增材制造的方法,如納米打印可以大大簡化高比表面積的納米多孔薄膜的制備工藝。這種薄膜材料的應用很多,包括電催化、化學、光學或生物傳感以及電池和微電子產品制造等。
因此,VSParticle 提出了一種基于氣溶膠的直寫方法。VSP-P1 納米印刷沉積系統(tǒng)能夠實現具有獨特性能的無機納米結構材料的打印直寫。
產品展示:
VSParticle 納米印刷沉積系統(tǒng)
VSParticle 納米粒子發(fā)生器
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增材制造的方法,如納米打印可以大大簡化高比表面積的納米多孔薄膜的制備工藝。這種薄膜材料的應用很多,包括電催化、化學、光學或生物傳感以及電池和微電子產品制造等。
因此,VSParticle 提出了一種基于氣溶膠的直寫方法。VSP-P1 納米印刷沉積系統(tǒng)能夠實現具有獨特性能的無機納米結構材料的打印直寫。
產品展示:
可內置1-2臺VSP-G1納米粒子發(fā)生器作為材料源;
可搭配VSP-S1粒徑篩選沉積模塊進行固定粒徑顆粒的打印
顆粒完全由VSP-G1產生,不添加任何墨水組分;
顆粒由物理法產生,不含任何化學添加
快速沉積合金或多相納米顆?;旌衔?/p>
氣溶膠典型顆粒初始粒徑<20 nm
產品功能:
控制納米沉積層厚度
使用 VSP-P1 可以實現從稀疏團聚體到厚達幾微米的連續(xù)層的不同層厚度。影響層厚的參數有:
噴嘴到基材的距離 、燒蝕功率 、印刷速度

02 圖案化打印
通過VSP-G1火花燒蝕產生納米粒子后,使用粗真空加速產生的氣溶膠流通過噴嘴。因此,沖擊印刷到基材上的驅動力是 VSP-G1 系統(tǒng)和沉積室之間的壓力梯度。通過 XYZ 平臺控制、顯微鏡相機模塊和直觀的用戶界面,可以打印特定圖案。您可以通過用戶界面運行腳本來確定所需的打印模式。使用不同的或修改的腳本,復雜的圖案和多個樣品的系列生產。

03 納米多孔涂層沉積
與傳統(tǒng)的薄膜沉積技術不同,VSP-P1的氣溶膠直寫技術可以在選定的區(qū)域沉積納米涂層,并利用精細的噴頭移動,實現厚度的控制 ,這很適合非半導體類的納米薄膜應用。

上傳人:復納科學儀器(上海)有限公司
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GAIA 超分辨率點重掃共聚焦顯微鏡是 Confocal.nl 推出的旗艦超分辨率共聚焦模塊,得益于專利的 REscan(重掃描技術),GAIA 超分辨率點重掃共聚焦顯微鏡僅需幾納瓦的功率即可實現超越衍射極限的深度成像。 1. 超分辨率成像:得益于專利的 REscan 技術,GAIA 超分辨率的實時分辨率可達 170 nm,解卷積后可達 120 nm。 2. 可變針孔:搭配 6 個電動可變針孔,使得設備在各種物鏡下均可達到完美共焦 3. 成像溫和:僅需幾納瓦的功率即可實現超越衍射極限的深度成像,成像溫和,適合長時間活細胞超分辨率成像。
1. 深層成像:無針孔串擾現象,更適合于深度成像,最高可達 900 μm 2. 超快成像:采用狹縫針孔的線性掃描,擁有媲美轉盤式共聚焦的掃描速度(>100 fps @ 3Kx3K) 3. 超大視場:遠高于傳統(tǒng)共聚焦的視場大小,最大支持 FN29 4. 可變針孔:唯一擁有 6 個電動可變針孔的高速共聚焦系統(tǒng),針孔在各種物鏡下均可達到完美共焦 5. 低光毒性:更低的光毒性和光損傷,適合長時間的活體成像
NL5+ 深層高速線重掃共聚焦顯微鏡是 Confocal NL 推出的首款線重掃共聚焦模塊,采用狹縫針孔和 REscan(重掃描技術),擁有媲美轉盤式共聚焦的掃描速度,且圖片質量更好,成像深度更深,適用于高速、深層的 3D 成像,并顯著降低光毒性和光漂白。 1. 深層成像:無針孔串擾現象,更適合于深度成像 2. 超快成像:75 fps@2048x512 px,55 fps@2048x2048 px 3. 低光毒性:更低的光毒性和光損傷,適合長時間的活體成像
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