磁控濺射儀為一種用于物理學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，于2015年05月25日啟用。

磁控濺射為物理氣相沉積的一種。金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料的制備通常會(huì)采用一般的濺射法，其的特點(diǎn)為有著較為簡(jiǎn)單的設(shè)備，控制起來不困難，有著較大的鍍膜面積以及有著較強(qiáng)的附著力等。在上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是使高速、低溫、低損傷得以實(shí)現(xiàn)。由于高速濺射是在低氣壓下進(jìn)行，必須要使氣體的離化率得到有效地提高。磁控濺射利用將磁場(chǎng)往靶陰極表面引入，通過磁場(chǎng)約束帶電粒子來使得等離子體密度提高進(jìn)而使得濺射率增加。

磁控濺射設(shè)備的主要用途

1、光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉合場(chǎng)非平衡磁控濺射技術(shù)已經(jīng)應(yīng)用于光學(xué)薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面。尤其是透明導(dǎo)電玻璃在平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等方面得到了非常廣泛的應(yīng)用。

2、在機(jī)械加工行業(yè)中，自從表面功能膜、超硬膜，自潤(rùn)滑薄膜的表面沉積技術(shù)出現(xiàn)以來就一直有長(zhǎng)足的發(fā)展和進(jìn)步，可以使表面硬度、復(fù)合韌性、耐磨損性和抗高溫化學(xué)穩(wěn)定性能得到非常有效的提高，從而使涂層產(chǎn)品的使用壽命得到大幅度地提高。除了在上述的領(lǐng)域大量地應(yīng)用磁控濺射，在高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面，磁控濺射所發(fā)揮的作用也至關(guān)重要。