透射電鏡，全稱透射電子顯微鏡，是用于觀察組織細胞超微結(jié)構(gòu)的大型精密電子儀器，已廣泛應(yīng)用于醫(yī)學(xué)、生物學(xué)等各個研究領(lǐng)域，主要性能指標(biāo)有分辨率，放大倍數(shù)，加速電壓等。

透射電鏡是什么

　　透射電鏡基本構(gòu)造與光學(xué)顯微鏡相似，主要由光源、物鏡和投影鏡三部分組成，只不過用電子束代替光束，用磁透鏡代替玻璃透鏡。光源由電子槍和一或兩個聚光鏡組成，其作用是得到具有確定能量的高亮度的聚焦電子束。

　　透鏡的成像作用可以分為兩個過程：diyi個過程是平行電子束遭到物的散射作用而分裂成為各級衍射譜，即由物變換到衍射的過程;第二個過程是各級衍射譜經(jīng)過干涉重新在像平面上會聚成諸像點，即由衍射重新變換到物(像是放大了的物)的過程。晶體對于電子束就是一個三維光柵。

透射電鏡的分辨率

　　大孔徑角的磁透鏡，100KV時，分辨率可達0.005nm。實際透射電鏡分辨率只能達到0.1-0.2nm，這是由于透鏡的固有像差造成的。提高加速電壓可以提高分辨率。已有300KV以上的商品高壓(或超高壓)電鏡，高壓不僅提高了分辨率，而且允許樣品有較大的厚度，推遲了樣品受電子束損傷的時間，因而對高分子的研究很有用。但高加速電壓意味著大的物鏡，500KV時物鏡直徑45-50cm。對高分子材料的研究所適合的加速電壓，Z好在250KV左右。

　　1、點分辨率

　　透射電鏡剛能分清的兩個獨立顆粒的間隙或ZX距離。

　　測定方法：Pt或貴金屬蒸發(fā)法。將Pt或貴金屬真空加熱蒸發(fā)到支持膜(火棉膠、碳膜)上，可得到粒徑0.5-1nm、間距0.2-1nm的粒子。高倍下拍攝粒子像，再光學(xué)放大5倍，從照片上找粒子間Z小間距，除以總放大倍數(shù)，即為相應(yīng)的點分辨率。

　　2、晶格分辨率

　　當(dāng)電子束射入樣品后，通過樣品的透射束和衍射束間存在位相差。由于透射和衍射束間的位相不同，它們間通過動力學(xué)干涉在相平面上形成能反映晶面間距大小和晶面方向的條紋像，即晶格條紋像。晶格分辨率與點分辨率是不同的，點分辨率就是實際分辨率，晶格分辨率的晶格條紋像是因位相差引起的干涉條紋，實際是晶面間距的比例圖像。

　　測定方法：利用外延生長方法制得的定向單晶薄膜做標(biāo)樣，拍攝晶格像。測定晶格分辨率常用的晶體見下表。根據(jù)透射電鏡分辨率的高低選擇晶面間距不同的樣品做標(biāo)樣。

透射電鏡的放大倍數(shù)

　　透射電鏡Zda的放大倍數(shù)等于肉眼分辨率(約0.2mm)除以透射電鏡的分辨率0.2nm，因而在10^6數(shù)量級以上。

　　透射電鏡的放大倍數(shù)隨樣品平面高度、加速電壓、透鏡電流而變化。TEM在使用過程中，各元件的電磁參數(shù)會發(fā)生少量變化，從而影響放大倍數(shù)的精度。因此，必須定期標(biāo)定。

　　標(biāo)定方法：用衍射光柵復(fù)型為標(biāo)樣，在一定條件下(加速電壓、透鏡電流)，透射電鏡拍攝標(biāo)樣的放大像，然后從底片上測量光柵條紋像間距，并與實際光柵條紋間距相比即為該條件下的放大倍數(shù)。例如，衍射光柵2000條/mm，條紋間距0.0005mm。

　　利用光柵復(fù)型上噴鍍碳微粒法。碳微粒間距較光柵微粒間距小，用光柵間距標(biāo)定碳粒間距，就可以擴大標(biāo)定范圍，適用于5000-50000倍的情況。

　　晶格條紋像法。利用測定晶格分辨率的樣品為標(biāo)樣，拍攝條紋像，測量條紋像間距，再計算條紋像間距與實際晶面間距的比值，即為放大倍數(shù)。適用于高倍，如10萬倍以上的情況。

透射電鏡的襯度

　?、贅悠吩胶?，圖像越暗;

　?、谠谛驍?shù)越大，圖像越暗;

　?、勖芏仍酱?，圖像越暗;

　　其中，密度的影響Z重要，因為高分子的組成中原于序數(shù)差別不大，所以樣品排列緊密程度的差別是其反差的主要來源。