和玻璃紙裝潢等印刷品進(jìn)行印刷墨層結(jié)合牢度的測(cè)試試驗(yàn)。亦用于真空鍍膜、表面涂布、復(fù)合等相關(guān)工藝形成的面層之附著狀態(tài)的測(cè)試試驗(yàn)。圓盤剝離試驗(yàn)機(jī)技術(shù)特征·微電腦控制，操作簡(jiǎn)便·試驗(yàn)結(jié)束自動(dòng)報(bào)警提示圓盤剝離試驗(yàn)機(jī)技術(shù)參數(shù)盤間壓力 100N剝離速度 0.8m/s 外形尺寸 290 mm×240 mm×390 mm(長(zhǎng)寬高) 重量 20kg 工作溫度 15℃-50℃ 相對(duì)濕度高80%,無凝露工作電源 220V 50Hz 參照標(biāo)準(zhǔn)GB 7707 圓盤剝離試驗(yàn)機(jī)產(chǎn)品配置主機(jī)、電源線凹版印刷圓盤剝離試驗(yàn)機(jī)

2023-04-25 09:25:28Nicomp? 在線粒度儀用于納米藥物粒度監(jiān)測(cè): 在過去的幾十年中，納米醫(yī)學(xué)研究發(fā)展迅速，大部分重點(diǎn)放在藥物輸送上。納米顆粒具有降低毒性和副作用等優(yōu)點(diǎn)，控制這些納米粒子的大小至關(guān)重要。Nicomp系列的大部分粒度測(cè)量是在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行的，但現(xiàn)在已經(jīng)有在生產(chǎn)線中進(jìn)行粒度測(cè)量的產(chǎn)品——Nicomp? 在線粒度儀。本應(yīng)用說明介紹了 Bind Therapeutics（輝瑞于 2016 年收購(gòu)的資產(chǎn)）開展的開創(chuàng)性工作，將Nicomp? 在線動(dòng)態(tài)光散射測(cè)量納入其 Accurins? 納米粒子候選藥物的制造過程。引言BIND Therapeutics, Inc. 是一家生物制藥公司，開發(fā)稱為 Accurins（見圖 1）的靶向納米粒子技術(shù)，用于治療癌癥和其他具有大量未滿足醫(yī)療需求的嚴(yán)重疾病。通過結(jié)合控釋聚合物系統(tǒng)、靶向和遞送大量治療藥物的能力，Bind 正在為一類新型靶向治療開發(fā)一個(gè)納米技術(shù)支持的平臺(tái)。圖 1. BIND Accurins 技術(shù)Accurins 通常是 80-120 nm 的顆粒，由具有活性藥物成分 (API) 核心的聚丙交酯聚乙二醇 (PLA-PEG) 共聚物組成。共聚物的 PLA 部分為包封疏水性 API 提供了一個(gè)可生物降解的、相對(duì)疏水的核心。聚合物的親水性聚乙二醇酯部分期望覆蓋在顆粒的表面，使它們能夠逃避網(wǎng)狀內(nèi)皮系統(tǒng)(RES)吞噬細(xì)胞的調(diào)理和從血液循環(huán)中移除。80-120 nm 的大小非常適合通過滲漏的脈管系統(tǒng)（增強(qiáng)的通透性和滯留性，或 EPR 效應(yīng)）積聚在腫瘤部位，同時(shí)避免被脾臟過濾。80-120 nm也是適合所需理化特性的尺寸，可保持高載藥量、控制釋放和加工能力，包括最終無菌過濾和凍干的能力。Accurins 是通過納米乳液工藝制造的，該工藝使用高壓均化來剪切分散在不混溶水相中的有機(jī)液滴?？刂埔旱纬叽鐚?duì)于確定藥品的最終尺寸分布十分重要。許多因素會(huì)影響液滴大小，包括原材料屬性、顆粒配方、均質(zhì)機(jī)機(jī)械性能、水相組成和工藝參數(shù)。該批次開始生產(chǎn)后，均質(zhì)器壓力是最容易控制來調(diào)節(jié)尺寸的過程。BIND 014 是一種 Accurin，開發(fā)用于將多西紫杉醇遞送至實(shí)體瘤和癌細(xì)胞，表達(dá)前列腺特異性膜抗原 (PSMA)。這里描述的所有實(shí)驗(yàn)都是針對(duì) BIND-014 Accurins。在線動(dòng)態(tài)光散射動(dòng)態(tài)光散射 (DLS) 可用于測(cè)量亞微米顆粒尺寸，DLS 的工作原理是小顆粒通過布朗運(yùn)動(dòng)在流體中隨機(jī)移動(dòng)。