全自動ICP等離子刻蝕系統(tǒng)：自動上下載片，帶ICP等離子源和偏壓樣品臺的高速刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果?？蓪崿F(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工藝，包括刻蝕III-V化合物（如GaAs，InP，GaN，InSb）、II-VI化合物、介質(zhì)材料、玻璃、石英、金屬，以及硅和硅的化合物（如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe）等。

全自動ICP等離子刻蝕系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域：

• LED

• MEMS

• 光柵

• 激光器

• 微光學(xué)

• 聲光器件

• 高頻器件/功率器件

• 量子器件

• 光子晶體

• 探測器等

標(biāo)簽：icp刻蝕等離子刻蝕機刻蝕機