儀器網(wǎng)>知識(shí)百科>氣相沉積系統(tǒng) 更新時(shí)間：2026-04-14 10:59:57

氣相沉積系統(tǒng)百科

導(dǎo)讀: 氣相沉積系統(tǒng)是一種用于數(shù)學(xué)領(lǐng)域的分析儀器。氣相沉積技術(shù)是利用氣相中發(fā)生的物理、化學(xué)過程，改變工件表面成分，在表面形成具有特殊性能(例如超硬耐磨層或具有特殊的光學(xué)、電學(xué)性能)的金屬或化合物涂層的新技術(shù)。

目錄: 1氣相沉積系統(tǒng)原理 2氣相沉積系統(tǒng)特點(diǎn) 3氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)類型 4氣相沉積系統(tǒng)應(yīng)用 5氣相沉積系統(tǒng)分類 6氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)

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1氣相沉積系統(tǒng)原理

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氣相沉積技術(shù)概述: 氣相沉積技術(shù)是對(duì)氣相中發(fā)生的物理、化學(xué)過程加以利用，對(duì)工件表面成分進(jìn)行改變，使得具有特殊性能(例如超硬耐磨層或具有特殊的光學(xué)、電學(xué)性能)的金屬或化合物涂層在表面形成的新技術(shù)。

2氣相沉積系統(tǒng)特點(diǎn)

百科

氣相沉積特點(diǎn): 化學(xué)氣相沉積為一種化工技術(shù)，在襯底表面上含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)使得薄膜生成為該技術(shù)的主要方法。近幾十年化學(xué)氣相淀積這種對(duì)無機(jī)材料進(jìn)行制備的新技術(shù)發(fā)展了起來。

氣相沉積系統(tǒng)特點(diǎn)

3氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)類型

百科

氣相沉積技術(shù)相關(guān)爭(zhēng)論: 氣相沉積技術(shù)是對(duì)氣相中發(fā)生的物理、化學(xué)過程加以利用，對(duì)工件表面成分進(jìn)行改變，使得具有特殊性能(例如超硬耐磨層或具有特殊的光學(xué)、電學(xué)性能)的金屬或化合物涂層在表面形成的新技術(shù)。

氣相沉積技術(shù)類型

4氣相沉積系統(tǒng)應(yīng)用

百科

化學(xué)氣相沉積應(yīng)用: 化學(xué)氣相沉積為一種化工技術(shù)，在襯底表面上含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)使得薄膜生成為該技術(shù)的主要方法。近幾十年化學(xué)氣相淀積這種對(duì)無機(jī)材料進(jìn)行制備的新技術(shù)發(fā)展了起來。

5氣相沉積系統(tǒng)分類

百科

氣相沉積技術(shù)分類: 氣相沉積技術(shù)是對(duì)氣相中發(fā)生的物理、化學(xué)過程加以利用，對(duì)工件表面成分進(jìn)行改變，使得具有特殊性能(例如超硬耐磨層或具有特殊的光學(xué)、電學(xué)性能)的金屬或化合物涂層在表面形成的新技術(shù)。

6氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)

百科

化學(xué)氣相沉積技術(shù)指標(biāo)和應(yīng)用: 化學(xué)氣相沉積為一種化工技術(shù)，在襯底表面上含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)使得薄膜生成為該技術(shù)的主要方法。近幾十年化學(xué)氣相淀積這種對(duì)無機(jī)材料進(jìn)行制備的新技術(shù)發(fā)展了起來。

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NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可達(dá)12” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)MFC.帶有*氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋z廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。; PECVD鍍膜設(shè)備 NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 那諾-馬斯特
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