系統(tǒng)檢測(cè)到布朗運(yùn)動(dòng)引起的平移擴(kuò)散，然后用于求解 Stokes-Einstein 方程以確定粒子大?。ǚ匠?1）。其中： D = 擴(kuò)散系數(shù) kB = 波爾茲曼常數(shù) η = 粘度 R = 粒子半徑Nicomp DLS 已在實(shí)驗(yàn)室中成功使用數(shù)十年，Nicomp?在線粒度儀也已有了實(shí)際應(yīng)用。Entegris （Nicomp粒度儀生產(chǎn)商）現(xiàn)在已在客戶制造業(yè)務(wù)中安裝了多個(gè)系統(tǒng)，用于在生產(chǎn)運(yùn)行期間跟蹤顆粒大小。在線系統(tǒng)從過程中取出樣品，稀釋樣品以避免多重散射效應(yīng)，測(cè)量樣品，然后重復(fù)該過程（見圖 2）。完整的測(cè)量周期約為 2 分鐘，為監(jiān)控制造操作的工藝工程師提供連續(xù)的粒度信息。圖 2. DLS 系統(tǒng)簡(jiǎn)圖，帶自動(dòng)稀釋實(shí)驗(yàn)細(xì)節(jié)Entegris Nicomp?在線 DLS 系統(tǒng)安裝在高壓均質(zhì)器的下游，其設(shè)置使其能夠每約 2 分鐘從工藝流中獲取乳液樣品。設(shè)置 DLS 的射流系統(tǒng)，使乳液樣品以與下游 Accurin 過程類似的方式在水中稀釋，并在流通池中自動(dòng)稀釋至產(chǎn)生理想光散射強(qiáng)度（~300 kCt/秒）的濃度。此處描述了三個(gè)批次：一個(gè)批次由 11 個(gè)過程樣品和可變壓力制成，在整個(gè)均質(zhì)化過程中，以建立壓力大小相關(guān)性。在工藝條件略有不同的情況下生產(chǎn)的批次導(dǎo)致前兩個(gè)工藝樣品的尺寸略小于目標(biāo)尺寸。調(diào)整壓力后，尺寸恢復(fù)到最后四個(gè)樣品的目標(biāo)值。臨床規(guī)模開發(fā)批次在以約 5 分鐘的間隔采集的八個(gè)樣本期間展示穩(wěn)定的尺寸讀數(shù)，確認(rèn)壓力設(shè)定點(diǎn)是合適的。結(jié)果第一個(gè)實(shí)驗(yàn)（圖 3 和圖 4）的結(jié)果顯示了我們預(yù)期的壓力與尺寸的關(guān)系。從趨勢(shì)線曲線擬合可以看出，尺寸對(duì)壓力的響應(yīng)為每 1,000 psig 約 9 nm。圖 3. 均質(zhì)機(jī)壓力與粒徑圖 4. 壓力與平均尺寸的相關(guān)性第二個(gè)實(shí)驗(yàn)的初始尺寸讀數(shù)低于目標(biāo)尺寸約 5–7 nm，因此進(jìn)行了壓力調(diào)整（降低 1,000 psig）。在稍后的時(shí)間點(diǎn)，平均粒徑按預(yù)期增加了 ~5–10 nm。圖 5. 均質(zhì)器壓力與粒徑最后一組數(shù)據(jù)來自使用在線分級(jí)器的第一個(gè)臨床規(guī)模實(shí)驗(yàn)。盡管 BIND 有程序在尺寸超出我們的目標(biāo)范圍時(shí)根據(jù)需要調(diào)整壓力，但沒有必要這樣做。所有八次測(cè)量都非常接近 100 nm 目標(biāo)。圖 6. 批處理運(yùn)行期間的平均大小結(jié)論Nicomp? 在線 DLS 系統(tǒng)被集成到 Accurin 制造過程中，用于確定最佳條件并確保在整個(gè)批次中粒徑在所需規(guī)格范圍內(nèi)。進(jìn)行在線測(cè)量可減少進(jìn)行工藝更改與獲取評(píng)估更改是否產(chǎn)生預(yù)期效果所需的粒度數(shù)據(jù)之間的滯后時(shí)間。此外，與將樣品帶到實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行離線批量分析相比，在線分析可以更好地監(jiān)控產(chǎn)品質(zhì)量。在線 DLS 是一種有價(jià)值的過程分析技術(shù)。