離子束刻蝕系統(tǒng)為一種在物理學(xué)、工程與技術(shù)科學(xué)基礎(chǔ)學(xué)科、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域得到應(yīng)用的工藝試驗儀器，其啟用于2005年10月1日。

離子束刻蝕系統(tǒng)原理：

氬氣在輝光放電原理的作用下被分解為氬離子，氬離子通過陽極電場的加速物理轟擊樣品表面來使得刻蝕的作用達到。往離子源放電室充入氬氣并且使其電離使得等離子體形成，然后通過柵極引出離子呈束狀并且加速，往工作室進入一定能量的離子束，往固體表面射向?qū)腆w表面原子進行轟擊，使材料原子發(fā)生濺射，使刻蝕目的達到，屬于純物理刻蝕。

離子束刻蝕系統(tǒng)技術(shù)指標：

各種金屬以及氧化物等復(fù)雜體系的刻蝕等為離子束刻蝕系統(tǒng)的主要應(yīng)用，在物理，生物，化學(xué)，材料，電子等領(lǐng)域得到了非常廣泛的應(yīng)用。

裝片：一片6英寸，向下兼容任意規(guī)格樣品

極限真空：8.5e-5 帕（ 45分鐘從 atm 抽至 5e-4 帕 ）

基底冷卻溫度：5-25攝氏度

樣品臺旋轉(zhuǎn)：自轉(zhuǎn) 9 rpm， 傾斜 0 - 90度

離子能量：100 - 650 電子伏特

束流密度：0.2 - 0.7 毫安/平方厘米

刻蝕均勻性：±5% （ 4英寸 ）

離子束刻蝕系統(tǒng)主要用途：

物理刻蝕的方式為離子束刻蝕系統(tǒng)所采用，任何材料各向異性的刻蝕經(jīng)過電場加速的離子束能夠?qū)崿F(xiàn)，并且能夠按照傾角不同對側(cè)壁形貌進行調(diào)整與使被濺射材料的再沉積污染減少

離子束刻蝕系統(tǒng)特點

1、金屬和化合物,無機物和有機物,絕緣體和半導(dǎo)體都可以，刻蝕材料對其沒有限制。

2、刻蝕過程中能夠通過對離子束入射角的改變來對圖形輪廓進行控制。

3、有好的方向性，各向異性，有著非常高的陡直度。

4、有著較高的分辨率，能夠達到0.01微米。