化學(xué)氣相沉積為一種化工技術(shù)，在襯底表面上含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)使得薄膜生成為該技術(shù)的主要方法。近幾十年化學(xué)氣相淀積這種對無機(jī)材料進(jìn)行制備的新技術(shù)發(fā)展了起來?；瘜W(xué)氣相淀積法已經(jīng)在各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無機(jī)薄膜材料的淀積，新晶體的研制以及物質(zhì)的提純方便得到了非常廣泛地應(yīng)用。這些材料既能夠是碳化物、氮化物、硫化物、氧化物也能夠?yàn)镮II-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素間化合物，并且能夠利用氣相摻雜的淀積過程來對它們的物理功能進(jìn)行精確地控制?；瘜W(xué)氣相淀積已經(jīng)變成無機(jī)合成化學(xué)的一個(gè)新領(lǐng)域。

氣相沉積系統(tǒng)特點(diǎn)

1、能夠?qū)ν繉拥拿芏群屯繉蛹兌冗M(jìn)行控制

2、較好的繞鍍件，能夠在復(fù)雜形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜。對于各種復(fù)雜形狀的工件的涂覆相當(dāng)合適。因?yàn)樗睦@鍍有較好的性能，因此能夠?qū)в胁?、溝、孔，甚至是盲孔的工件進(jìn)行涂覆。

3、柱狀晶體結(jié)構(gòu)一般為沉積層所具有，不耐彎曲，然而能夠利用各種技術(shù)氣相擾動(dòng)化學(xué)反應(yīng)來對其結(jié)構(gòu)進(jìn)行改善。

4、能夠利用各種反應(yīng)使多種金屬、合金、陶瓷和化合物涂層形成。

5、在中溫或高溫下，利用氣態(tài)的初始化合物之間的氣相化學(xué)反應(yīng)來使得固體物質(zhì)形成在基體上沉積。

6、能夠在常壓或者真空條件下(負(fù)壓“進(jìn)行沉積，真空沉積膜層一般具有較好的質(zhì)量）。

7、對等離子和激光輔助技術(shù)加以采用能夠使化學(xué)反應(yīng)得到顯著地促進(jìn)，能夠在較低的溫度下進(jìn)行沉積。

8、隨氣相組成的改變，涂層的化學(xué)成分能夠發(fā)生變化，從而使梯度沉積物獲得，或者使混合鍍層獲得。