離子濺射儀為一種有著緊湊結(jié)構的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔，之后試樣復原，再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應氣體。

離子濺射儀濺射技術

為了使樣品表面成像或者圖像質(zhì)量得到改善，在電子顯微鏡領域內(nèi)，離子濺射儀通常需要對樣品進行表面鍍膜。將一層導電的金屬薄膜覆于樣品表面能夠使荷電反應得以消除，使電子束對樣品表面的熱量損傷得以降低，能夠使SEM對樣品進行形貌觀察所需要的二次電子信號量得以提高。

離子濺射儀系統(tǒng)特點：

1、過流、真空保護被內(nèi)置，當濺射電流過高或真空較差時自動中斷，非常的可靠和安全。

2、微調(diào)閥的靈敏度相當?shù)母?，能夠?qū)怏w流量進行精確地控制。

3、翻蓋式設計為靶材組件所采取，能夠簡潔和方便地進行操作。

4、用戶使用向?qū)Ш驼f明書被內(nèi)置，用戶操作起來非常方便。

5、微處理器為離子濺射儀所采用來進行控制，有著非常高的自動化程度，能夠精確地進行控制，操作起來也比較容易。

6、5英寸彩色觸摸屏，能夠?qū)φ婵斩?、濺射電流、設定濺射時間、剩余濺射時間、膜厚估算等進行實時顯示。

7、能夠?qū)稹y、銅、鉑等常用靶材進行濺射。

8、能夠?qū)υO備運行時間、靶材使用時間進行實時顯示，使得對設備情況的了解較為方便。